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公开(公告)号：CN112119297A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201880093447.4
申请日：2018-05-30
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供在存在由晶片的翘曲等引起的高度变动的观测对象中也很少发生画质的劣化的晶片检查技术。晶片检查装置使观测光学系统的焦点聚焦于由测量晶片表面高度的高度传感器测量出的高度，而且，根据与高度对应的光学倍率数据和工作台位置数据修正CCD线传感器的切换信号，实施与晶片表面高度对应的修正，由此能够得到劣化减少的图像(参照图1)。
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