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公开(公告)号：CN111492459A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201880081028.9
申请日：2018-12-14
申请人： 应用材料公司
发明人： 卡洛·贝拉 , 德米特里·A·季利诺 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 约翰·C·福斯特 , T·塔纳卡
摘要： 等离子体源组件，所述等离子体源组件包括：RF热电极，所述RF热电极具有主体；和至少一个返回电极，所述至少一个返回电极与所述RF热电极间隔开以提供间隙，等离子体能够形成在所述间隙中。RF馈电器在距所述RF热电极的内周端部的某个距离处连接到所述RF热电极，所述距离小于或等于所述RF热电极的长度的约25％。所述RF热电极可包括与所述RF热电极的所述主体成某个角度延伸的腿和在所述腿附近的可选的三角形部分。在所述RF热电极和所述返回电极中的一个或多个上的包层材料可沿所述等离子体间隙的长度可变地间隔开或具有可变性质。
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公开(公告)号：CN110582835A
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201880012730.X
申请日：2018-02-19
申请人： 应用材料公司
摘要： 利用多阴极腔室处理基板的方法和设备。多阴极腔室包括具有多个孔和多个分流器的屏蔽件。屏蔽件是可旋转的，以定向这些孔和分流器与位于屏蔽件上方的多个阴极。这些分流器与来自阴极的多个磁体相互作用，以防止处理过程中的干扰。可升高和降低屏蔽件以调节在阴极的靶和孔之间的间隙，以在处理过程中提供暗空间。
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公开(公告)号：CN113785084B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202080032707.4
申请日：2020-05-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 阿道夫·M·艾伦 , 凡妮莎·法恩 , 华忠强 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 菲利普·A·克劳斯 , 龚则敬 , 周磊 , 哈伯特·冲 , 瓦贝哈夫·索尼 , 基索尔·卡拉提帕拉比尔
摘要： 本文提供工艺配件屏蔽物和包含该工艺配件屏蔽物的工艺腔室的实施方式。在一些实施方式中，被配置成用于在工艺腔室中使用以处理基板的工艺配件包括：屏蔽物，该屏蔽物具有圆柱形主体，该圆柱形主体具有上部分和下部分；适配器部分，该适配器部分经配置以被支撑在工艺腔室的壁上并且具有用于支撑屏蔽物的搁置表面；和加热器，该加热器耦接至适配器部分并且经配置以电耦接至工艺腔室的至少一个电源以加热屏蔽物。
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公开(公告)号：CN111819657B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN201980016589.5
申请日：2019-03-01
申请人： 应用材料公司
发明人： J·库德拉 , 田中努 , 亚历山大·V·加拉琴科 , 德米特里·A·季利诺 , 阿维纳什·舍韦盖尔 , 卡洛·贝拉 , 李小浦 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 约翰·C·福斯特
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 描述了等离子体源组件、包括等离子体源组件的气体分配组件和产生等离子体的方法。等离子体源组件包括供电电极，具有与第一侧相邻的接地电极和与第二侧相邻的电介质。第一微波产生器经由第一馈电器而电耦合到供电电极的第一端，并且第二微波产生器经由第二馈电器而电耦合到供电电极的第二端。
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公开(公告)号：CN111492459B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201880081028.9
申请日：2018-12-14
申请人： 应用材料公司
发明人： 卡洛·贝拉 , 德米特里·A·季利诺 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 约翰·C·福斯特 , T·塔纳卡
摘要： 等离子体源组件，所述等离子体源组件包括：RF热电极，所述RF热电极具有主体；和至少一个返回电极，所述至少一个返回电极与所述RF热电极间隔开以提供间隙，等离子体能够形成在所述间隙中。RF馈电器在距所述RF热电极的内周端部的某个距离处连接到所述RF热电极，所述距离小于或等于所述RF热电极的长度的约25％。所述RF热电极可包括与所述RF热电极的所述主体成某个角度延伸的腿和在所述腿附近的可选的三角形部分。在所述RF热电极和所述返回电极中的一个或多个上的包层材料可沿所述等离子体间隙的长度可变地间隔开或具有可变性质。
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公开(公告)号：CN110582835B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201880012730.X
申请日：2018-02-19
申请人： 应用材料公司
摘要： 利用多阴极腔室处理基板的方法和设备。多阴极腔室包括具有多个孔和多个分流器的屏蔽件。屏蔽件是可旋转的，以定向这些孔和分流器与位于屏蔽件上方的多个阴极。这些分流器与来自阴极的多个磁体相互作用，以防止处理过程中的干扰。可升高和降低屏蔽件以调节在阴极的靶和孔之间的间隙，以在处理过程中提供暗空间。
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公开(公告)号：CN113785084A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080032707.4
申请日：2020-05-13
申请人： 应用材料公司
发明人： 阿道夫·M·艾伦 , 凡妮莎·法恩 , 华忠强 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 菲利普·A·克劳斯 , 龚则敬 , 周磊 , 哈伯特·冲 , 瓦贝哈夫·索尼 , 基索尔·卡拉提帕拉比尔
摘要： 本文提供工艺配件屏蔽物和包含该工艺配件屏蔽物的工艺腔室的实施方式。在一些实施方式中，被配置成用于在工艺腔室中使用以处理基板的工艺配件包括：屏蔽物，该屏蔽物具有圆柱形主体，该圆柱形主体具有上部分和下部分；适配器部分，该适配器部分经配置以被支撑在工艺腔室的壁上并且具有用于支撑屏蔽物的搁置表面；和加热器，该加热器耦接至适配器部分并且经配置以电耦接至工艺腔室的至少一个电源以加热屏蔽物。
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公开(公告)号：CN111819657A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980016589.5
申请日：2019-03-01
申请人： 应用材料公司
发明人： J·库德拉 , 田中努 , 亚历山大·V·加拉琴科 , 德米特里·A·季利诺 , 阿维纳什·舍韦盖尔 , 卡洛·贝拉 , 李小浦 , 阿南塔·K·萨布拉曼尼 , 约翰·C·福斯特
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 描述了等离子体源组件、包括等离子体源组件的气体分配组件和产生等离子体的方法。等离子体源组件包括供电电极，具有与第一侧相邻的接地电极和与第二侧相邻的电介质。第一微波产生器经由第一馈电器而电耦合到供电电极的第一端，并且第二微波产生器经由第二馈电器而电耦合到供电电极的第二端。
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公开(公告)号：CN212392209U
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201890001014.7
申请日：2018-06-05
申请人： 应用材料公司
摘要： 公开用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件、多阴极处理腔室和用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件部件。工艺配件包括以下中的一个或多个：锥形屏蔽物、可旋转的屏蔽物、护罩、内部沉积环、外部沉积环或盖环。在一些实施方式中，工艺配件包括：可旋转的屏蔽物，可旋转的屏蔽物具有底座、锥形部分和套环部分，锥形部分从底座向下且向外延伸，套环部分从锥形部分向外延伸；内部沉积环，具有腿部分、平直部分、第一凹部与第一唇部，平直部分从腿部分向内延伸，第一凹部从平直部分向内延伸，第一唇部从第一凹部的最内区段向上延伸；和外部沉积环，具有套环部分、上平直部分、第二凹部与第二唇部，上平直部分在套环部分上方且从套环部分向内延伸，第二凹部从上平直部分向内延伸，第二唇部从第二凹部向上延伸。
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公开(公告)号：CN215731576U
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202120006281.7
申请日：2018-06-05
申请人： 应用材料公司
摘要： 公开用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件、多阴极处理腔室和用于在多阴极处理腔室中使用的工艺配件部件。工艺配件包括以下中的一个或多个：锥形屏蔽物、可旋转的屏蔽物、护罩、内部沉积环、外部沉积环或盖环。在一些实施方式中，工艺配件包括：可旋转的屏蔽物，可旋转的屏蔽物具有底座、锥形部分和套环部分，锥形部分从底座向下且向外延伸，套环部分从锥形部分向外延伸；内部沉积环，具有腿部分、平直部分、第一凹部与第一唇部，平直部分从腿部分向内延伸，第一凹部从平直部分向内延伸，第一唇部从第一凹部的最内区段向上延伸；和外部沉积环，具有套环部分、上平直部分、第二凹部与第二唇部，上平直部分在套环部分上方且从套环部分向内延伸，第二凹部从上平直部分向内延伸，第二唇部从第二凹部向上延伸。
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