公开(公告)号：CN108292600A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680052365.6

申请日：2016-07-25

申请人： 应用材料公司

发明人： S·巴苏 ,  J·李 ,  P·康纳斯 ,  D·R·杜鲍斯 ,  P·K·库尔施拉希萨 ,  K·T·纳拉辛哈 ,  B·贝伦斯 ,  K·高希 ,  周建华 ,  G·巴拉苏布拉马尼恩 ,  K·D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  H·小木曾 ,  L·克里武莉娜 ,  R·吉尔伯特 ,  M·瓦卡尔 ,  V·山卡拉姆茜 ,  H·K·波内坎蒂

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/67069 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32366 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68785

摘要： 本文公开的实现描述一种在装载锁定斜面蚀刻腔室内的斜面蚀刻设备及其使用方法。所述斜面蚀刻设备具有在装载锁定斜面蚀刻腔室内的掩模组件。在蚀刻处理期间，掩模组件传输气体流，以控制斜面蚀刻，而无需使用阴影框。如此，在所述斜面边缘处的所述边缘排除可被减少，由此提高产品的良率。