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公开(公告)号：CN1205504C
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN02142050.5
申请日：2002-08-23
IPC分类号： G02F1/136 , G02B6/12 , C03C15/00 , H01L21/3205 , H01L29/786
CPC分类号： G02F1/136286 , G02F1/136213 , H01L29/41733 , H01L29/78633
摘要： 制造具有埋置式结构的基片的方法，包括以下步骤：制备具有主表面的玻璃基片；通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面制成凹槽；和在玻璃基片的主表面沉积第1材料，并用其填充凹槽，制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构，制成凹槽的步骤包括：使用包含氢氟酸、氟化铵、和盐酸或草酸的蚀刻剂进行湿法蚀刻工艺。
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公开(公告)号：CN1402066A
公开(公告)日：2003-03-12
申请号：CN02142050.5
申请日：2002-08-23
IPC分类号： G02F1/136 , H01L21/3205 , H01L29/786
CPC分类号： G02F1/136286 , G02F1/136213 , H01L29/41733 , H01L29/78633
摘要： 制造具有埋置式结构的基片的方法，包括以下步骤：制备具有主表面的玻璃基片；通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面制成凹槽；和在玻璃基片的主表面沉积第1材料，并用其填充凹槽，制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构，制成凹槽的步骤包括：使用包含氢氟酸、氟化铵、和盐酸或草酸的蚀刻剂进行湿法蚀刻工艺。
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公开(公告)号：CN1272669C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN03152470.2
申请日：2003-04-15
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/136227 , G03F7/0233 , G03F7/0757
摘要： 本发明提供辐射敏感树脂组合物，用该组合物容易高精度形成防水性变化的有图案绝缘膜，使用此组合物形成有图案绝缘膜的方法，使用此组合物的显示单元和平板显示设备，和生产平板显示设备的方法。所述树脂组合物包括特定比例的(A)碱溶性共聚物，(B)1，2-醌二叠氮化物化合物和(C)防水硅氧烷树脂。在有图案绝缘膜的生产方法中，在由树脂组合物形成的涂层上进行形成图案曝光和显影。显示单元和平板显示设备装配有由树脂组合物形成的间层绝缘膜。平板显示设备的生产方法包括间层绝缘膜形成步骤，该步骤包括在曝光中曝光导体层形成区域的形成图案曝光处理，在导体层形成区域的一部分中仅固化表面层部分，和在其它部分中固化在它的厚度方向上的整体，和采用液体材料在间层绝缘膜表面上形成导体层的导体层形成步骤。
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公开(公告)号：CN1479173A
公开(公告)日：2004-03-03
申请号：CN03152470.2
申请日：2003-04-15
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/136227 , G03F7/0233 , G03F7/0757
摘要： 本发明提供辐射敏感树脂组合物，用该组合物容易高精度形成防水性变化的有图案绝缘膜，使用此组合物形成有图案绝缘膜的方法，使用此组合物的显示单元和平板显示设备，和生产平板显示设备的方法。所述树脂组合物包括特定比例的(A)碱溶性共聚物，(B)1，2－醌二叠氮化物化合物和(C)防水硅氧烷树脂。在有图案绝缘膜的生产方法中，在由树脂组合物形成的涂层上进行形成图案曝光和显影。显示单元和平板显示设备装配有由树脂组合物形成的间层绝缘膜。平板显示设备的生产方法包括间层绝缘膜形成步骤，该步骤包括在曝光中曝光导体层形成区域的形成图案曝光处理，在导体层形成区域的一部分中仅固化表面层部分，和在其它部分中固化在它的厚度方向上的整体，和采用液体材料在间层绝缘膜表面上形成导体层的导体层形成步骤。
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