一种Ⅲ‑Ⅴ族半导体的太阳能电池结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN106653922A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201610954774.7

    申请日:2016-10-27

    申请人: 延边大学

    摘要: 本发明公开了一种Ⅲ‑Ⅴ族半导体的太阳能电池结构及其制作方法,包括保护壳以及从下到上依次设置在保护壳内透明基板、非晶硅层、Ⅲ‑Ⅴ族多晶半导体层、透明导光层、吸光层,保护壳的底端活动安装有保护底板,吸光层呈凹向的弧形设置,与透明导光层上的凹槽为吻合;透明导光层的表面和内部开设有多个微孔,将入射光线水平导向至Ⅲ‑Ⅴ族多晶半导体层中。本发明采用弧形的吸光层、透明导光层以及透明基板作为结构,不仅增加了其使用寿命,降低了总成本,而且增加吸光面积,有效的吸收光能,提高太阳能电池对光的转换效率。

    光生伏打元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104584237A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201380043653.1

    申请日:2013-08-27

    IPC分类号: H01L31/0747

    摘要: 在n型硅基板1的第1主面(1A)、侧面(1C)以及第2主面(1B)的周缘部处具备第1非晶硅i层(2)和非晶硅p层(4)。另一方面,在第1主面(1A)和侧面(1C)上具有第1ITO层(6),在第2主面(1B)上具备第2非晶硅i层(3)和非晶硅n层(5),在其上残留周缘部而具有面积比n型硅基板(1)小的第2ITO层(7)。而且,在第2主面(1B)上的周缘部处,具有将第1非晶硅i层(2)、非晶硅p层(4)、第2非晶硅i层(3)、非晶硅n层(5)按该顺序层叠的构造。因而,不需要追加的工艺而能够分离第1ITO层(6)和第2ITO层(7),能够防止泄漏电流。而且,在端部处也确保各个膜的顺序,正常地维持电荷的流动,由此能够发挥集电效果并发挥电池功能,使有效面积最大。

    光电转换装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101779294B

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN200980100131.4

    申请日:2009-01-07

    IPC分类号: H01L31/04

    摘要: 提供一种具有高转换效率且量产性优良的大面积光电转换装置。光电转换装置(100)在基板(1)上形成包括晶体硅层的光电转换层(3),晶体硅层具有晶体硅i层(42),光电转换装置(100)具有以下述指标表示的基板面内分布:晶体硅i层(42)的晶体硅相的拉曼峰值强度相对于非晶硅相的拉曼峰值强度之比即拉曼峰值比的平均值为4以上8以下,拉曼峰值比的标准偏差为1以上3以下,且拉曼峰值比为4以下的区域的比例为0%以上15%以下。光电转换装置(100)中,形成基板(1)的光电转换层(3)的面大小为1m见方以上,具有以下述指标表示的基板面内分布:晶体硅i层(42)的拉曼峰值比的平均值为5以上8以下,拉曼峰值比的标准偏差为1以上3以下,且拉曼峰值比为4以下的区域的比例为0%以上10%以下。