纵型有机FET及其制造方法

    公开(公告)号:CN1839490A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:CN200480023853.1

    申请日:2004-08-23

    Inventor: 宫本明人

    CPC classification number: H01L51/0508 H01L51/0078 H01L51/057

    Abstract: 本发明提供一种抑制由有机半导体构成的活性层的分子取向、提高载流子迁移率的纵型有机FET。本发明涉及基板上至少设有源极层、漏极层、栅电极和活性层,具有源极层、活性层和漏极层依次叠层的结构的纵型有机FET,其特征在于:(1)上述源极层和漏极层实质上与基板表面平行地配置;(2)上述源极层和漏极层由导电性部件构成;(3)上述活性层实质上由以4价或6价的元素作为中心原子、并且分子面的上下方向分别配位有配位基X1和X2的酞菁类化合物构成;(4)上述化合物以上述化合物的各分子的分子面与源极层和漏极层中的至少一方成为平行状态的方式叠层。

    纵型有机FET及其制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100492697C

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200480023853.1

    申请日:2004-08-23

    Inventor: 宫本明人

    CPC classification number: H01L51/0508 H01L51/0078 H01L51/057

    Abstract: 本发明提供一种抑制由有机半导体构成的活性层的分子取向、提高载流子迁移率的纵型有机FET。本发明涉及基板上至少设有源极层、漏极层、栅电极和活性层,具有源极层、活性层和漏极层依次叠层的结构的纵型有机FET,其特征在于:(1)上述源极层和漏极层实质上与基板表面平行地配置;(2)上述源极层和漏极层由导电性部件构成;(3)上述活性层实质上由以4价或6价的元素作为中心原子、并且分子面的上下方向分别配位有配位基X1和X2的酞菁类化合物构成;(4)上述化合物以上述化合物的各分子的分子面与源极层和漏极层中的至少一方成为平行状态的方式叠层。

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