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公开(公告)号：CN101887730B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN200910145687.7
申请日：2009-05-15
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种磁头滑块的制造方法：在磁头滑块的空气承载面上形成第一保护膜，其包括在空气承载面上依次层积第一硅膜和第一类金刚石碳膜，磁头滑块形成有写入元件和读取元件中的至少任意一个（步骤S3）；在形成了第一保护膜的空气承载面上形成用于控制磁头滑块的飞行特性的凹凸部，第一保护膜在形成凹凸部的部位被破坏（步骤S4）；从形成了凹凸部的空气承载面开始将第一保护膜的一部分厚度除去使该第一保护膜变薄，其包括将第一类金刚石碳膜全部除去，再将第一硅膜的一部分厚度除去，从而使第一硅膜的厚度小于1nm（步骤S5）；在变薄后的第一保护膜上形成第二保护膜（步骤S6）。该磁头滑块的制造方法可形成抑制膜厚度并且耐腐蚀性优异的保护膜。
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公开(公告)号：CN1811922A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610005988.6
申请日：2006-01-16
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: G11B5/39
CPC classification number: G11B5/3166 , G11B5/102 , G11B5/3163 , G11B5/3173 , G11B5/6011
Abstract: 本发明提供一种具有对规定结构体R进行表面形成处理的表面形成部的表面形成装置，其中，表面形成部是对结构体照射具有规定照射能量、并可向一定方向照射的能量束的照射部(1)。通过本发明的表面形成装置可得到不发生机械加工变质、均匀且高品质的结构体。
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公开(公告)号：CN100370521C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200510067692.2
申请日：2005-04-22
Applicant: 新科实业有限公司
Inventor： 上田国博
CPC classification number: C23C14/022 , C23C14/025 , C23C14/0605 , C23C14/325
Abstract: 一种薄膜磁头制造方法包括如下步骤：将在上面形成有大量薄膜磁头元件的晶片切割成每一个都具有多个对准的薄膜磁头元件的排件的步骤，通过离子束腐蚀方法清洗每个所切割排件与磁记录介质相对的表面的步骤，在排件的清洁表面上沉积保护膜的步骤，和之后分离该排件的步骤。
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公开(公告)号：CN1825436A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610005989.0
申请日：2006-01-16
Applicant: 新科实业有限公司
CPC classification number: G11B5/6005 , C23F4/00 , G11B5/6082
Abstract: 本发明提供一种面形状形成装置，该装置包括：对蚀刻对象(1)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成装置(2)、以及对形成有保护层的蚀刻对象(1)的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻装置，其中，保护层形成装置(2)包括：对蚀刻对象(1)的规定表面喷射保护层材料A从而形成规定形状的保护层的保护层喷射装置(2)。本发明的面形状形成装置在短时间内低成本地形成蚀刻对象的面形状，并实现所形成的面形状的高精度化。
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公开(公告)号：CN1822109A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610005991.8
申请日：2006-01-16
Applicant: 新科实业有限公司
CPC classification number: G11B5/102 , G11B5/187 , G11B5/6005 , G11B5/6082
Abstract: 本发明提供的面形状形成装置包括：对蚀刻对象(1)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成装置、以及对形成有保护层的蚀刻对象(1)的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻装置，其中，保护层形成装置包括：在蚀刻对象的规定表面上附着保护层材料的保护层附着装置，以及对该被附着的保护层材料照射激光束并去除一部分保护层材料从而修整成规定形状的激光照射装置(2)。本发明的面形状形成装置可短时间、低成本的形成蚀刻对象的面形状，并实现该形成的面形状的高精度化。
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公开(公告)号：CN101887730A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200910145687.7
申请日：2009-05-15
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种磁头滑块的制造方法，该方法包括：在磁头滑块的空气承载面上形成第一保护膜，磁头滑块形成有写入元件和读取元件中的至少任意一个(步骤S3)；在形成了第一保护膜的磁头滑块的空气承载面上形成用于控制磁头滑块的飞行特性的凹凸部(步骤S4)；从形成了凹凸部的磁头滑块的空气承载面开始将第一保护膜的一部分除去使该第一保护膜变薄(步骤S5)；在变薄后的第一保护膜上形成第二保护膜(步骤S6)。本发明的磁头滑块的制造方法可在磁头滑块上形成抑制膜厚度并且耐腐蚀性优异的保护膜。
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公开(公告)号：CN101046969A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200610075072.8
申请日：2006-03-31
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 一种具有微纹(micro－texture)的磁头的制造方法，包括如下步骤：(1)提供由复数磁头构成的长形磁条，其中每个磁头包括一个空气支承面及设于其上的极尖区域(pole tip region)；(2)在所述每个磁头的极尖区域上形成第一保护膜；(3)蚀刻所述磁头的空气支承面而在其上形成凹凸相间的微纹(micro－texture)，所述极尖区域由于第一保护膜的保护而免于被蚀刻；(4)去除覆盖于所述磁头极尖区域上的第一保护膜；(5)在所述磁头的空气支承面上形成第二保护膜。该方法可使磁头的极尖区域在制造过程中不受影响，从而可保证磁头的读写性能，并保证可在磁头的空气支承面及其极尖区域上形成完整的保护膜，从而提高磁头的抗腐蚀性能。
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公开(公告)号：CN1758340A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200510085658.8
申请日：2005-07-22
Applicant: 新科实业有限公司
Inventor： 上田国博
CPC classification number: G11B5/102 , G11B5/187 , G11B5/3173 , G11B5/40 , G11B5/6005 , G11B5/6082
Abstract: 本发明公开了一种磁头及其制造方法，本发明的磁头包括基体、形成在该基体之上的磁头单元、以及形成在与磁性存储介质一侧相对的上述基体的至少一部位上的保护膜，上述保护膜从基体一侧算起依次由第一DLC膜(类金刚石碳膜)与第二DLC膜构成，上述第一DLC膜为碳膜密度低于3.1(g/cm3)的膜，上述第二DLC膜为碳膜密度高于3.1(g/cm3)的膜。
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公开(公告)号：CN101452706B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200710196399.5
申请日：2007-11-28
Abstract: 本发明提供一种耐腐蚀性良好的薄膜保护膜的形成方法，根据该方法可以提供高品质的被保护体。本发明所涉及的在被保护体的至少一部分表面形成保护膜的方法，包括在所述被保护体的表面形成底膜的底膜形成工序及在该底膜上形成类金刚石碳膜的DLC膜形成工序；其中，在所述底膜形成工序中，反复进行在沉积规定膜厚的底膜之后再沿着膜厚度方向部分除去该底膜的环节，从而在被保护体的表面多次形成底膜。而且，还包括在进行所述DLC膜形成工序之前进行的在所述形成类金刚石碳膜的底膜表面上形成绝缘层的绝缘层形成工序。
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