公开(公告)号：CN107980070A

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：CN201580077519.2

申请日：2015-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·班格特 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ,  斯蒂芬·凯勒 ,  诺伯特·施帕茨

IPC: C23C14/24 ,  C23C16/44

Abstract: 描述一种用于金属或金属合金的蒸发源(100)。蒸发源包括：蒸发坩锅(104)，其中蒸发坩锅配置为蒸发金属或金属合金；分布管(106)，具有一或多个出口(712)，沿着分布管的长度提供，其中分布管流体连通于蒸发坩锅，其中分布管进一步包括第一外部管(234)和第一内部管(232)，以及其中分布管和蒸发坩锅提供成单一件。

公开(公告)号：CN107980070B

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201580077519.2

申请日：2015-07-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯蒂芬·班格特 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ,  斯蒂芬·凯勒 ,  诺伯特·施帕茨

IPC: C23C14/24 ,  C23C16/44

Abstract: 描述一种用于金属或金属合金的蒸发源(100)。蒸发源包括：蒸发坩锅(104)，其中蒸发坩锅配置为蒸发金属或金属合金；分布管(106)，具有一或多个出口(712)，沿着分布管的长度提供，其中分布管流体连通于蒸发坩锅，其中分布管进一步包括第一外部管(234)和第一内部管(232)，以及其中分布管和蒸发坩锅提供成单一件。

公开(公告)号：CN116802337A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202180092769.9

申请日：2021-02-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 朱利安·奥巴赫 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  诺伯特·施帕茨 ,  乌韦·许斯勒

IPC: C23C14/24

Abstract: 描述了一种用于在真空沉积腔室中将材料沉积在基板上的材料沉积组件。所述材料沉积组件包括至少一个材料沉积源。所述沉积源包括分配管，所述分配管被配置用于将蒸发的材料引导到所述基板，所述分配管具有配对凸缘，所述配对凸缘具有关于圆对称轴线旋转对称的配对球状体表面，所述配对球状体表面具有沿所述轴线的第一高度。所述沉积源包括坩埚，所述坩埚用于蒸发所述材料，所述坩埚具有凸缘，所述凸缘具有关于所述轴线旋转对称的球状体表面，所述球状体表面具有沿所述轴线的第二高度，其中所述第二高度不同于所述第一高度，特别是所述第二高度相对于所述第一高度相差至少20％。

公开(公告)号：CN116324011A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202080106409.5

申请日：2020-10-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 诺伯特·施帕茨 ,  斯蒂芬·班格特 ,  马蒂亚斯·克雷布斯

IPC: C23C14/24

Abstract: 描述了一种用于在真空处理系统中向可移动装置(10)进行供应的供应布置(100)。所述供应布置(100)包括关节臂馈通系统(105)，所述关节臂馈通系统用于向所述可移动装置(10)提供供应线。附加地，所述供应布置(100)包括力补偿单元(140)，所述力补偿单元用于补偿绕设置在所述关节臂馈通系统(105)的第一端(101)处的第一接头(131)的第一旋转轴线(R1)的力矩(M)。所述力矩(M)由所述关节臂馈通系统(105)的重力引起。另外，描述了一种真空处理系统和一种在真空处理系统中向可移动装置进行供应的方法。