公开(公告)号：CN116802337A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202180092769.9

申请日：2021-02-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 朱利安·奥巴赫 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  诺伯特·施帕茨 ,  乌韦·许斯勒

IPC: C23C14/24

Abstract: 描述了一种用于在真空沉积腔室中将材料沉积在基板上的材料沉积组件。所述材料沉积组件包括至少一个材料沉积源。所述沉积源包括分配管，所述分配管被配置用于将蒸发的材料引导到所述基板，所述分配管具有配对凸缘，所述配对凸缘具有关于圆对称轴线旋转对称的配对球状体表面，所述配对球状体表面具有沿所述轴线的第一高度。所述沉积源包括坩埚，所述坩埚用于蒸发所述材料，所述坩埚具有凸缘，所述凸缘具有关于所述轴线旋转对称的球状体表面，所述球状体表面具有沿所述轴线的第二高度，其中所述第二高度不同于所述第一高度，特别是所述第二高度相对于所述第一高度相差至少20％。

公开(公告)号：CN119452114A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202280097687.8

申请日：2022-07-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 朱利安·奥巴赫 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  安德烈亚斯·勒普

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/22 ,  C23C14/04 ,  H10K99/00

Abstract: 提供了一种用于将蒸镀材料沉积在基板上的蒸汽源(50)。蒸汽源包括具有多个喷嘴的蒸汽分配管(60)，其中多个喷嘴中的至少一个喷嘴(100)包括：喷嘴主体，该喷嘴主体具有沿喷嘴轴线(A)延伸以用于通过喷嘴孔口释放蒸镀材料的喷嘴通道；和屏蔽部分(150)，该屏蔽部分连接到喷嘴主体并与所述喷嘴主体热接触，屏蔽部分具有用于使蒸镀材料的低角度部分朝向基板通过的孔隙。至少一个横向开口(165)设置在屏蔽部分与喷嘴主体之间以用于使蒸镀材料的高角度部分特别是朝向材料收集器的壁通过。进一步描述了一种用于蒸汽源的喷嘴和一种将蒸镀材料沉积在基板上的方法。

公开(公告)号：CN117396629A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202180098480.8

申请日：2021-05-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 朱利安·奥巴赫 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  哈拉尔德·伍斯特 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  大卫·弗里德里希·弗雷赫尔·冯·林登费尔 ,  斯 ,  安治高志

IPC: C23C14/24

Abstract: 描述了一种用于蒸镀材料分配器的喷嘴。所述喷嘴包括：喷嘴入口，所述喷嘴入口用于接收蒸镀材料；喷嘴出口；以及喷嘴通路，所述喷嘴通路在所述喷嘴入口与所述喷嘴出口之间延伸，所述喷嘴通路具有第一通路部分、第二通路部分和第三通路部分，所述第二通路部分具有在从所述喷嘴入口到所述喷嘴出口的方向上连续地增大的孔径角，并且所述第三通路部分具有基本上恒定的孔径角。

公开(公告)号：CN112912533B

公开(公告)日：2023-10-24

申请号：CN201880098803.1

申请日：2018-11-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯里尼瓦斯·萨鲁古 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  乌韦·许斯勒 ,  朱利安·奥巴赫

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 描述了一种用于沉积蒸发的材料的沉积源。所述沉积源(100)包括分配布置(110)，所述分配布置具有多个出口(111)以用于在主沉积方向(101)上提供蒸发的第一材料(A)和蒸发的第二材料(B)。另外，所述沉积源包括测量组件(120)，所述测量组件用于测量所述蒸发的第一材料(A)的第一沉积速率并用于测量所述蒸发的第二材料(B)的第二沉积速率。所述测量组件(120)具有处于与所述主沉积方向(101)交叉的方向上的主检测方向(102)。此外，所述沉积源(100)包括分离元件(130)，所述分离元件用于在与所述主检测方向(102)交叉的方向上分离所述蒸发的第一材料(A)和所述蒸发的第二材料(B)。所述分离元件(130)在所述主检测方向(102)上布置在所述多个出口(111)与所述测量组件(120)之间。

公开(公告)号：CN114645249A

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202011521333.0

申请日：2020-12-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  佩曼·哈梅格 ,  安德烈亚斯·穆勒

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 提供了一种用沉积设备(100)在基板(10)上沉积已蒸发源材料的方法。方法包括：从蒸气源(20)的一个或多个喷嘴(22)朝向基板(10)引导已蒸发源材料穿过布置在一个或多个喷嘴(22)与基板之间的屏蔽装置(30)；将沉积设备从沉积位置(I)输送到维护位置(II)，在所述维护位置中屏蔽装置(30)面向材料收集单元(40)；将加热单元(50)相对于屏蔽装置(30)从第一位置(a)移动到第二位置(b)，其中加热单元(50)至少在第二位置(b)中面向屏蔽装置(30)；和用加热单元(50)加热屏蔽装置(30)来清洁屏蔽装置(30)。根据另一个方面，提供了一种可以根据所描述方法操作的沉积设备。

公开(公告)号：CN112912533A

公开(公告)日：2021-06-04

申请号：CN201880098803.1

申请日：2018-11-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯里尼瓦斯·萨鲁古 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  安德烈亚斯·勒普 ,  乌韦·许斯勒 ,  朱利安·奥巴赫

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 描述了一种用于沉积蒸发的材料的沉积源。所述沉积源(100)包括分配布置(110)，所述分配布置具有多个出口(111)以用于在主沉积方向(101)上提供蒸发的第一材料(A)和蒸发的第二材料(B)。另外，所述沉积源包括测量组件(120)，所述测量组件用于测量所述蒸发的第一材料(A)的第一沉积速率并用于测量所述蒸发的第二材料(B)的第二沉积速率。所述测量组件(120)具有处于与所述主沉积方向(101)交叉的方向上的主检测方向(102)。此外，所述沉积源(100)包括分离元件(130)，所述分离元件用于在与所述主检测方向(102)交叉的方向上分离所述蒸发的第一材料(A)和所述蒸发的第二材料(B)。所述分离元件(130)在所述主检测方向(102)上布置在所述多个出口(111)与所述测量组件(120)之间。

公开(公告)号：CN112703269A

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201880097507.X

申请日：2018-09-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  朱利安·奥巴赫 ,  斯蒂芬·凯勒

IPC: C23C14/24 ,  G01N29/02 ,  C23C14/54

Abstract: 描述了一种预处理用于测量沉积速率的振荡晶体(110)的方法。该方法包括对振荡晶体的测量表面(115)进行极化。具体来说，该方法包括用含氧等离子体预处理振荡晶体的测量表面，其中预处理在10℃≤T≤80℃的温度下进行1min≤t≤5min的时间段t。另外，描述了沉积速率测量装置、蒸发源和沉积设备。

公开(公告)号：CN211227301U

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：CN201920989907.3

申请日：2019-06-27

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·弗兰克 ,  伊夫林·舍尔 ,  斯特凡·凯勒 ,  安德烈亚斯·穆勒 ,  佩曼·哈梅格 ,  朱利安·奥巴赫

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12

Abstract: 本文描述的实施方式涉及一种用于蒸发源材料(150)的蒸发装置(100)，所述蒸发装置包括蒸发坩埚(110)和支撑布置(120)，所述支撑布置(120)具有多个材料托盘(125)，所述多个材料托盘(125)用于在所述多个材料托盘(125)上布置源材料。所述支撑布置(120)可去除地放置在所述蒸发坩埚(110)的内部体积(115)中。本文描述的实施方式还涉及一种蒸发源(200)和一种具有蒸发装置(100)的沉积系统(300)。