公开(公告)号：CN1961259B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200580017198.3

申请日：2005-03-30

申请人： 惠普开发有限公司

发明人： P·科尼洛维奇 ,  P·马蒂洛维奇 ,  J·斯塔斯亚克 ,  N·希鲁科瓦鲁

IPC分类号： G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/76838 ,  C23C4/123 ,  C23C4/18 ,  C30B29/68 ,  G03F7/40 ,  H01L21/4846 ,  H05K3/20 ,  H05K3/205 ,  H05K2203/0117 ,  H05K2203/025

摘要： 本公开涉及用于制造和使用超晶格1600的系统和方法。可通过在脊902上设置交替的材料层1302和1304以及除去一些交替的层来让边缘1504和1506曝光来制造超晶格1600。这些暴露的边缘1504和1506的长度和曲率几乎是任意的。可以用这些边缘1504和1506来制造纳米级宽度的弯曲线1902。

公开(公告)号：CN1961259A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200580017198.3

申请日：2005-03-30

申请人： 惠普开发有限公司

发明人： P·科尼洛维奇 ,  P·马蒂洛维奇 ,  J·斯塔斯亚克 ,  N·希鲁科瓦鲁

IPC分类号： G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/76838 ,  C23C4/123 ,  C23C4/18 ,  C30B29/68 ,  G03F7/40 ,  H01L21/4846 ,  H05K3/20 ,  H05K3/205 ,  H05K2203/0117 ,  H05K2203/025

摘要： 本公开涉及用于制造和使用超晶格1600的系统和方法。可通过在脊902上设置交替的材料层1302和1304以及除去一些交替的层来让边缘1504和1506曝光来制造超晶格1600。这些暴露的边缘1504和1506的长度和曲率几乎是任意的。可以用这些边缘1504和1506来制造纳米级宽度的弯曲线1902。