公开(公告)号：CN100533662C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200580037186.7

申请日：2005-10-31

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 藤原朋春 ,  柴崎祐一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供一种可以抑制液体的残留的曝光装置。曝光装置(EX)具备：可保持衬底(P)并移动的衬底载台(ST1)；可与衬底载台(ST1)独立地移动的计测载台(ST2)；在衬底载台(ST1)及计测载台(ST2)的至少一个的载台的上面形成液体(LQ)的浸液区域(LR)的浸液机构(12等)。在计测载台(ST2)的上面，设有可回收液体(LR)的回收口(51)。

公开(公告)号：CN118044778A

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN202410168447.3

申请日：2019-04-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 田边泰士 ,  藤原朋春

IPC: A61B3/12 ,  G06T11/40 ,  G06T7/00 ,  G06T7/13 ,  A61B3/10

Abstract: 提供一种图像处理方法、程序计算机可读的存储介质及图像处理装置，将脉络膜血管的粗细可视化。从脉络膜血管被可视化的脉络膜血管图像检测涡静脉位置。通过对脉络膜血管图像进行图像处理，从脉络膜血管图像提取第1粗细的第1粗细脉络膜血管和不同于上述第1粗细的第2粗细的第2粗细脉络膜血管。生成粗细解析眼底图像，该粗细解析眼底图像在脉络膜血管图像上重叠显示表示涡静脉位置的矩形框，并且，以红色表示第1粗细脉络膜血管，以蓝色表示第2粗细脉络膜血管。

公开(公告)号：CN111526779B

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN201780098008.8

申请日：2017-12-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 广川真梨子 ,  田边泰士 ,  藤原朋春

IPC: A61B3/103 ,  A61B3/10

Abstract: 推定无灌注区。强调图像处理部对被检眼的眼底图像进行强调血管部分的强调图像处理(304)。推定处理部根据进行了所述强调图像处理的所述眼底图像来推定无灌注区(306～312)。创建部创建无灌注区候选图像(314)。

公开(公告)号：CN108196434B

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201711449501.8

申请日：2013-07-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 芝裕二 ,  藤原朋春 ,  马迂伸贵

IPC: G03F9/00 ,  H01L21/308 ,  H01L21/762 ,  H01L23/544

Abstract: 本发明提供曝光装置、曝光方法、器件制造方法及标记。标记形成方法包含：基于在晶片上曝光而成的标记像形成包含凹部的抗蚀剂标记的步骤；在形成有该抗蚀剂标记的区域的凹部中涂布包含嵌段共聚物的聚合物层的步骤；通过退火使聚合物层形成自组装区域的步骤；通过蚀刻选择性地除去自组装区域的一部分的步骤；以及使用除去了该一部分的自组装区域在晶片上形成晶片标记的步骤。在使用嵌段共聚物的自组装形成电路图案时能够并列地形成标记。

公开(公告)号：CN101866113A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010140711.0

申请日：2005-10-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 中野胜志 ,  奥村正彦 ,  杉原太郎 ,  水谷刚之 ,  藤原朋春

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。

公开(公告)号：CN100533661C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200580023581.X

申请日：2005-07-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 藤原朋春

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70858 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

Abstract: 在基板曝光之前，在液体的各种条件下投影图案像，根据图案像的各投影状态，决定将图案像投影于基板上时的曝光条件。透过液体来投影图案像时，在按照液体状态的期望投影状态下能良好地将基板曝光。

公开(公告)号：CN101099224A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200680001682.1

申请日：2006-04-21

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白石健一 ,  星加隆一 ,  藤原朋春

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法。其中，浸液装置(132)具有混入机构，该混入机构在向配置于投影光学系统(PL)的光射出侧的物体(部件)表面的疏液膜上供应的液体中，混入并溶解对该液体的电阻率进行调整的规定物质；并且，将溶解有该规定物质的液体(Lq)供应到疏液膜上来形成浸液区域。

公开(公告)号：CN116807381A

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN202310734582.5

申请日：2017-12-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 广川真梨子 ,  田边泰士 ,  藤原朋春

IPC: A61B3/10 ,  A61B3/12 ,  A61B3/14 ,  G06T7/00 ,  G06T7/62

Abstract: 推定无灌注区。强调图像处理部对被检眼的眼底图像进行强调血管部分的强调图像处理(304)。推定处理部根据进行了所述强调图像处理的所述眼底图像来推定无灌注区(306～312)。创建部创建无灌注区候选图像(314)。

公开(公告)号：CN109936995A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201780060794.2

申请日：2017-10-10

Applicant: 奥普托斯股份有限公司 ,  株式会社尼康

Inventor： 艾伦·安德森 ,  普拉文·阿肖克 ,  藤原朋春 ,  田边泰士 ,  金藤浩史 ,  广川真梨子 ,  梅崎理司

IPC: A61B3/10 ,  A61B3/12 ,  A61B3/14 ,  A61B3/15 ,  G06K9/00 ,  G06T7/00 ,  A61B3/00

Abstract: 提供了一种眼睛图像捕获设备，其包括：眼睛图像生成模块，其可操作来基于从受验者的眼睛反射的光来生成眼睛的图像；以及确定模块，其被布置为确定所生成的图像的瞳孔区域(302)的至少一部分是否在所生成的图像内的预定可容许区域(312)内，并生成指示该确定的信号，瞳孔区域(302)是眼睛的瞳孔的至少一部分的图像。

公开(公告)号：CN104541357B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201380042441.1

申请日：2013-07-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 芝裕二 ,  藤原朋春 ,  马迂伸贵

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: H01L23/544 ,  B82Y40/00 ,  G03F9/708 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/76224 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/5446 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 标记形成方法包含：基于在晶片上曝光而成的标记像形成包含凹部的抗蚀剂标记的步骤；在形成有该抗蚀剂标记的区域的凹部中涂布包含嵌段共聚物的聚合物层的步骤；通过退火使聚合物层形成自组装区域的步骤；通过蚀刻选择性地除去自组装区域的一部分的步骤；以及使用除去了该一部分的自组装区域在晶片上形成晶片标记的步骤。在使用嵌段共聚物的自组装形成电路图案时能够并列地形成标记。