公开(公告)号：CN109715846B

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN201680089397.3

申请日：2016-12-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迪特尔·哈斯 ,  尤韦·施尤比勒 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ,  斯蒂芬·班格特

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C14/04 ,  C03C17/02

Abstract: 根据本公开内容，提供一种用于在由载体支撑的基板上沉积一个或多个层的处理系统(100)。处理系统包括：装载锁定腔室(110)，用于装载基板；路由模块(410)，用于输送基板；第一真空摆动模块(131)；和处理模块(510)，包括沉积源，沉积源用于沉积材料；维修模块(610)；卸载锁定腔室(116)，用于卸载基板；另外的路由模块(412)；掩模载体匣(320)，经配置以用于存储和输送在处理系统的操作期间应用的掩模；另外的真空摆动模块(132)；和输送系统(710)，经配置以用于在第一真空摆动模块(131)与另外的真空摆动模块(132)之间输送载体。

公开(公告)号：CN109715846A

公开(公告)日：2019-05-03

申请号：CN201680089397.3

申请日：2016-12-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迪特尔·哈斯 ,  尤韦·施尤比勒 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ,  斯蒂芬·班格特

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C14/04 ,  C03C17/02

Abstract: 根据本公开内容，提供一种用于在由载体支撑的基板上沉积一个或多个层的处理系统(100)。处理系统包括：装载锁定腔室(110)，用于装载基板；路由模块(410)，用于输送基板；第一真空摆动模块(131)；和处理模块(510)，包括沉积源，沉积源用于沉积材料；维修模块(610)；卸载锁定腔室(116)，用于卸载基板；另外的路由模块(412)；掩模载体匣(320)，经配置以用于存储和输送在处理系统的操作期间应用的掩模；另外的真空摆动模块(132)；和输送系统(710)，经配置以用于在第一真空摆动模块(131)与另外的真空摆动模块(132)之间输送载体。

公开(公告)号：CN107709606A

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201580081040.6

申请日：2015-07-06

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·凯勒 ,  安德烈·布鲁宁 ,  尤韦·施尤比勒 ,  托马斯·沃纳·兹巴于尔 ,  斯蒂芬·班格特

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  H01J37/32 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/34 ,  C23C14/562 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/34 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0562

Abstract: 本发明提供一种用于在溅射沉积处理期间支撑至少一个基板的载具(100)。载具(100)包括载具主体(102)及在载具主体(102)处提供的绝缘部分。此绝缘部分提供电绝缘材料的表面(103)，其中表面(103)被构造为在溅射沉积处理期间面向一个或多个溅射沉积源。