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公开(公告)号：CN107002221B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201480083241.5
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 安德烈亚斯·勒普 , 托马斯·格比利 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455 , C23C14/04 , H05B33/10
Abstract: 描述一种用于在真空腔室(110)中将已蒸发的材料沉积在基板(121)上的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括两个材料沉积源(100a、100b)，它们各自具有分配管道(106a、106b)和一或多个喷嘴(712)。另外，描述一种包括材料沉积布置的真空沉积腔室、以及一种用于在真空沉积腔室中将已蒸发的材料沉积在基板上的方法。
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公开(公告)号：CN107002232A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201480083694.8
申请日：2014-11-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乌韦·许斯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 安德烈亚斯·勒普
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/542 , F27D5/0037
Abstract: 一般来说，本公开内容涉及用于沉积材料的系统、设备和方法。特别是，本公开内容涉及用于蒸发源材料的坩锅。所述坩锅具有壁，所述壁具有内表面，所述内表面围绕内部容积，所述内部容积用于容纳源材料和一个或多个热传输元件，所述一个或多个热传输元件布置在坩锅的内部容积中。
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公开(公告)号：CN116802337A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202180092769.9
申请日：2021-02-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述了一种用于在真空沉积腔室中将材料沉积在基板上的材料沉积组件。所述材料沉积组件包括至少一个材料沉积源。所述沉积源包括分配管，所述分配管被配置用于将蒸发的材料引导到所述基板，所述分配管具有配对凸缘，所述配对凸缘具有关于圆对称轴线旋转对称的配对球状体表面，所述配对球状体表面具有沿所述轴线的第一高度。所述沉积源包括坩埚，所述坩埚用于蒸发所述材料，所述坩埚具有凸缘，所述凸缘具有关于所述轴线旋转对称的球状体表面，所述球状体表面具有沿所述轴线的第二高度，其中所述第二高度不同于所述第一高度，特别是所述第二高度相对于所述第一高度相差至少20％。
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公开(公告)号：CN107002221A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201480083241.5
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 安德烈亚斯·勒普 , 托马斯·格比利 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455 , C23C14/04 , H05B33/10
Abstract: 描述一种用于在真空腔室(110)中将已蒸发的材料沉积在基板(121)上的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括两个材料沉积源(100a、100b)，它们各自具有分配管道(106a、106b)和一或多个喷嘴(712)。另外，描述一种包括材料沉积布置的真空沉积腔室、以及一种用于在真空沉积腔室中将已蒸发的材料沉积在基板上的方法。
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公开(公告)号：CN108966660B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201780011244.1
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 哈拉尔德·沃斯特 , 乌韦·许斯勒
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)。材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，材料沉积源(105)具有被配置为蒸发材料的坩埚(110)、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的分配组件(120)以及被配置为用于在坩埚(110)与分配组件(120)之间的连接处(112)施加接触力的力施加装置(130)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111304595A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010082051.9
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
Abstract: 描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与阀流体连通且在阀下游，其中蒸发区被配置以蒸发液化材料；及一或更多出口，所述一或更多出口用于将蒸发材料导向基板。
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公开(公告)号：CN108966660A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780011244.1
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 哈拉尔德·沃斯特 , 乌韦·许斯勒
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)。材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，材料沉积源(105)具有被配置为蒸发材料的坩埚(110)、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的分配组件(120)以及被配置为用于在坩埚(110)与分配组件(120)之间的连接处(112)施加接触力的力施加装置(130)。
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公开(公告)号：CN105874095A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380081379.7
申请日：2013-12-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乌韦·许斯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 卡尔·阿尔伯特·凯姆 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
CPC classification number: C23C14/14 , B01D1/0064 , B01D1/0082 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/542 , C23C14/545
Abstract: 本发明揭露一种用于蒸发材料及用于将所述材料沉积于基板上的沉积装置，所述材料包括碱金属或碱土金属。沉积装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置为用于使材料液化，其中第一腔室包括气体入口，所述气体入口被配置为用于使气体进入第一腔室；蒸发区域，所述蒸发区域被配置为用于使液化的材料蒸发；管线，提供第一腔室与蒸发区域之间的用于液化的材料的流体连通，其中管线包含第一部分，所述第一部分限定管线的流动阻力；阀，所述阀被配置为用于控制第一腔室中的气体的流率而用于控制通过具有所述流动阻力的管线的液化的材料的流率；及一或多个出口，用于将蒸发的材料引向基板。
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公开(公告)号：CN104884664A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380066886.3
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述用于蒸发包括碱金属或碱土金属的材料及用于沉积所述材料于基板上的沉积装置。所述装置包含：第一腔室，所述第一腔室被配置以液化材料；阀，所述阀与第一腔室流体连通且在第一腔室下游，其中阀被配置以控制液化材料通过阀的流率；蒸发区，所述蒸发区与阀流体连通且在阀下游，其中蒸发区被配置以蒸发液化材料；及一或更多出口，所述一或更多出口用于将蒸发材料导向基板。
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公开(公告)号：CN112912533B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201880098803.1
申请日：2018-11-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用于沉积蒸发的材料的沉积源。所述沉积源(100)包括分配布置(110)，所述分配布置具有多个出口(111)以用于在主沉积方向(101)上提供蒸发的第一材料(A)和蒸发的第二材料(B)。另外，所述沉积源包括测量组件(120)，所述测量组件用于测量所述蒸发的第一材料(A)的第一沉积速率并用于测量所述蒸发的第二材料(B)的第二沉积速率。所述测量组件(120)具有处于与所述主沉积方向(101)交叉的方向上的主检测方向(102)。此外，所述沉积源(100)包括分离元件(130)，所述分离元件用于在与所述主检测方向(102)交叉的方向上分离所述蒸发的第一材料(A)和所述蒸发的第二材料(B)。所述分离元件(130)在所述主检测方向(102)上布置在所述多个出口(111)与所述测量组件(120)之间。
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