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公开(公告)号：CN100543589C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200510129603.2
申请日：2005-12-16
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： G03F7/38 , G03F7/26 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明的目的在于提供一种能够防止光致抗蚀剂等薄膜的成分附着在排气泵中的减压干燥装置。该减压干燥装置具备覆盖基板(W)的周围的腔室(10)、排气泵(50)、第一开闭阀(41)、第二开闭阀(42)、第三开闭阀(43)。通过打开第一开闭阀(41)对腔室内(10)进行排气，对形成在基板(W)的主面上的光致抗蚀剂进行减压干燥后，关闭第一开闭阀(41)而停止前述腔室(10)的排气。接着，通过打开第二开闭阀(42)向排气泵(50)供给惰性气体的同时，打开第三开闭阀(43)而向前述腔室(10)内供给惰性气体。
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公开(公告)号：CN100517570C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200610108181.5
申请日：2006-07-31
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
IPC分类号： H01L21/027 , F26B5/04 , F26B25/00 , B05D3/12
摘要： 本发明提供一种防止在对基板上的处理液进行干燥时产生处理液不匀的减压干燥装置。该减压干燥装置具有2个可以升降的支承板和3个被固定配置的固定板。在干燥处理时，支承板的上表面和固定板的上表面的高度一致，形成一个支承基板的支承面。在干燥处理时，该支承面面接触基板的整个背侧，支承基板。因此，在基板的背侧不形成空间，不产生气流，可以防止处理液不匀。另外，在交接基板时，支承板上升，由支承板的上表面面接触基板的背侧来支承基板。因此，不必形成支承销的贯通孔等，可以简化装置结构，也可以防止以贯通孔为起因的处理液不匀。
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公开(公告)号：CN101101856A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710106687.7
申请日：2007-06-15
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/027 , H01L21/30 , G03F7/38
摘要： 本发明提供一种可以防止基板下表面的污染和损伤并能够均匀地对基板的面内进行热处理的基板处理装置。基板处理装置(1)以非接触方式将基板(90)保持在基板保持板(12)上，并使基板(90)沿一个方向移动的同时进行加热处理。因此，支承销等部件不会与基板(90)的下表面相抵接，从而防止了基板的损伤或污染。另外，支承销等部件也不会使加热处理局部不均匀。此外，因为搬送基板(90)的同时进行加热处理，所以不管基板(90)的下表面侧的气流如何，都能够均匀地对基板(90)的面内进行热处理。
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公开(公告)号：CN101231135A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200710193223.4
申请日：2007-11-20
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
摘要： 本发明提供一种迅速地实施减压干燥处理和加热处理的同时，降低作为整体的装置的占有面积且对非加热时的基板的热影响小的减压干燥装置。该减压干燥装置(1)具有对腔室(10)内部进行减压的功能，并具有对腔室(10)内的基板(9)进行加热的加热部(30)。因此，减压干燥装置(1)能够在对基板(9)实施减压干燥处理后，不搬运基板(9)而对该基板(9)进行加热。因此，能够迅速地进行减压干燥处理和加热处理。另外，由于无需为了加热处理而另外设置装置，能够降低作为整体的装置的占有面积。另外，因加热部(30)从上方侧加热基板(9)，所以非加热时的余热影响基板(9)的可能性小。
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公开(公告)号：CN1855416A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610073620.3
申请日：2006-04-13
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/00
摘要： 本发明的目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。设置与基板(90)的周边部接触的第一支撑销(33)、与基板的中央部接触的第二支撑销(34)。第一支撑销的下端由固定设置在升降板(351)上的滑动接触板(352)支撑，第二支撑销的下端由提高加固构件(354)支撑。以贯通固定设置在升降板上的滑动接触板(353)的方式配置提高加固构件的下部，相对于升降板在规定的范围内升降自由地支撑。以第二支撑销以及提高加固构件的上下方向的尺寸加起来等于从保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式来设计。
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公开(公告)号：CN1758142A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510107678.0
申请日：2005-09-29
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
摘要： 本发明目的在于提供不发生突沸而能迅速地干燥形成于基板的主面的薄膜的减压干燥装置以及减压干燥方法。使支承销(21)与支持板(22)一起上升，在减小了基板W的主面与腔室(10)的上面(14)之间的距离的状态下，以少量的排气量，进行排气之后，使支承销(21)与支持板(22)一起下降，在增大了基板W的主面与腔室(10)的上面(14)之间的距离的状态下，以多量的排气量进行排气。
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公开(公告)号：CN101231135B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200710193223.4
申请日：2007-11-20
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
摘要： 本发明提供一种迅速地实施减压干燥处理和加热处理的同时，降低作为整体的装置的占有面积且对非加热时的基板的热影响小的减压干燥装置。该减压干燥装置(1)具有对腔室(10)内部进行减压的功能，并具有对腔室(10)内的基板(9)进行加热的加热部(30)。因此，减压干燥装置(1)能够在对基板(9)实施减压干燥处理后，不搬运基板(9)而对该基板(9)进行加热。因此，能够迅速地进行减压干燥处理和加热处理。另外，由于无需为了加热处理而另外设置装置，能够降低作为整体的装置的占有面积。另外，因加热部(30)从上方侧加热基板(9)，所以非加热时的余热影响基板(9)的可能性小。
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公开(公告)号：CN100409424C
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200610073620.3
申请日：2006-04-13
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/00
摘要： 本发明的目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。设置与基板(90)的周边部接触的第一支撑销(33)、与基板的中央部接触的第二支撑销(34)。第一支撑销的下端由固定设置在升降板(351)上的滑动接触板(352)支撑，第二支撑销的下端由提高加固构件(354)支撑。以贯通固定设置在升降板上的滑动接触板(353)的方式配置提高加固构件的下部，相对于升降板在规定的范围内升降自由地支撑。以第二支撑销以及提高加固构件的上下方向的尺寸加起来等于从保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式来设计。
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公开(公告)号：CN1834791A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200510129603.2
申请日：2005-12-16
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： G03F7/38 , G03F7/26 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明的目的在于提供一种能够防止光致抗蚀剂等薄膜的成分附着在排气泵中的减压干燥装置。该减压干燥装置具备覆盖基板(W)的周围的腔室(10)、排气泵(50)、第一开闭阀(41)、第二开闭阀(42)、第三开闭阀(43)。通过打开第一开闭阀(41)对腔室内(10)进行排气，对形成在基板(W)的主面上的光致抗蚀剂进行减压干燥后，关闭第一开闭阀(41)而停止前述腔室(10)的排气。接着，通过打开第二开闭阀(42)向排气泵(50)供给惰性气体的同时，打开第三开闭阀(43)而向前述腔室(10)内供给惰性气体。
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公开(公告)号：CN101101856B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200710106687.7
申请日：2007-06-15
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 柿村崇
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/027 , H01L21/30 , G03F7/38
摘要： 本发明提供一种可以防止基板下表面的污染和损伤并能够均匀地对基板的面内进行热处理的基板处理装置。基板处理装置(1)以非接触方式将基板(90)保持在基板保持板(12)上，并使基板(90)沿一个方向移动的同时进行加热处理。因此，支承销等部件不会与基板(90)的下表面相抵接，从而防止了基板的损伤或污染。另外，支承销等部件也不会使加热处理局部不均匀。此外，因为搬送基板(90)的同时进行加热处理，所以不管基板(90)的下表面侧的气流如何，都能够均匀地对基板(90)的面内进行热处理。
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