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公开(公告)号：CN110114502A
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201880005318.5
申请日：2018-10-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的溅射装置(1)具有能够更换相对于在腔室内通过溅射来成膜的基板(S)大致垂直保持的掩模框架(F)的掩模更换机构(100)。掩模更换机构具有：能够密闭的储备室(50)，能够以表面平行状态储备多个所述掩模框架；和运送机构(60)，用于将储备的多个掩模框架运送至腔室(4)内的作为成膜位置的掩模室(43)。在储备室中设置有：储备支撑部(51，52，53，54)，能够沿与掩模框架的掩模面大致正交的方向前后移动；驱动支撑部(55，65)，能够沿表面方向驱动选自储备于储备支撑部的掩模框架中的掩模框架；和运送上支撑部(56，66)，在通过驱动支撑部来移动掩模框架时，能够以不倾斜的方式支撑所述掩模框架的上端。
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公开(公告)号：CN101790785B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN200880105619.1
申请日：2008-08-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B65H1/00 , B41J11/06 , B65H2405/312 , B65H2701/11312 , B65H2801/15
Abstract: 提供了一种在正式设置场所的组装精度较高且作业容易的机台装置。在本发明的机台装置(5)中，分别连接于主底座板(11)上的第一、第二主轨道(17a、17b)且使第一、第二主轨道(17a、17b)延长的副轨道(18)设置于各个副底座板(21)上。所以，当对副底座板(21)进行对位并固定于主底座板(11)时，不影响已经固定在主底座板(11)的副底座板(21)的对位精度。
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公开(公告)号：CN102057477A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200980120845.1
申请日：2009-06-03
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/683 , B23Q1/01 , B65G49/06 , B65G49/07 , H01L21/304 , H01L21/68 , B05C13/00
CPC classification number: H01L21/68785 , B65G49/061 , B65G49/065 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/68 , H01L21/6838
Abstract: 本发明提供一种具有定位功能的载物台，该载物台即使在处理对象物重量大的情况下，也能够高精度并且容易地进行特别是θ方向的定位，且成本低。该具有定位功能的载物台具有暴露基板(S)处理面并保持基板(S)的载物台本体(4a)，还包括可自由地吸附在与所述的基板处理面相对的另外一面上的吸附装置(8)、向所述吸附装置上吸附位置以外的区域供给气体的气体供给装置(9)和向所述吸附装置施加旋转力使基板以所述吸附装置为旋转中心在同一平面内旋转的驱动装置(10)。
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公开(公告)号：CN101790783A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200880105526.9
申请日：2008-08-27
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B65G7/04
Abstract: 提供一种在正式设置场所的对位容易的机台装置。使配置有副底座板(21)的架台(25)承载于台车(22)上而构成副载置台(20a～20d)，利用台车(22)使副底座板(21)移动，并将架台(25)固定在具有主底座板(11)的主载置台(10)。由设置于副载置台(20a～20d)的调整机构(30)对主底座板(11)和副底座板(21)进行对位。由于在主载置台(10)和副载置台(20a～20d)设置有主定位部件(16)和副定位部件(241、242)，因而能够以复原对位状态的方式进行分离。所以，在搬送之后，在组装时容易进行对位。
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公开(公告)号：CN110100043A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201880005312.8
申请日：2018-10-23
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110114502B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201880005318.5
申请日：2018-10-04
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的溅射装置(1)具有能够更换相对于在腔室内通过溅射来成膜的基板(S)大致垂直保持的掩模框架(F)的掩模更换机构(100)。掩模更换机构具有：能够密闭的储备室(50)，能够以表面平行状态储备多个所述掩模框架；和运送机构(60)，用于将储备的多个掩模框架运送至腔室(4)内的作为成膜位置的掩模室(43)。在储备室中设置有：储备支撑部(51，52，53，54)，能够沿与掩模框架的掩模面大致正交的方向前后移动；驱动支撑部(55，65)，能够沿表面方向驱动选自储备于储备支撑部的掩模框架中的掩模框架；和运送上支撑部(56，66)，在通过驱动支撑部来移动掩模框架时，能够以不倾斜的方式支撑所述掩模框架的上端。
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公开(公告)号：CN109429499A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201880001918.4
申请日：2018-06-05
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的成膜装置具有对在腔室内成膜的基板对准大致垂直保持的掩模框架的掩模对准机构，所述掩模对准机构具有：卡合部，设置于所述掩模框架的下表面中的两端；支撑对准部，设置于所述掩模框架的成膜位置上的两端的下部且能够支撑所述掩模框架，所述支撑对准部能够通过与所述卡合部卡合来进行对准；和上部对准部，能够在与所述掩模框架的表面正交的方向上设定所述掩模框架的上侧位置，并且能够支撑及释放所述掩模框架，所述成膜装置能够利用所述掩模对准机构，以与所述掩模框架的所述表面平行的两个方向及与所述掩模框架的所述表面正交的正交方向这三个轴向和绕所述三个轴向的轴线的三个旋转方向上的六个自由度，进行所述掩模框架的对准。
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公开(公告)号：CN102037552B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980117984.9
申请日：2009-05-13
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B25B1/00 , B65G49/061 , B65G2249/02
Abstract: 提供一种能够高速运送基板的基板平台。在本发明的基板平台(10)中，将辅助载置台(12a～12d)安装在主载置台(11)上，将下部导轨(131、132)从主载置台(11)上横跨到辅助载置台(12a～12d)上进行配置。若通过上下方向调整装置(6)预先使下部导轨(131、132)的两端向上弯曲，则在辅助载置台(12a～12d)的端部向下弯曲时，下部导轨(131、132)便变得笔直。由于下部导轨(131、132)未分割，因而直线性得到确保，移动板(16)不会发生摇摆，因而能够使基板(5)高速移动。
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公开(公告)号：CN101790784A
公开(公告)日：2010-07-28
申请号：CN200880105527.3
申请日：2008-08-27
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/68 , B05C5/00 , B23Q1/00 , H01L21/683
CPC classification number: B41J2/14 , B41J2002/14362 , Y10T29/49778 , Y10T29/4978 , Y10T29/49817 , Y10T29/49895 , Y10T29/49899
Abstract: 提供一种在正式设置场所的组装精度高且作业容易的组装方法。在暂时设置场所，相对于设置于主载置台(10)的主底座板(11)，对设置于副载置台(20a～20d)的副底座板(21)进行对位，在保存了该状态之后，将主载置台(10)和副载置台(20a～20d)分离并搬送至正式设置场所，复原定位状态。由于能够在暂时设置场所进行对位作业，因而减少了在正式设置场所的作业。此外，由于能够在正式设置场所进行微调整，因而对位精度提高。
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公开(公告)号：CN102037552A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980117984.9
申请日：2009-05-13
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B25B1/00 , B65G49/061 , B65G2249/02
Abstract: 提供一种能够高速运送基板的基板平台。在本发明的基板平台(10)中，将辅助载置台(12a～12d)安装在主载置台(11)上，将下部导轨(131、132)从主载置台(11)上横跨到辅助载置台(12a～12d)上进行配置。若通过上下方向调整装置(6)预先使下部导轨(131、132)的两端向上弯曲，则在辅助载置台(12a～12d)的端部向下弯曲时，下部导轨(131、132)便变得笔直。由于下部导轨(131、132)未分割，因而直线性得到确保，移动板(16)不会发生摇摆，因而能够使基板(5)高速移动。
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