薄膜光电转换装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100485973C

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200480004033.8

    申请日:2004-05-28

    CPC classification number: H01L31/076 H01L31/046 Y02E10/548

    Abstract: 本发明提供一种薄膜光电转换装置,特别是提供一种集成化薄膜光电转换装置,其在包含结晶硅光电转换单元的薄膜光电转换装置中,通过不使开放端电压和填充因数变小来改善光电转换效率。本发明的薄膜光电转换装置,是在透明基板一侧的主面上至少把透明电极膜、结晶硅光电转换单元和背面电极膜顺序形成的薄膜光电转换装置,形成所述结晶硅光电转换单元后,在其表面的一部分上具有白浊变色区域。所述白浊变色区域最好是小于或等于光电转换区域面积的5%。而且最好是制成集成化薄膜光电转换装置。

    薄膜光电转换装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN103797590B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201280043703.1

    申请日:2012-09-04

    Abstract: 本发明涉及含有非晶质锗光电转换层(53)的薄膜光电转换装置。本发明的薄膜光电转换装置包含非晶质锗光电转换单元(5),其在p型半导体层(51)和n型半导体层(54)之间具有实质上本征的、且实质上不含硅原子的非晶质锗光电转换层(53)。在一种实施方式所涉及的本发明的薄膜光电转换装置中,在比非晶质锗光电转换单元(5)更接近光入射侧,配置了具有晶质硅光电转换层(43)的晶质硅光电转换单元(4)。在一种实施方式中,优选非晶质锗光电转换单元(5)在波长900nm的量子效率为30%以上。

    薄膜光电转换装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN103797590A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201280043703.1

    申请日:2012-09-04

    Abstract: 本发明涉及含有非晶质锗光电转换层(53)的薄膜光电转换装置。本发明的薄膜光电转换装置包含非晶质锗光电转换单元(5),其在p型半导体层(51)和n型半导体层(54)之间具有实质上本征的、且实质上不含硅原子的非晶质锗光电转换层(53)。在一种实施方式所涉及的本发明的薄膜光电转换装置中,在比非晶质锗光电转换单元(5)更接近光入射侧,配置了具有晶质硅光电转换层(43)的晶质硅光电转换单元(4)。在一种实施方式中,优选非晶质锗光电转换单元(5)在波长900nm的量子效率为30%以上。

    薄膜光电转换装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN102138221A

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200980133876.0

    申请日:2009-08-24

    Abstract: 在以往的将非晶锗或者结晶硅用于光电转换层的薄膜光电转换装置中,存在无法将1100nm以上的长波长光利用于光电转换、转换效率的提高不充分的课题。本发明利用薄膜光电转换装置来解决所述课题,其特征在于:所述薄膜光电转换装置包括1个以上在p型半导体层与n型半导体层之间具备光电转换层的光电转换单元,至少一个光电转换单元的光电转换层包括本征或者弱n型的结晶锗半导体,并且所述结晶锗半导体的波数为935±5cm-1的红外吸收峰值的吸收系数不足6000cm-1。另外,通过特征在于所述结晶锗半导体的波数为960±5cm-1的红外吸收峰值的吸收系数不足3500cm-1的薄膜光电转换装置来解决所述课题。

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