公开(公告)号：CN106165069A

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201580016760.4

申请日：2015-03-18

申请人： 应用材料公司

发明人： S·J·金 ,  L·卡琳塔 ,  Y·帕里克 ,  A·卡达姆 ,  P·S·古拉迪雅 ,  B·塔库尔 ,  D·卢博米尔斯基

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC分类号： C23C22/66 ,  C23C14/22 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/50 ,  C23C22/56 ,  C23F1/16 ,  C23F1/20 ,  C23F1/32 ,  C23F1/36 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32532 ,  H01J37/3255 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67306 ,  Y10T428/24322 ,  Y10T428/24355

摘要： 用于在铝部件上生成紧密的氧化铝钝化层的工艺包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；干燥此部件达至少1分钟；以及在低于10℃的温度下，将此部件暴露于浓硝酸达1至30分钟。所述工艺也包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；干燥此部件达至少1分钟；以及将此部件暴露于NH4OH达1秒至1分钟。所述工艺进一步包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；以及干燥此部件达至少1分钟。用于等离子体处理系统的部件包括铝部件，所述铝部件涂覆有AlxOy膜，所述AlxOy膜具有4纳米至8纳米的厚度，并且所述AlxOy膜的表面粗糙度比不具有所述AlxOy薄膜的部件的表面粗糙度增加少于0.05微米。

公开(公告)号：CN106165069B

公开(公告)日：2021-01-01

申请号：CN201580016760.4

申请日：2015-03-18

申请人： 应用材料公司

发明人： S·J·金 ,  L·卡琳塔 ,  Y·帕里克 ,  A·卡达姆 ,  P·S·古拉迪雅 ,  B·塔库尔 ,  D·卢博米尔斯基

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/02

摘要： 用于在铝部件上生成紧密的氧化铝钝化层的工艺包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；干燥此部件达至少1分钟；以及在低于10℃的温度下，将此部件暴露于浓硝酸达1至30分钟。所述工艺也包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；干燥此部件达至少1分钟；以及将此部件暴露于NH4OH达1秒至1分钟。所述工艺进一步包括以下步骤：在去离子水中冲洗部件达至少1分钟；以及干燥此部件达至少1分钟。用于等离子体处理系统的部件包括铝部件，所述铝部件涂覆有AlxOy膜，所述AlxOy膜具有4纳米至8纳米的厚度，并且所述AlxOy膜的表面粗糙度比不具有所述AlxOy薄膜的部件的表面粗糙度增加少于0.05微米。

公开(公告)号：CN101415857B

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN200780011777.6

申请日：2007-04-06

申请人： 应用材料公司

发明人： A·K·劳 ,  稻川真 ,  B·O·史汀生 ,  细川昭弘 ,  J·M·怀特 ,  Y·叶 ,  A·卡达姆 ,  李洋平

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： C23C14/0063 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/34

摘要： 本发明大体上包括一个或多个冷却的阳极，这些冷却阳极遮盖着一个或多个气体引导管，其中这些冷却阳极与这些气体引导管跨越了定义在溅射室中且介在一个或多个溅射靶与一个或多个基材之间的处理空间。这些气体引导管可能具有多个气体出口，以将导入的气体导向远离该一个或多个基材的方向。这些气体引导管可引导诸如氧气等反应性气体进入溅射室中，以利用反应性溅射作用来沉积TCO膜层。在多步骤溅射工艺中，可改变气流(即，气体的量与种类)、靶与基材之间的间距以及直流功率来达到想要的结果。