-
公开(公告)号：CN110658691A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910537974.6
申请日：2019-06-20
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种耦合到用于处理极紫外辐射的腔室的装置，即极紫外辐射光源装置，其包括配置以将来自腔室的排气引导到燃烧区域中的气体入口。燃烧区域被配置以无焰地点燃排气。空气入口被配置以将空气和燃料的混合物引导到燃烧区域中。控制阀被配置以改变从燃烧区域排出的流体体积。控制器被配置以控制控制阀以防止燃烧区域内的压力超过预设压力值。
-
公开(公告)号：CN115524938A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210939995.2
申请日：2022-08-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种极紫外运输盒及释放极紫外罩幕静电的方法，极紫外(EUV)微影系统利用EUV运输盒的基底板自EUV扫描仪内的卡盘卸载EUV倍缩光罩。基底板包含顶表面及自顶表面延伸的支撑销。当倍缩光罩卸载至基底板上时，支撑销将倍缩光罩固持在距基底板的顶表面相对大的距离处。支撑销具有相对低的电阻。大距离及低电阻有助于确保在卸载期间粒子不会自基底板行进至倍缩光罩。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110653221A
公开(公告)日：2020-01-07
申请号：CN201910560150.0
申请日：2019-06-26
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种清洗极紫外(EUV)辐射源设备的方法，其中EUV辐射源设备包括用于在腔室内生成金属靶液滴的靶液滴产生器，以及干冰喷射组件。干冰喷射组件具有设置在腔室内部的喷射喷嘴及干冰支承构件。清洗方法包括以下步骤：形成包括来自干冰喷射组件的干冰支承构件的干冰颗粒及加压气流的加压干冰颗粒，接着，将加压干冰颗粒经由喷射喷嘴朝向靶液滴产生器的喷嘴处的残余材料喷出。从靶液滴产生器去除残余材料，以及收集残余材料及来自加压干冰颗粒的升华气态二氧化碳。
-
公开(公告)号：CN115524920A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202210282260.7
申请日：2022-03-21
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种倍缩光罩载体及其操作的方法，倍缩光罩载体用以快速放电倍缩光罩上的剩余电荷，以防止倍缩光罩载体中的粒子吸附至或转移至倍缩光罩。倍缩光罩载体可用以在倍缩光罩载体的内底板与倍缩光罩之间提供减小的电容。电容的减小可减小用于放电倍缩光罩上剩余电荷的电阻电容(RC)时间常数，这可提高经由倍缩光罩载体的支撑销放电剩余电荷的放电速度。放电速度的提高可降低倍缩光罩载体中的静电力将倍缩光罩载体中的粒子吸附至倍缩光罩的可能性。这可减少转移至基板的使用倍缩光罩来图案化的图案缺陷，可提高半导体装置制造品质及产率。
-
公开(公告)号：CN110653221B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201910560150.0
申请日：2019-06-26
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Abstract: 一种清洗极紫外(EUV)辐射源设备的方法，其中EUV辐射源设备包括用于在腔室内生成金属靶液滴的靶液滴产生器，以及干冰喷射组件。干冰喷射组件具有设置在腔室内部的喷射喷嘴及干冰支承构件。清洗方法包括以下步骤：形成包括来自干冰喷射组件的干冰支承构件的干冰颗粒及加压气流的加压干冰颗粒，接着，将加压干冰颗粒经由喷射喷嘴朝向靶液滴产生器的喷嘴处的残余材料喷出。从靶液滴产生器去除残余材料，以及收集残余材料及来自加压干冰颗粒的升华气态二氧化碳。
-
-
公开(公告)号：CN110658691B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201910537974.6
申请日：2019-06-20
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种耦合到用于处理极紫外辐射的腔室的装置，即极紫外辐射光源装置，其包括配置以将来自腔室的排气引导到燃烧区域中的气体入口。燃烧区域被配置以无焰地点燃排气。空气入口被配置以将空气和燃料的混合物引导到燃烧区域中。控制阀被配置以改变从燃烧区域排出的流体体积。控制器被配置以控制控制阀以防止燃烧区域内的压力超过预设压力值。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.041 seconds)
