半导体晶粒的拾取装置以及拾取方法

    公开(公告)号:CN105900225B

    公开(公告)日:2019-01-22

    申请号:CN201480072889.2

    申请日:2014-12-12

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/52

    摘要: 本发明涉及一种半导体晶粒的拾取装置及拾取方法。半导体晶粒的拾取装置包括:载台(20),包含吸附切割片(12)的吸附面(22);抽吸开口(40),设置于载台(20)的吸附面(22);盖(23),沿着吸附面(22)滑动而开闭抽吸开口(40);及开口压力切换机构(80),将抽吸开口(40)的压力在接近于真空的第一压力P1与接近于大气压的第二压力P2之间切换,当拾取半导体晶粒(15)时,每当将抽吸开口(40)的压力自第一压力P1切换为第二压力P2时,使盖(23)仅向打开方向滑动规定距离。由此,抑制半导体晶粒产生损伤而有效果地拾取半导体晶粒。

    半导体晶粒的拾取装置以及拾取方法

    公开(公告)号:CN106030776B

    公开(公告)日:2018-12-14

    申请号:CN201480076316.7

    申请日:2014-11-17

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明涉及一种半导体晶粒的拾取装置及拾取方法。拾取装置包括:平台(20),包含吸附切割片材(12)的吸附面(22);阶差面形成机构(300),包含多个移动元件(30),形成相对于吸附面(22)的阶差面,所述多个移动元件(30)配置在平台(20)的开口(23)内,且前端面在高于吸附面(22)的第1位置与低于第1位置的第2位置之间移动;以及开口压力切换机构(80),在接近真空的第1压力P1与接近大气压的第2压力P2之间切换开口(23)的开口压力,且在拾取半导体晶粒(15)时,每当将开口压力自第1压力P1切换为第2压力P2时,使至少一个移动元件(30)自第1位置移动至第2位置。由此,抑制半导体晶粒的损伤的发生而有效地拾取半导体晶粒。

    半导体晶粒的拾取装置以及拾取方法

    公开(公告)号:CN106030776A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201480076316.7

    申请日:2014-11-17

    IPC分类号: H01L21/67

    CPC分类号: H01L21/67132

    摘要: 包括:平台(20),包含吸附切割片材(12)的吸附面(22);阶差面形成机构(300),包含多个移动元件(30),形成相对于吸附面(22)的阶差面,所述多个移动元件(30)配置在平台(20)的开口(23)内,且前端面在高于吸附面(22)的第1位置与低于第1位置的第2位置之间移动;以及开口压力切换机构(80),在接近真空的第1压力P1与接近大气压的第2压力P2之间切换开口(23)的开口压力,且在拾取半导体晶粒(15)时,每当将开口压力自第1压力P1切换为第2压力P2时,使至少一个移动元件(30)自第1位置移动至第2位置。由此,抑制半导体晶粒的损伤的发生而有效地拾取半导体晶粒。

    半导体晶粒的拾取装置以及拾取方法

    公开(公告)号:CN105900225A

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201480072889.2

    申请日:2014-12-12

    IPC分类号: H01L21/67 H01L21/52

    摘要: 包括:载台(20),包含吸附切割片(12)的吸附面(22);抽吸开口(40),设置于载台(20)的吸附面(22);盖(23),沿着吸附面(22)滑动而开闭抽吸开口(40);及开口压力切换机构(80),将抽吸开口(40)的压力在接近于真空的第一压力P1与接近于大气压的第二压力P2之间切换,当拾取半导体晶粒(15)时,每当将抽吸开口(40)的压力自第一压力P1切换为第二压力P2时,使盖(23)仅向打开方向滑动规定距离。由此,抑制半导体晶粒产生损伤而有效果地拾取半导体晶粒。