公开(公告)号：CN101470359A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810210373.6

申请日：2008-07-15

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 大塚明 ,  中川涉 ,  森谷优

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70433 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  H05K3/0082

Abstract: 本发明涉及投影曝光装置和分割曝光方法。该投影曝光装置可以进行高精确度对准和分割曝光，其中，在曝光时掩模标记(20)与相应的板标记(30)重叠，掩模标记(20)比板标记(30)大，以便为板标记(30)遮挡曝光光线，并且圆形掩模标记(20)的直径(φM)比板标记(30)的直径(φB)大。

公开(公告)号：CN111913363B

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN202010380624.6

申请日：2020-05-08

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 今井洋之 ,  大塚明

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔(21)的工作台(2)载放基板(S)并真空吸附，在使曝光图案的光工作台(2)通过搬运系统(3)而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元(1)照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板(S)对应地形成有大量的真空吸附孔(21)，薄板(71)堵塞基板(S)未堵塞的真空吸附孔(21)。薄板(71)具有吸附孔(73)或者开口(75、76)，通过将薄板机构(72)定位而成为不对基板(S)的真空吸附进行阻碍的状态。薄板(71)以及薄板机构(72)安装于工作台(2)，并与工作台(2)一体地移动。

公开(公告)号：CN105319862A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510319338.8

申请日：2015-06-11

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 竹田幸一郎 ,  山本健 ,  杉田健一 ,  山崎恒男 ,  姜承俊 ,  大塚明 ,  川崎裕生 ,  比企达也 ,  今井洋之

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供光源装置，其使用不同波长的多个光源且不需要按照规定的排列严格配置光源。多个LD模块(1、2)分别具有1个LD和聚光透镜,射出不同波长的激光。各LD模块的LD由控制装置(99)控制其点亮、非点亮及输出(照度)。3个LD模块(1)和1个LD模块(2)的射出光输入第1光纤束部(b1),经由4条第1光纤(5)并通过第1连接器(6)聚集于1条第2光纤(7)。3条第2光纤被引导至第2光纤束部(b2),其出射端侧按照与对曝光头(18)内的DMD(56)的光照射区域形状对应的排列图案集束并与第3光纤(9)连接,经由第2连接器(10)与入射光学系统(40)连接,将激光引导至曝光装置(B)的曝光头(18)。

公开(公告)号：CN111913363A

公开(公告)日：2020-11-10

申请号：CN202010380624.6

申请日：2020-05-08

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 今井洋之 ,  大塚明

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔(21)的工作台(2)载放基板(S)并真空吸附，在使曝光图案的光工作台(2)通过搬运系统(3)而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元(1)照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板(S)对应地形成有大量的真空吸附孔(21)，薄板(71)堵塞基板(S)未堵塞的真空吸附孔(21)。薄板(71)具有吸附孔(73)或者开口(75、76)，通过将薄板机构(72)定位而成为不对基板(S)的真空吸附进行阻碍的状态。薄板(71)以及薄板机构(72)安装于工作台(2)，并与工作台(2)一体地移动。

公开(公告)号：CN100559274C

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200410058589.7

申请日：2004-08-18

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 大塚明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70866

Abstract: 投影曝光设备。缩放倍率校正装置1包括缩放倍率校正光学系统2、压力调节装置3以及控制器4。缩放倍率校正光学系统2被形成为一箱体的形状，该箱体具有一玻璃板20、与板20平行设置的一底部板11以及一框架10。箱体内部是通过连接管12与压力调节装置3相连接的气室24，以便可以改变内部的压力。由电机35通过诸如滚珠丝杠的线性运动装置36来驱动气缸30，并由控制器4来控制电机35。气缸30的移动距离与活塞的移动距离相等，并由电机35的旋转周数确定，而压力调节装置3的闭路容量也被确定。电机35的旋转周数可由控制器4输出的电信号进行控制。

公开(公告)号：CN1584745A

公开(公告)日：2005-02-23

申请号：CN200410058589.7

申请日：2004-08-18

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 大塚明

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70866

Abstract: 投影曝光设备。缩放倍率校正装置1包括缩放倍率校正光学系统2、压力调节装置3以及控制器4。缩放倍率校正光学系统2被形成为一箱体的形状，该箱体具有一玻璃板20、与板20平行设置的一底部板11以及一框架10。箱体内部是通过连接管12与压力调节装置3相连接的气室24，以便可以改变内部的压力。由电机35通过诸如滚珠丝杠的线性运动装置36来驱动气缸30，并由控制器4来控制电机35。气缸30的移动距离与活塞的移动距离相等，并由电机35的旋转周数确定，而压力调节装置3的闭路容量也被确定。电机35的旋转周数可由控制器4输出的电信号进行控制。