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公开(公告)号：CN1464798A
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：CN02802472.9
申请日：2002-07-22
申请人： 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC分类号： B01J3/00 , B01J3/02 , H01L21/304 , B08B3/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/02 , B08B5/02 , C23G5/00
摘要： 本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴(13、13)向基板(W)的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴13供给的处理流体的流动方向(R1，R1)，在基板(W)表面内相互错开。因此，在基板(W)的表面上，形成处理流体的旋转流(TF)，处理流体与基板(W)的表面接触，进行规定的表面处理(洗净处理，第一次冲洗处理，第二次冲洗处理，干燥处理等)。
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公开(公告)号：CN100366332C
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：CN02802472.9
申请日：2002-07-22
申请人： 大日本网目版制造株式会社 , 株式会社神户制钢所
IPC分类号： B01J3/00 , B01J3/02 , H01L21/304 , B08B3/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/02 , B08B5/02 , C23G5/00
摘要： 本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴(13、13)向基板(W)的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴13供给的处理流体的流动方向(R1，R1)，在基板(W)表面内相互错开。因此，在基板(W)的表面上，形成处理流体的旋转流(TF)，处理流体与基板(W)的表面接触，进行规定的表面处理(洗净处理，第一次冲洗处理，第二次冲洗处理，干燥处理等)。
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公开(公告)号：CN1766645A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510106329.7
申请日：2005-09-22
申请人： 大日本网目版制造株式会社
CPC分类号： B01F5/0641 , B01F5/0646 , B01F5/0647 , B01F13/0059 , B01J19/0093 , B01J2219/00783 , B01J2219/00873 , B01J2219/00889
摘要： 本发明涉及一种具有形成通道的沟槽的通道结构及其制造方法。在微型反应器中，由第一基板(11)和层叠在第一基板(11)上的中间基板(12)形成沟槽，而且该沟槽的开口由用作盖元件的第二基板(13)封闭以形成供流体流动的微型通道。中间基板(12)包括通道区域(120)，该通道区域(120)包括：形成部分微型通道的通孔；以及板状连接部(122)，其比该通道区域(120)两侧的部分薄，用于沿纵向在微型通道的预定位置使所述两侧的部分连接。在该微型反应器中，在形成和处理中间基板(12)的过程中可容易地将中间基板(12)作为一个元件进行处理，并可简化制造该微型反应器的过程。
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公开(公告)号：CN1400635A
公开(公告)日：2003-03-05
申请号：CN02127003.1
申请日：2002-07-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306 , B08B3/00
CPC分类号： H01L21/67161 , C03C15/00 , C03C23/0075 , C03C23/0085 , H01L21/67173
摘要： 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。
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公开(公告)号：CN1173387C
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN02127003.1
申请日：2002-07-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306 , B08B3/00
CPC分类号： H01L21/67161 , C03C15/00 , C03C23/0075 , C03C23/0085 , H01L21/67173
摘要： 本发明涉及在个别地配置了向通过主运送机构运送的基板提供处理液进行湿式表面处理的湿式处理单元和向通过湿式处理单元进行湿式表面处理的基板表面通过处理流体进行表面处理的高压处理单元的基板处理装置中，防止将基板从湿式处理单元运送到前述高压处理单元期间处理液对主运送机构的浸湿和污染。对于显像处理单元的任一单元，主运送路，显像处理单元，专用运送自动机及高压处理单元按此顺序在Y方向呈直线状配置。在将被处理液浸湿的基板运送到高压处理单元期间，即使基板上附着的处理液或其蒸发物移动到主运送路侧，直到主运送路为止要经过显像处理单元。
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公开(公告)号：CN1206708C
公开(公告)日：2005-06-15
申请号：CN02118478.X
申请日：2002-04-27
申请人： 株式会社神户制钢所 , 大日本屏幕制造株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/00 , B08B3/04
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67028
摘要： 本发明提供一种基板处理方法，其特征为，它包括以下工序：在湿式处理装置中向基板供应处理液，进行湿式处理的湿式处理工序，把前述湿式处理后的基板在保持未干燥的状态下运送到与前述基板处理装置分开设置的干燥处理装置中的运送工序，以及在前述干燥处理装置中对前述基板进行采用超临界流体进行超临界干燥处理的干燥处理工序。本发明还提供一种基板处理设备，其特征为，它配备有：向基板供应处理液进行湿式处理的湿式处理装置，与该湿式处理装置分别设置、对基板进行采用超临界流体的超临界干燥处理的干燥处理装置，以及将前述湿式处理后的基板从前述湿式处理装置中取出、在保持其未干燥的状态下运送到前述干燥处理装置中的运送机构。
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公开(公告)号：CN1385882A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN02118478.X
申请日：2002-04-27
申请人： 株式会社神户制钢所 , 大日本屏幕制造株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/00 , B08B3/04
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67028
摘要： 本发明提供一种基板处理方法及基板处理设备,可以对晶片等基板进行从湿式处理直到超临界干燥处理的一系列处理、而且安全、通用性强,达到更高的生产效率。在湿式处理装置(1)中,对晶片(9)进行规定的湿式处理,将利用纯水漂洗处理后的晶片(9)在未干燥的状态下利用晶片运送装置(3)运送到与湿式处理装置(1)分开设置的干燥处理装置(2)中,在该处对晶片(9)进行超临界干燥处理。
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