公开(公告)号：CN110476003B

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN201880023135.6

申请日：2018-03-28

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  岛崎雄太 ,  渡边太一 ,  山本祐辅 ,  绀谷友广

IPC: F16L59/08 ,  C09J7/40 ,  B32B27/06 ,  B32B27/08 ,  B32B27/28 ,  B32B27/36 ,  B32B27/40 ,  B32B33/00

Abstract: 本发明提供不仅保护薄膜的表面上的耐擦伤性优异、而且保护薄膜剥离后的最外层的耐擦伤性也优异的隔热绝热基板。本发明的隔热绝热基板包含透明基板层和红外线反射层，在该红外线反射层的与该透明基板层相反一侧具备保护顶涂层，在该保护顶涂层的与该红外线反射层相反一侧的表面具备保护薄膜，在温度23±1℃、湿度50±5％RH的环境下的该保护薄膜相对于该保护顶涂层的180度剥离力为0.01N/50mm～0.40N/50mm，在温度80±1℃的环境下保管10天后的该保护薄膜相对于该保护顶涂层的180度剥离力为0.01N/50mm～1.0N/50mm。

公开(公告)号：CN118330791A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202410047692.9

申请日：2024-01-11

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  高见佳史

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G09F9/00

Abstract: [课题]提供能够在抑制外部光的反射眩光的同时抑制放电痕迹的产生的防反射薄膜、以及使用了该防反射薄膜的图像显示装置。[解决方案]防反射薄膜(10)依次具有透明薄膜基材(11)、硬涂层(12)、防反射层(13)以及防污层(19)。防污层(19)为防反射薄膜(10)的最表层。防污层(19)的与防反射层(13)侧相反的一侧的主面(19a)的最大高度Rz为0.40μm以上。防反射薄膜(10)中，对防污层(19)的与防反射层(13)侧相反的一侧的主面(19a)施加5.0V的偏置电压时，主面(19a)的最大表面电位为5.8V以下。

公开(公告)号：CN118330790A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202410041038.7

申请日：2024-01-11

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 高见佳史 ,  渡边圣彦

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G09F9/00

Abstract: [课题]提供能够在抑制外部光的反射眩光的同时抑制放电痕迹的产生的防反射薄膜、以及使用了该防反射薄膜的图像显示装置。[解决方案]防反射薄膜(10)依次具有透明薄膜基材(11)、硬涂层(12)、防反射层(13)以及防污层(19)。防污层(19)为防反射薄膜(10)的最表层。防污层(19)的与防反射层(13)侧相反的一侧的主面(19a)的最大高度Rz为0.40μm以上。防污层(19)包含具有化学式CF3O‑所示的末端结构的含氟化合物。防反射薄膜(10)中，利用飞行时间型二次离子质谱法对防污层(19)的与防反射层(13)侧相反的一侧的主面(19a)进行分析时，CF3O碎片的最低离子强度相对于HSiO3碎片的平均离子强度的比的值为35以上。

公开(公告)号：CN106739242A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201710030408.7

申请日：2014-01-29

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  大森裕

IPC: B32B9/00 ,  B32B9/04 ,  B32B15/04 ,  B32B27/06 ,  B32B7/10 ,  B32B33/00

CPC classification number: G02B5/0875 ,  C23C14/08 ,  C23C14/086 ,  C23C14/14 ,  G02B1/04 ,  G02B1/14 ,  G02B5/208 ,  G02B5/26 ,  G02B5/282

Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜。所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上按顺序具备红外线反射层(20)和透明保护层(30)。红外线反射层(20)从透明薄膜基材(10)侧起按顺序具备第一金属氧化物层(21)、以银为主要成分的金属层(25)、和由含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物形成的第二金属氧化物层(22)，透明保护层(30)为厚度30nm～130nm的有机物层。

公开(公告)号：CN105584120A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201510993524.X

申请日：2014-01-29

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  大森裕

IPC: B32B9/00 ,  B32B9/04 ,  B32B27/36 ,  B32B33/00

CPC classification number: G02B5/0875 ,  C23C14/08 ,  C23C14/086 ,  C23C14/14 ,  G02B1/04 ,  G02B1/14 ,  G02B5/208 ,  G02B5/26 ,  G02B5/282 ,  B32B9/00 ,  B32B9/041 ,  B32B9/045 ,  B32B27/36 ,  B32B33/00 ,  B32B2307/304 ,  B32B2307/40 ,  B32B2307/416 ,  B32B2307/42

Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜。所述红外线反射薄膜(100)在透明薄膜基材(10)上按顺序具备红外线反射层(20)和透明保护层(30)。红外线反射层(20)从透明薄膜基材侧(10)起按顺序具备第一金属氧化物层(21)、以银为主要成分的金属层(25)、和由含氧化锌和氧化锡的复合金属氧化物形成的第二金属氧化物层(22)。透明保护层(30)直接与所述第二金属氧化物层(22)相接，透明保护层(30)是厚度为30nm～150nm的有机物层。

公开(公告)号：CN103966559A

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201410042784.4

申请日：2014-01-29

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  大森裕

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/14 ,  G02B5/08

CPC classification number: H01J37/3429 ,  B29L2011/0083 ,  B32B38/0008 ,  B32B2037/243 ,  B32B2038/0092 ,  B32B2309/02 ,  B32B2309/04 ,  B32B2309/105 ,  B32B2309/62 ,  B32B2309/66 ,  B32B2310/0831 ,  C23C14/086 ,  C23C14/205 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3414 ,  G02B5/208 ,  G02B5/26 ,  H01J2237/332

Abstract: 本发明涉及红外线反射薄膜的制造方法。所述红外线反射薄膜（100）在透明薄膜基材（10）上按顺序具备红外线反射层（20）和透明保护层（30），所述红外线反射层具有金属层（25）和金属氧化物层（21，22）。在本发明的制造方法中，金属氧化物层通过使用卷取式溅射装置的直流溅射法来制膜。在直流溅射法中使用的溅射靶含有锌原子和锡原子。溅射靶优选为将氧化锌和氧化锡中的至少一种金属氧化物与金属粉末烧结而得到的靶。

公开(公告)号：CN117098655A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202280023593.6

申请日：2022-03-02

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 山田恭太郎 ,  山下纱也加 ,  渡边圣彦

IPC: B32B9/00

Abstract: 本发明的阻气膜具备有机基材和设置在所述有机基材的一个表面侧的无机透明阻挡层，其中，所述无机透明阻挡层包含阻挡材料作为主成分，且包含Kr和Xe中的至少一种。

公开(公告)号：CN115315537A

公开(公告)日：2022-11-08

申请号：CN202180020973.X

申请日：2021-03-02

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 渡边圣彦 ,  中村年孝 ,  待永广宣

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/20 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  C30B23/08 ,  C30B25/18 ,  C30B29/38 ,  H01L21/203 ,  H01L41/187 ,  H01L41/316

Abstract: 本申请提供抑制对于氮化物层的污染，改善了结晶性的氮化物层叠体。所述氮化物层叠体具备高分子基材以及形成于上述高分子基材的至少一面的氮化物层，上述氮化物层为具有纤维锌矿型晶体结构的氮化物层，上述氮化物层所包含的氧原子的存在原子量为2.5atm.％以下，氢原子的存在原子量为2.0atm.％以下，X射线摇摆曲线的半值总宽度为8°以下。

公开(公告)号：CN106575006A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580042091.8

申请日：2015-08-03

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 中西阳介 ,  渡边圣彦 ,  大森裕

IPC: G02B5/26 ,  B32B7/02 ,  B32B15/01 ,  G02B5/22

CPC classification number: G02B5/282 ,  B05D3/067 ,  B32B7/02 ,  B32B15/01 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3642 ,  C03C17/3647 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681 ,  C03C17/38 ,  C03C2217/23 ,  C03C2218/156 ,  C23C14/086 ,  C23C14/185 ,  C23C14/35 ,  C23C14/562 ,  G02B1/111 ,  G02B5/22 ,  G02B5/26

Abstract: 本发明提供一种红外线反射基板，所述红外线反射基板(100)在透明薄膜基材(10)上依次具备以银为主要成分的红外线反射层(23)及光吸收性金属层(25)。光吸收性金属层(25)的膜厚为15nm以下，透明保护层(30)的膜厚为10nm～120nm。光吸收性金属层(25)与透明保护层(30)的间隔为25nm以下。根据本发明，可提供可见光反射率低、可视性优异、并且生产率优异的红外线反射基板。

公开(公告)号：CN103155705B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201180048747.9

申请日：2011-11-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 森田成纪 ,  垣内良平 ,  长濑纯一 ,  根岸伸和 ,  中井孝洋 ,  市枝直子 ,  渡边圣彦

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/24 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/56 ,  C23C14/12 ,  C23C14/562 ,  H01L51/0008 ,  H01L51/001

Abstract: 本发明提供一种有机EL元件的制造方法。有机EL元件的制造方法包括蒸镀工序，在蒸镀工序中，供给基材，使该基材的非电极层侧与驱动而旋转的筒状辊表面相抵接而使该基材移动并自蒸镀源的喷嘴喷出气化的有机层形成材料，在上述基材的电极层侧形成有机层，在有机EL元件的制造方法中，使用能够对距被上述筒状辊支承的上述基材的第1距离进行测量的距离测量部、能够调整上述蒸镀源的喷嘴与上述基材的表面之间的第2距离的位置调整部，根据上述距离测量部的上述第1距离的测量结果一边利用上述位置调整部以使上述第2距离恒定的方式进行控制一边进行上述蒸镀工序。