公开(公告)号：CN1735478A

公开(公告)日：2006-02-15

申请号：CN03803195.7

申请日：2003-02-06

申请人： 应用材料股份有限公司

发明人： 曼伍却尔·拜蓝 ,  柏格斯劳·A·史威克 ,  金景哲

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B49/10 ,  B24B49/12 ,  B24D13/14

CPC分类号： B24B49/10 ,  B24B37/013 ,  B24B37/205 ,  B24B49/105 ,  B24B49/12

摘要： 一种研磨系统(20)，可具有一转动平台(24)；一固定于平台上的研磨垫(30)；一固定基材使其正面朝下对着研磨垫的载具头(10)；以及一漩涡电流监测系统，该漩涡电流监测系统包括至少部分通过研磨垫的一线圈或一强磁体。一研磨垫，具有一研磨层，和固定于该研磨层上的一线圈或一强磁体。一凹槽可以在该研磨垫里的透明窗中形成。

公开(公告)号：CN101172332A

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：CN200710163298.8

申请日：2003-02-06

申请人： 应用材料股份有限公司

发明人： 曼伍却尔·拜蓝 ,  柏格斯劳·A·史威克 ,  金景哲

IPC分类号： B24B37/04 ,  B24B29/00 ,  B24D13/14 ,  H01L21/304

CPC分类号： B24B49/10 ,  B24B37/013 ,  B24B37/205 ,  B24B49/105 ,  B24B49/12

摘要： 一种研磨系统(20)，可具有一转动平台(24)；一固定于平台上的研磨垫(30)；一固定基材使其正面朝下对着研磨垫的载具头(10)；以及一漩涡电流监测系统，该漩涡电流监测系统包括至少部分通过研磨垫的一线圈或一强磁体。一研磨垫，具有一研磨层，和固定于该研磨层上的一线圈或一强磁体。一凹槽可以在该研磨垫里的透明窗中形成。