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公开(公告)号:CN102422727B
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201080021230.6
申请日:2010-05-12
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 为了将处理液(21)从在用于对处理物(10)湿化学处理的设备中输送的平面处理物(10)去除,设置用于止回处理液(21)的止回面(4,14)。止回面(4,14)相对于处理物(10)的输送路径设置,使得在处理物(10)经过止回面(4,14)时在止回面(4,14)与处理物(10)的与止回面(4,14)对置的表面之间留有间隙(8,18)。止回面(4,14)例如可以设置为辊(2,3)的外壳面的偏置的区段。
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公开(公告)号:CN102405691B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201080017597.0
申请日:2010-04-22
申请人: 埃托特克德国有限公司
CPC分类号: H05K3/0085 , C23C14/568 , C23C16/4401 , C23C16/4412 , C23C16/54 , C25D17/06 , H01L21/67017 , H05K1/0393 , H05K3/068 , H05K3/243 , H05K13/0061 , H05K2203/0165 , H05K2203/0271 , H05K2203/1509 , H05K2203/1545
摘要: 为了在对扁平的待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施中输送所述材料,在所述设施内,在输送平面内沿输送方向(5)输送待处理材料(21),将保持装置(22、25)附接于所述待处理材料(21)。保持装置(22、25)于待处理材料(21)的边缘区域上的至少两点处保持所述材料,该边缘区域在所述待处理材料(21)进行输送时沿输送方向(5)定向。保持装置(22、25)以可拆卸的方式联接于输送设备(41),该输送设备(41)沿输送方向移动所述保持装置(22、25),以便输送待处理材料(21)。至少在待处理材料(21)的部分输送期间,将具有位于输送平面内并且横向于输送方向(5)定向的分力的力(6、7)施加在待处理材料(21)的一区域上,例如施加在纵向边缘区域上。
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公开(公告)号:CN102422728B
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:CN201080021231.0
申请日:2010-05-12
申请人: 埃托特克德国有限公司
发明人: 亨利·孔策
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 为了将处理液(21)从在用于对处理物(10)以电解或湿化学方式进行处理的设备中输送的平面处理物(10)去除,或者为了促进处理物(10)的表面上的物质交换,辊设置有辊表面(4,14)。辊表面(4,14)相对于处理物(10)的输送路径设置,使得在辊表面(4,14)与处理物(10)的与辊表面(4,14)对置的有用区之间留有间隙(8,18),该间隙在该有用区上延伸。辊以转动方式来驱动,使得在间隙(8,18)上产生辊表面(4,14)与处理物(10)之间的相对速度。
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公开(公告)号:CN102422727A
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN201080021230.6
申请日:2010-05-12
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 为了将处理液(21)从在用于对处理物(10)湿化学处理的设备中输送的平面处理物(10)去除,设置用于止回处理液(21)的止回面(4,14)。止回面(4,14)相对于处理物(10)的输送路径设置,使得在处理物(10)经过止回面(4,14)时在止回面(4,14)与处理物(10)的与止回面(4,14)对置的表面之间留有间隙(8,18)。止回面(4,14)例如可以设置为辊(2,3)的外壳面的偏置的区段。
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公开(公告)号:CN102422728A
公开(公告)日:2012-04-18
申请号:CN201080021231.0
申请日:2010-05-12
申请人: 埃托特克德国有限公司
发明人: 亨利·孔策
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , B05C3/09 , B05C11/06 , C25D7/0621 , C25D7/0642 , C25D17/00 , C25D21/10 , H05K2203/0143 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 为了将处理液(21)从在用于对处理物(10)以电解或湿化学方式进行处理的设备中输送的平面处理物(10)去除,或者为了促进处理物(10)的表面上的物质交换,辊设置有辊表面(4,14)。辊表面(4,14)相对于处理物(10)的输送路径设置,使得在辊表面(4,14)与处理物(10)的与辊表面(4,14)对置的有用区之间留有间隙(8,18),该间隙在该有用区上延伸。辊以转动方式来驱动,使得在间隙(8,18)上产生辊表面(4,14)与处理物(10)之间的相对速度。
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公开(公告)号:CN102405691A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201080017597.0
申请日:2010-04-22
申请人: 埃托特克德国有限公司
CPC分类号: H05K3/0085 , C23C14/568 , C23C16/4401 , C23C16/4412 , C23C16/54 , C25D17/06 , H01L21/67017 , H05K1/0393 , H05K3/068 , H05K3/243 , H05K13/0061 , H05K2203/0165 , H05K2203/0271 , H05K2203/1509 , H05K2203/1545
摘要: 为了在对扁平的待处理材料(21)进行化学和/或电化学处理的设施中输送所述材料,在所述设施内,在输送平面内沿输送方向(5)输送待处理材料(21),将保持装置(22、25)附接于所述待处理材料(21)。保持装置(22、25)于待处理材料(21)的边缘区域上的至少两点处保持所述材料,该边缘区域在所述待处理材料(21)进行输送时沿输送方向(5)定向。保持装置(22、25)以可拆卸的方式联接于输送设备(41),该输送设备(41)沿输送方向移动所述保持装置(22、25),以便输送待处理材料(21)。至少在待处理材料(21)的部分输送期间,将具有位于输送平面内并且横向于输送方向(5)定向的分力的力(6、7)施加在待处理材料(21)的一区域上,例如施加在纵向边缘区域上。
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公开(公告)号:CN1910972B
公开(公告)日:2010-10-13
申请号:CN200580002472.X
申请日:2005-01-13
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , H05K1/0393 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 公开一种喷嘴装置,其具体可用于作为具有印刷电路板形式的待处理材料(10)的水平行进通路的电镀系统中的浪涌喷嘴。在此情况下,待处理材料(10)可在传送方向(18)上从喷嘴装置的入口区域(15)移动至出口区域(16)。该喷嘴装置包括至少一个喷嘴开孔(8),该喷嘴开孔以如下方式设计,即待处理材料(10)的流相对于待处理材料(10)的传送平面成预定角度倾斜行进,由此将处理介质流偏转至待处理材料(10)的传送方向(18)。
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公开(公告)号:CN1894444B
公开(公告)日:2010-07-14
申请号:CN200480037689.X
申请日:2004-12-07
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: C25D17/28
CPC分类号: H05K3/0085 , C23C18/1619 , C23C18/163 , C25D7/0614 , C25D17/001 , C25D17/28 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572 , Y10S414/135 , Y10S414/141
摘要: 本发明涉及用于扁平工件(1)的湿化学或电解处理的处理设备,所述扁平工件例如金属箔、印刷电路箔或印刷电路板,其中工件在传送路径上通过传送构件(6)传送。处理设备包括具有凹部的承载元件和至少一个模块系统,所述承载元件平行于传送路径定向,模块系统用于承载传送构件,模块系统包括优选成对设置的插入元件(14,26),所述至少一个模块系统被构造成使得它与承载元件的凹部对齐,并且优选可滑动到所述凹部中。处理设备优选在水平传送线中使用。
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公开(公告)号:CN1910972A
公开(公告)日:2007-02-07
申请号:CN200580002472.X
申请日:2005-01-13
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: H05K3/00
CPC分类号: H05K3/0085 , H05K1/0393 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572
摘要: 公开一种喷嘴装置,其具体可用于作为具有印刷电路板形式的待处理材料(10)的水平行进通路的电镀系统中的浪涌喷嘴。在此情况下,待处理材料(10)可在传送方向(18)上从喷嘴装置的入口区域(15)移动至出口区域(16)。该喷嘴装置包括至少一个喷嘴开孔(8),该喷嘴开孔以如下方式设计,即待处理材料(10)的流相对于待处理材料(10)的传送平面成预定角度倾斜行进,由此将处理介质流偏转至待处理材料(10)的传送方向(18)。
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公开(公告)号:CN1894444A
公开(公告)日:2007-01-10
申请号:CN200480037689.X
申请日:2004-12-07
申请人: 埃托特克德国有限公司
IPC分类号: C25D17/28
CPC分类号: H05K3/0085 , C23C18/1619 , C23C18/163 , C25D7/0614 , C25D17/001 , C25D17/28 , H05K2203/0746 , H05K2203/1509 , H05K2203/1572 , Y10S414/135 , Y10S414/141
摘要: 本发明涉及用于扁平工件(1)的湿化学或电解处理的处理设备,所述扁平工件例如金属箔、印刷电路箔或印刷电路板,其中工件在传送路径上通过传送构件(6)传送。处理设备包括具有凹部的承载元件和至少一个模块系统,所述承载元件平行于传送路径定向,模块系统用于承载传送构件,模块系统包括优选成对设置的插入元件(14,26),所述至少一个模块系统被构造成使得它与承载元件的凹部对齐,并且优选可滑动到所述凹部中。处理设备优选在水平传送线中使用。
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