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公开(公告)号：CN104808840A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510037170.1
申请日：2015-01-26
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种触控面板及触控面板的制造方法，该触控面板配置于显示面板上且采用通过触摸操作面来操作的电容方式，其具有透明基板、在所述透明基板的所述操作面的背面侧沿X方向形成的多个X电极以及沿与所述X方向正交的Y方向形成的多个Y电极。所述多个X电极和所述多个Y电极具有：形成于所述背面侧的同一面的多个透明电极；以及在所述X电极和所述Y电极经由绝缘部相互交叉的交叉部，立体连接相邻的所述X电极的透明电极或相邻的所述Y电极的透明电极中的任一方的跳线。所述跳线具有与所述透明电极连接的第一层和层叠于该第一层的第二层。所述第一层包括第一金属氧化膜，所述第二层包括第二金属氧化膜。所述第一层的折射率低于所述第二层的折射率。
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公开(公告)号：CN106255945B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201580022405.8
申请日：2015-04-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/352 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107
Abstract: 本发明的触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板而设置；以及连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域。
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公开(公告)号：CN104808840B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201510037170.1
申请日：2015-01-26
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种触控面板及触控面板的制造方法，该触控面板配置于显示面板上且采用通过触摸操作面来操作的电容方式，其具有透明基板、在所述透明基板的所述操作面的背面侧沿X方向形成的多个X电极以及沿与所述X方向正交的Y方向形成的多个Y电极。所述多个X电极和所述多个Y电极具有：形成于所述背面侧的同一面的多个透明电极；以及在所述X电极和所述Y电极经由绝缘部相互交叉的交叉部，立体连接相邻的所述X电极的透明电极或相邻的所述Y电极的透明电极中的任一方的跳线。所述跳线具有与所述透明电极连接的第一层和层叠于该第一层的第二层。所述第一层包括第一金属氧化膜，所述第二层包括第二金属氧化膜。所述第一层的折射率低于所述第二层的折射率。
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公开(公告)号：CN104838344B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201480003204.9
申请日：2014-07-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , G02B5/22 , G02B5/26 , G02B5/286 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107
Abstract: 本发明的触摸面板包括：盖基板；连接部，设置在所述盖基板上的除显示区域之外的区域，包括色彩层、和由以金属层与比所述金属层更厚的介电体层交替层压的方式构成的多层结构体形成的屏蔽层；以及触摸面板基板，以介入所述连接部的方式与所述盖基板对置配置。
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公开(公告)号：CN104838344A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201480003204.9
申请日：2014-07-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , G02B5/22 , G02B5/26 , G02B5/286 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107
Abstract: 本发明的触摸面板包括：盖基板；连接部，设置在所述盖基板上的除显示区域之外的区域，包括色彩层、和由以金属层与比所述金属层更厚的介电体层交替层压的方式构成的多层结构体形成的屏蔽层；以及触摸面板基板，以介入所述连接部的方式与所述盖基板对置配置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102033417A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010298454.3
申请日：2010-09-29
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。
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公开(公告)号：CN106255945A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201580022405.8
申请日：2015-04-28
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/352 , G06F2203/04103 , G06F2203/04107
Abstract: 本发明的触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板而设置；以及连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域。
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公开(公告)号：CN102033417B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201010298454.3
申请日：2010-09-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。
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公开(公告)号：CN1842612A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200580000957.5
申请日：2005-03-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/32458 , C23C14/0078 , C23C14/505
Abstract: 提供能够以更快的成膜速度形成具有良好特性的金属化合物膜，并且能够简单地、低成本地构成的溅射成膜装置。在真空室1内设置将基板3保持在外周而旋转的圆筒状的转鼓4、在转鼓4处于溅射位置时对被转鼓4保持的基板进行溅射处理的溅射设备6、7、和转鼓4处于反应位置时使反应气体等离子化并对基板3进行照射的等离子照射设备12，用电介质15覆盖面对通过等离子照射设备12使反应气体等离子化的区域11的真空室1的内面。
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公开(公告)号：CN1957106B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200580016473.X
申请日：2005-03-29
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , G02B5/30 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/0078 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/16 , C23C14/5833 , G02B5/28 , H01J37/34 , H01J2237/08
Abstract: 本发明的目的是在层叠薄膜的光学薄膜中形成具有接近设计值的光学特性的光学薄膜。为此，在真空室(2)内，配备保持基板(4)的旋转鼓(3)、用于在基板(4)的被成膜面上形成金属膜的Si靶(22)、Ta靶(23)、通过等离子使金属膜与反应气体反应的ECR反应室(30)。在成膜装置(51)中，设置有对被成膜面照射离子束促进形成于被成膜面的膜的反应的离子枪(11)，反复进行金属膜的形成、气体反应以及基于离子束的反应促进。
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