公开(公告)号：CN103222033A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201180056390.9

申请日：2011-10-27

申请人： 应用材料公司

发明人： Y-H·杨 ,  A·坎古德 ,  S·巴录佳 ,  M·马丁内利 ,  L·克里武莉娜 ,  T·诺瓦克 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  S·亨德里克森

IPC分类号： H01L21/26 ,  H01L21/205

CPC分类号： H05B41/3921 ,  H01L21/67115 ,  H05B41/3922

摘要： 本发明大致上涉及控制UV灯输出以增加辐照度均匀性的方法。这些方法大致上包含决定腔室内的基准线辐照度，决定与第一灯及第二灯相对应的基板上的相对辐照度，以及根据相对辐照度与基准线辐照度决定修正因子或补偿因子。然后使用修正因子或补偿因子经由闭环控制来调整灯，以单独地将灯调整至要求的输出。在将这些灯调整至要求的输出之前，可选择性地将这些灯调整成相等的辐照度。该闭环控制确保基板与基板之间的处理均匀性。辐照度测量以及修正因子或补偿因子允许由于腔室部件劣化、腔室部件替换或腔室清洁而对灯设定点的调整。

公开(公告)号：CN108292600A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680052365.6

申请日：2016-07-25

申请人： 应用材料公司

发明人： S·巴苏 ,  J·李 ,  P·康纳斯 ,  D·R·杜鲍斯 ,  P·K·库尔施拉希萨 ,  K·T·纳拉辛哈 ,  B·贝伦斯 ,  K·高希 ,  周建华 ,  G·巴拉苏布拉马尼恩 ,  K·D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 ,  H·小木曾 ,  L·克里武莉娜 ,  R·吉尔伯特 ,  M·瓦卡尔 ,  V·山卡拉姆茜 ,  H·K·波内坎蒂

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/67069 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32366 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32715 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68785

摘要： 本文公开的实现描述一种在装载锁定斜面蚀刻腔室内的斜面蚀刻设备及其使用方法。所述斜面蚀刻设备具有在装载锁定斜面蚀刻腔室内的掩模组件。在蚀刻处理期间，掩模组件传输气体流，以控制斜面蚀刻，而无需使用阴影框。如此，在所述斜面边缘处的所述边缘排除可被减少，由此提高产品的良率。