一种双层掩膜改善钛铝腐蚀形貌的方法及器件

    公开(公告)号:CN116230527A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310120878.8

    申请日:2023-02-02

    Abstract: 本发明提供一种双层掩膜改善钛铝腐蚀形貌的方法及器件,包括:在晶圆表面依次沉积金属钛层和金属铝层,并在所述金属铝层上生长预设厚度的氧化膜;在所述金属钛层和金属铝层待腐蚀区域对应的所述氧化膜表面上旋涂光刻胶,对所述光刻胶进行光刻处理,形成具有预设形状窗口的光刻胶膜;通过所述具有预设形状窗口的光刻胶膜对所述氧化膜进行刻蚀,形成具有预设形状窗口的氧化膜;通过所述具有预设形状窗口的氧化膜和光刻胶膜对金属铝层和金属钛层依次进行腐蚀,得到具有预设形状窗口的金属钛层和金属铝层,并去除所述光刻胶膜和氧化膜,所述金属钛层和金属铝层的窗口边缘形貌为预设形状。可改善金属腐蚀边缘形貌,有效去除氧化膜而不影响芯片性能。

Patent Agency Ranking