一种ALD镀膜方法及其设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118888640A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202410992089.8

    申请日:2024-07-23

    摘要: 本发明涉及一种ALD镀膜方法及其设备,属于光伏电池制备技术领域。包括:在第一恒定温度下,向反应腔体内部通入作为铝源的吸附气体,以在N型硅片上进行吸附反应;在第二恒定温度下,向反应腔体内部通入作为水源的氧化气体,以在N型硅片上进行氧化反应;之后再进行循环ALD镀膜处理,以使N型硅片背面的四周和正面形成初始氧化铝薄膜,再将N型硅片取出并降温,得到制备好的氧化铝薄膜。通过向反应腔体通入温度恒定的作为铝源的吸附气体和作为水源的氧化气体,使得铝源和水源能够在N型硅片的背面的四周和正面进行吸附反应和氧化反应,提高N型硅片的背面四周和正面形成的氧化铝薄膜的均匀性,提高TOPCon电池的钝化效果和光电转换效率。

    一种管式ALD镀膜方法及其系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117328039A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311298990.7

    申请日:2023-10-09

    IPC分类号: C23C16/455 C23C16/40

    摘要: 本发明涉及一种管式ALD镀膜方法及其系统,属于TOPCon电池及管式ALD镀膜技术领域。包括对装载有N型硅片的炉管进行抽真空处理和预热处理;在第一恒压下,将第一前驱体通入所述炉管中;在第二恒压下,将第二前驱体通入所述炉管中,得到一层原子层薄膜。进行ALD镀膜过程中,在第一恒压的条件下通入第一前驱体进行反应、以及在第二恒压的条件下通入第二前驱体进行反应,以保证第一前驱体和第二前驱体能够在N型硅片上均匀吸附,从而确保N型硅片上镀膜的均匀性,保证了电池片的钝化性能,提高光伏电池的工作效率和合格率。