-
公开(公告)号：CN101040370A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200580034805.7
申请日：2005-10-12
IPC分类号： H01L21/304 , B24B21/00 , B24B9/00
CPC分类号： H01L21/02021 , B24B9/065 , B24B21/002
摘要： 一种抛光装置具有：抛光带(21)；供给卷轴(22)，用于把抛光带(21)供给到接触部分(30)中，在该接触部分上，抛光带(21)与基体(10)的凹槽部分(11)产生接触；及拾取卷轴(23)，用于缠绕来自接触部分(30)的抛光带(21)。该抛光装置还具有：第一导向部分(24)，它具有导向表面(241)从而把抛光带(21)直接供给到接触部分(30)中；及第二导向部分(25)，它具有导向表面，从而把抛光带(21)供给到拾取卷轴(23)中。第一导向部分(24)的导向表面(241)和/或第二导向部分(25)的导向表面具有与基体(10)的凹槽部分(11)的形状相对应的形状。
-
公开(公告)号：CN101687305A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880023985.2
申请日：2008-07-08
IPC分类号： B24B21/08 , B24B9/00 , B24B21/16 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/002 , B24B9/065 , H01L21/02021
摘要： 本发明的研磨装置具有：基板保持部(32)，保持基板(W)并使其旋转；加压垫(50)，将研磨带(41)的研磨面按压到基板保持部所保持的基板的坡口部上；以及进给机构(45)，使研磨带在其长度方向行进。加压垫(50)具有：硬质部件(51)，具有隔着研磨带按压基板的坡口部的按压面(51a)；和至少1个弹性部件(53)，将硬质部件隔着研磨带而向基板的坡口部按压。
-
公开(公告)号：CN101687305B
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200880023985.2
申请日：2008-07-08
IPC分类号： B24B21/08 , B24B9/00 , B24B21/16 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/002 , B24B9/065 , H01L21/02021
摘要： 本发明的研磨装置具有：基板保持部(32)，保持基板(W)并使其旋转；加压垫(50)，将研磨带(41)的研磨面按压到基板保持部所保持的基板的坡口部上；以及进给机构(45)，使研磨带在其长度方向行进。加压垫(50)具有：硬质部件(51)，具有隔着研磨带按压基板的坡口部的按压面(51a)；和至少1个弹性部件(53)，将硬质部件隔着研磨带而向基板的坡口部按压。
-
公开(公告)号：CN100452312C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200580034805.7
申请日：2005-10-12
IPC分类号： H01L21/304 , B24B21/00 , B24B9/00
CPC分类号： H01L21/02021 , B24B9/065 , B24B21/002
摘要： 一种抛光装置具有：抛光带(21)；供给卷轴(22)，用于把抛光带(21)供给到接触部分(30)中，在该接触部分上，抛光带(21)与基体(10)的凹槽部分(11)产生接触；及拾取卷轴(23)，用于缠绕来自接触部分(30)的抛光带(21)。该抛光装置还具有：第一导向部分(24)，它具有导向表面(241)从而把抛光带(21)直接供给到接触部分(30)中；及第二导向部分(25)，它具有导向表面，从而把抛光带(21)供给到拾取卷轴(23)中。第一导向部分(24)的导向表面(241)和/或第二导向部分(25)的导向表面具有与基体(10)的凹槽部分(11)的形状相对应的形状。
-
公开(公告)号：CN105658311B
公开(公告)日：2018-07-10
申请号：CN201480057705.5
申请日：2014-10-22
申请人： 株式会社荏原制作所
发明人： 高桥圭瑞
CPC分类号： B01D61/06 , B01D61/025 , B01D61/10 , B01D61/12 , B01D2313/18 , B01D2313/19 , B01D2313/246 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2201/005 , C02F2209/40 , C02F2303/10 , Y02A20/131 , Y02W10/30
摘要： 本发明涉及适合用于能量回收装置的给排水控制，该能量回收装置设置于从海水去除盐分来将海水淡化的海水淡化系统。通过从反渗透膜装置排出的浓缩海水的压力将海水升压的压力转换腔室(6)具备：第一给排水端口(7)，其与液体供给的切换阀(5)连接而进行给排水；第二给排水端口(9)，其与液体供给的方向切换阀(8)连接而进行给排水；液流阻力器(14)，其设置于腔室(6)的内部，在第一给排水端口侧对液流进行整流；液流阻力器(15)，其设置于腔室(6)的内部，在第二给排水端口侧对液流进行整流；流量计(16)，其设置于两个液流阻力器(14、15)之间，测量腔室(6)内的流体的流量。
-
公开(公告)号：CN102941522A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201210398644.1
申请日：2008-12-02
申请人： 株式会社荏原制作所
IPC分类号： B24B21/00 , B24B21/18 , B24B21/20 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/002 , B24B9/065 , B24B21/004 , B24B21/008 , B24B21/20 , B24B27/0076 , B24B37/042 , B24B37/30 , B24B41/068 , B24B49/00 , Y10T428/24777
摘要： 本发明提供一种用于抛光基片的外周的抛光装置。该抛光装置包括配置成水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构、设置在基片周围的多个抛光头组件、配置成将抛光带供给到多个抛光头组件并从多个抛光头组件收回抛光带的多个带供给与收回机构、以及配置成沿旋转保持机构保持的基片的径向方向移动多个抛光头组件的多个移动机构。所述带供给与收回机构沿着基片径向方向设置在多个抛光头组件的外侧，且所述带供给与收回机构被固定在位。
-
公开(公告)号：CN101784369A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880102861.3
申请日：2008-07-23
申请人： 株式会社荏原制作所
CPC分类号： B24B9/065
摘要： 本发明为一种研磨装置，是使研磨工具(41)与基板(W)的周缘部(坡口部、缺口部、切缘部)滑动接触而研磨该周缘部的研磨装置。该研磨装置具备：基板保持部(20)，对基板(W)进行保持；和研磨头(42)，利用研磨工具(41)来对基板保持部(20)所保持的基板(W)的周缘部进行研磨。该研磨头(42)具有：加压垫(50)，将研磨工具(41)按压到基板(W)的周缘部上；和线性电动机(90)，使加压垫(50)往复运动。
-
公开(公告)号：CN101332580A
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200810128588.3
申请日：2008-06-27
申请人： 株式会社荏原制作所
IPC分类号： B24B21/12 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/002 , B24B9/065 , H01L21/68707 , H01L21/68792
摘要： 根据本发明的抛光装置适用于对诸如半导体晶片的衬底的周边进行抛光。该抛光装置包括保持工件的保持部分、使抛光带与工件接触的抛光头、向所述抛光头供给抛光带的供给卷轴、使已经接触过工件的抛光带重绕的重绕卷轴、以及使所述抛光头进行摇摆运动的摆动机构，其中所述摇摆运动的枢转点位于预定点上。
-
公开(公告)号：CN101164148A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680013140.6
申请日：2006-04-18
IPC分类号： H01L21/304 , B24B9/00
摘要： 本发明提供一种用于研磨半导体晶片的周缘部分的装置，其包括：晶片载置台，用于保持晶片；晶片载置台单元，包括用于使晶片载置台转动的装置，使晶片载置台在与晶片载置台的表面相同的平面内进行往复转动运动，并平行于该表面移动晶片载置台；凹口研磨部分，用于研磨晶片上的凹口；以及斜面研磨部分，用于研磨晶片的斜面部分。将纯水向晶片供给以防止晶片在被从凹口研磨部分输送到斜面研磨部分时变干燥。
-
公开(公告)号：CN105658311A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201480057705.5
申请日：2014-10-22
申请人： 株式会社荏原制作所
发明人： 高桥圭瑞
CPC分类号： B01D61/06 , B01D61/025 , B01D61/10 , B01D61/12 , B01D2313/18 , B01D2313/19 , B01D2313/246 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2201/005 , C02F2209/40 , C02F2303/10 , Y02A20/131 , Y02W10/30
摘要： 本发明涉及适合用于能量回收装置的给排水控制，该能量回收装置设置于从海水去除盐分来将海水淡化的海水淡化系统。通过从反渗透膜装置排出的浓缩海水的压力将海水升压的压力转换腔室(6)具备：第一给排水端口(7)，其与液体供给的切换阀(5)连接而进行给排水；第二给排水端口(9)，其与液体供给的方向切换阀(8)连接而进行给排水；液流阻力器(14)，其设置于腔室(6)的内部，在第一给排水端口侧对液流进行整流；液流阻力器(15)，其设置于腔室(6)的内部，在第二给排水端口侧对液流进行整流；流量计(16)，其设置于两个液流阻力器(14、15)之间，测量腔室(6)内的流体的流量。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
45 条记录 (耗时 0.045 秒)
