溅镀靶材和溅镀靶
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111465713B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN201980006346.3

    申请日:2019-02-12

    Abstract: 本发明提供一种溅镀靶材和溅镀靶。溅镀靶材包含锌(Zn)的氧化物、锡(Sn)的氧化物及锆(Zr)的氧化物,其中相对于氧(O)以外的所有元素,锌的含量AZn为超过0at%且50at%以下,锡的含量ASn为20at%以上且80at%以下,及锆的含量AZr为超过0at%且40at%以下,而且Zn的含量AZn满足下述式(1);经测定的多个比电阻值中最大值相对于最小值的比为3以下,及所述比电阻值为5×10‑1[Ω·cm]以下;而且所述溅镀靶材不含有铟(In)。AZn/(AZn+ASn)≦0.6·····(1)。

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