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公开(公告)号:CN1897789B
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200610101633.7
申请日:1998-12-09
Applicant: 株式会社瑞萨科技
IPC: H05K1/09 , H01L23/482
CPC classification number: H05K1/181 , B23K1/0016 , B23K35/004 , B23K35/007 , B23K35/262 , B23K2101/40 , H01L23/488 , H01L23/49811 , H01L23/532 , H01L24/29 , H01L2224/83101 , H01L2924/01322 , H01L2924/15747 , H05K3/3426 , H05K3/3463 , H05K2201/10909 , Y02P70/613 , Y10T29/49144 , Y10T29/49149 , Y10T29/49169 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , H01L2924/00
Abstract: 一种无Pb焊料连接结构和半导体装置,该无Pb焊料连接结构具有足够高的连接强度,获得即使在随时间的推移的情况下仍保持稳定的界面,保持足够的浸润性和对纤维状结晶的抵抗性。特别是,无Pb焊料的特征在于:作为代表性的无Pb焊料的Sn-Ag-Bi与电极连接,该电极的表面上形成有Sn-Bi层。最好,按照重量百分比计,上述Sn-Bi层中的Bi浓度在1~20%的范围内,以便获得足够高的浸润性。当要求更加可靠的接缝时,在上述Sn-Bi层的下面形成Cu层,以便获得具有足够高的界面强度的连接部。
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公开(公告)号:CN101604668B
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN200910133172.5
申请日:1998-12-09
Applicant: 株式会社瑞萨科技
CPC classification number: H05K1/181 , B23K1/0016 , B23K35/004 , B23K35/007 , B23K35/262 , B23K2101/40 , H01L23/488 , H01L23/49811 , H01L23/532 , H01L24/29 , H01L2224/83101 , H01L2924/01322 , H01L2924/15747 , H05K3/3426 , H05K3/3463 , H05K2201/10909 , Y02P70/613 , Y10T29/49144 , Y10T29/49149 , Y10T29/49169 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , H01L2924/00
Abstract: 一种无Pb焊料连接结构和电子装置,该无Pb焊料连接结构具有足够高的连接强度,获得即使在随时间的推移的情况下仍保持稳定的界面,保持足够的浸润性和对纤维状结晶的抵抗性。特别是,无Pb焊料的特征在于:作为代表性的无Pb焊料的Sn-Ag-Bi与电极连接,该电极的表面上形成有Sn-Bi层。最好,按照重量百分比计,上述Sn-Bi层中的Bi浓度在1~20%的范围内,以便获得足够高的浸润性。当要求更加可靠的接缝时,在上述Sn-Bi层的下面形成Cu层,以便获得具有足够高的界面强度的连接部。
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公开(公告)号:CN101604668A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:CN200910133172.5
申请日:1998-12-09
Applicant: 株式会社瑞萨科技
CPC classification number: H05K1/181 , B23K1/0016 , B23K35/004 , B23K35/007 , B23K35/262 , B23K2101/40 , H01L23/488 , H01L23/49811 , H01L23/532 , H01L24/29 , H01L2224/83101 , H01L2924/01322 , H01L2924/15747 , H05K3/3426 , H05K3/3463 , H05K2201/10909 , Y02P70/613 , Y10T29/49144 , Y10T29/49149 , Y10T29/49169 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , H01L2924/00
Abstract: 一种无Pb焊料连接结构和电子装置,该无Pb焊料连接结构具有足够高的连接强度,获得即使在随时间的推移的情况下仍保持稳定的界面,保持足够的浸润性和对纤维状结晶的抵抗性。特别是,无Pb焊料的特征在于:作为代表性的无Pb焊料的Sn-Ag-Bi与电极连接,该电极的表面上形成有Sn-Bi层。最好,按照重量百分比计,上述Sn-Bi层中的Bi浓度在1~20%的范围内,以便获得足够高的浸润性。当要求更加可靠的接缝时,在上述Sn-Bi层的下面形成Cu层,以便获得具有足够高的界面强度的连接部。
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