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公开(公告)号：CN105045004B
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201510184382.2
申请日：2015-04-17
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1333 , H01L27/12 , H01L21/84 , H01L21/3213
CPC classification number: H01L27/1218 , H01L21/02063 , H01L21/31111 , H01L21/32134 , H01L27/1259 , H01L29/66757
Abstract: 本发明提供显示装置用基板以及显示装置的制造方法，一个方式中的显示装置用基板具备绝缘基板以及形成于上述绝缘基板的至少一个主面的导电性膜。在该显示用基板中，使用氟化氢的含有浓度为10％以上的氢氟酸水溶液进行的蚀刻中的上述导电性膜的第一蚀刻速率、与上述蚀刻中的上述绝缘基板的第二蚀刻速率实质上相同，或者上述第一蚀刻速率大于上述第二蚀刻速率。
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公开(公告)号：CN110246789A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910608870.X
申请日：2017-05-27
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供使用发光元件的制造装置的发光元件的制造方法。该制造装置包括：具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机的主输送路径；副输送路径，其具有与上述第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与上述第2交接室连接的输送室，且在与上述主输送路径交叉的方向上延伸；和与上述输送室连接的多个处理室，上述第1移载机、第2移载机、上述第1交接室和上述第2交接室连接而形成的区域为连续的真空环境。本发明的发光元件的制造方法对于发光元件的制造装置的设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异。
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公开(公告)号：CN107689429A
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201710662741.X
申请日：2017-08-04
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H01L51/56
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/24 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/67184 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/67751 , H01L27/3246 , H01L51/0008 , H01L51/0021
Abstract: 本发明提供对于设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异的有机EL装置的制造装置。本发明的制造装置的特征在于，包括：主输送路径，其具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机；副输送路径，其具有与第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与第2交接室连接的输送室，且在与主输送路径交叉的方向上延伸；和与输送室连接的多个第1处理室，主输送路径将被处理基板以水平的状态输送，多个第1处理室中的一个第1处理室在处理中将被处理基板保持在垂直的状态。
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公开(公告)号：CN112779499A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011180807.X
申请日：2020-10-29
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本发明提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)，将第一间隙(l1)和上述第二间隙(l2)调节为满足式3，
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公开(公告)号：CN110828349A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911155469.1
申请日：2017-05-27
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供对于设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异的发光元件的制造装置。该制造装置包括：具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机的主输送路径；副输送路径，其具有与上述第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与上述第2交接室连接的输送室，且在与上述主输送路径交叉的方向上延伸；和与上述输送室连接的多个处理室，上述第1移载机、第2移载机、上述第1交接室和上述第2交接室连接而形成的区域为连续的真空环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111463365B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202010289273.8
申请日：2017-08-04
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H10K71/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , H10K59/122 , H10K71/16 , H10K71/60 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供对于设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异的有机EL装置的制造装置。本发明的制造装置的特征在于，包括：主输送路径，其具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机；副输送路径，其具有与第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与第2交接室连接的输送室，且在与主输送路径交叉的方向上延伸；和与输送室连接的多个第1处理室，主输送路径将被处理基板以水平的状态输送，多个第1处理室中的一个第1处理室在处理中将被处理基板保持在垂直的状态。
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公开(公告)号：CN105045004A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510184382.2
申请日：2015-04-17
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1333 , H01L27/12 , H01L21/84 , H01L21/3213
CPC classification number: H01L27/1218 , H01L21/02063 , H01L21/31111 , H01L21/32134 , H01L27/1259 , H01L29/66757
Abstract: 本发明提供显示装置用基板以及显示装置的制造方法，一个方式中的显示装置用基板具备绝缘基板以及形成于上述绝缘基板的至少一个主面的导电性膜。在该显示用基板中，使用氟化氢的含有浓度为10％以上的氢氟酸水溶液进行的蚀刻中的上述导电性膜的第一蚀刻速率、与上述蚀刻中的上述绝缘基板的第二蚀刻速率实质上相同，或者上述第一蚀刻速率大于上述第二蚀刻速率。
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公开(公告)号：CN112779499B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202011180807.X
申请日：2020-10-29
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供一种基板与蒸镀掩模的间隙的调节时间缩短的蒸镀装置和显示装置的制造方法。此外，本发明提供一种蒸镀工序中的不良情况减少的蒸镀装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造方法使用蒸镀掩模向基板蒸镀有机材料，其中，与基板相对地配置蒸镀掩模，检测第一位置的基板与上述蒸镀掩模之间的第一间隙(l1)，检测第二位置的基板与蒸镀掩模之间的第二间隙(l2)，将第一间隙(l1)和上述第二间隙(l2)调节为满足式3，#imgabs0#
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公开(公告)号：CN110246789B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201910608870.X
申请日：2017-05-27
Applicant: 株式会社日本显示器
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H10K71/00 , H10K50/10
Abstract: 本发明提供使用发光元件的制造装置的发光元件的制造方法。该制造装置包括：具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机的主输送路径；副输送路径，其具有与上述第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与上述第2交接室连接的输送室，且在与上述主输送路径交叉的方向上延伸；和与上述输送室连接的多个处理室，上述第1移载机、第2移载机、上述第1交接室和上述第2交接室连接而形成的区域为连续的真空环境。本发明的发光元件的制造方法对于发光元件的制造装置的设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异。
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公开(公告)号：CN111463365A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN202010289273.8
申请日：2017-08-04
Applicant: 株式会社日本显示器
Abstract: 本发明提供对于设置场所的形状、宽敞度的自由度高且对于步骤变更、扩展等的应对性优异的有机EL装置的制造装置。本发明的制造装置的特征在于，包括：主输送路径，其具有经第1交接室连接的第1移载机和第2移载机；副输送路径，其具有与第1移载机或第2移载机连接的第2交接室和与第2交接室连接的输送室，且在与主输送路径交叉的方向上延伸；和与输送室连接的多个第1处理室，主输送路径将被处理基板以水平的状态输送，多个第1处理室中的一个第1处理室在处理中将被处理基板保持在垂直的状态。
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