公开(公告)号：CN118215890A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202280074624.0

申请日：2022-09-14

Applicant: 优志旺电机株式会社 ,  株式会社阿迪泰克工程 ,  公益财团法人福冈县产业·科学技术振兴财团

Inventor： 桥本圣昭 ,  高松大辅 ,  高桥辽太郎 ,  比企达也 ,  野北宽太

IPC: G03F9/00

Abstract: 本发明课题在于提供即使内插件大型化也能够抑制生产性能降低的曝光方法以及曝光系统。本发明的一方式的曝光方法具有第一曝光工序与第二曝光工序。所述第一曝光工序使用具有第一曝光精度的第一曝光装置在基板上的抗蚀剂上曝光出第一图案(P1)。所述第二曝光工序使用具有与所述第一曝光精度不同的第二曝光精度的第二曝光装置，在曝光了所述第一图案(P1)的所述抗蚀剂上曝光出与第一图案不同的第二图案(P2)。

公开(公告)号：CN101414130A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166559.6

申请日：2008-10-17

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 田中巧 ,  坂井智行 ,  比企达也

IPC: G03F7/20 ,  H05K3/00

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，即使是具有由有机材料构成的印刷布线基板所特有的不均匀而且较大变形的基板，也能够实现最佳定位。全体变倍单元(2)在xy方向上以相同倍率即倍率Sw放大缩小光掩膜(7)的图案，单变倍单元(1)与全体变倍单元(2)独立地在任意一个方向ω上以预定倍率So使光掩膜图案伸缩，调准示波器(4)检测掩膜标记(70)与基板标记(80)的位置偏差αi、βi。位置偏差信号αi、βi被发送给运算控制装置(3)，计算调准所需要的参数即单变倍倍率So、单变倍方向ω，再计算全体变倍倍率Sw、基板的旋转量θ、基板平移量Ox、Oy，并据此控制单变倍单元(1)、全体变倍单元(2)、曝光载物台(6)，进行调准。

公开(公告)号：CN107850850B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201680030951.0

申请日：2016-06-02

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 比企达也 ,  木村文男

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开一种能够使不同的多个波长的光以希望的光量比例出射的光源装置、具备该光源装置的曝光装置以及光源控制方法。光源装置(19)具备控制部(10)，其基于第1波长特性的光与第2波长特性的光的规定的光量比例、以及从分别对利用光集聚部集聚的出射光所含的第1波长特性的光的光量与第2波长特性的光的光量进行测定的传感器输出的光量测定值，生成分别控制第1发光元件以及第2发光元件的输出的输出控制信号，并将生成的输出控制信号分别输出到第1发光元件以及第2发光元件。

公开(公告)号：CN107850850A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680030951.0

申请日：2016-06-02

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 比企达也 ,  木村文男

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/20

Abstract: 公开一种能够使不同的多个波长的光以希望的光量比例出射的光源装置、具备该光源装置的曝光装置以及光源控制方法。光源装置(19)具备控制部(10)，其基于第1波长特性的光与第2波长特性的光的规定的光量比例、以及从分别对利用光集聚部集聚的出射光所含的第1波长特性的光的光量与第2波长特性的光的光量进行测定的传感器输出的光量测定值，生成分别控制第1发光元件以及第2发光元件的输出的输出控制信号，并将生成的输出控制信号分别输出到第1发光元件以及第2发光元件。

公开(公告)号：CN105319862A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510319338.8

申请日：2015-06-11

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 竹田幸一郎 ,  山本健 ,  杉田健一 ,  山崎恒男 ,  姜承俊 ,  大塚明 ,  川崎裕生 ,  比企达也 ,  今井洋之

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供光源装置，其使用不同波长的多个光源且不需要按照规定的排列严格配置光源。多个LD模块(1、2)分别具有1个LD和聚光透镜,射出不同波长的激光。各LD模块的LD由控制装置(99)控制其点亮、非点亮及输出(照度)。3个LD模块(1)和1个LD模块(2)的射出光输入第1光纤束部(b1),经由4条第1光纤(5)并通过第1连接器(6)聚集于1条第2光纤(7)。3条第2光纤被引导至第2光纤束部(b2),其出射端侧按照与对曝光头(18)内的DMD(56)的光照射区域形状对应的排列图案集束并与第3光纤(9)连接,经由第2连接器(10)与入射光学系统(40)连接,将激光引导至曝光装置(B)的曝光头(18)。

公开(公告)号：CN101135714A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710139032.X

申请日：2007-07-23

Applicant: 株式会社阿迪泰克工程

Inventor： 小林光明 ,  古见忠 ,  清水智久 ,  比企达也

IPC: G01R31/02 ,  G01R31/28

Abstract: 本发明提供一种描画式电路基板检查装置，其能够防止电极的单方磨损。若接通触点(I)和(N)、断开其它触点，来自恒流源(31)的电流流经触点(I)、探针(11)、电路图案(51)、探针(13)和触点(N)，探针(11)极性为正，探针(13)极性为负。电压测量器测量探针(11)与(13)间的电压，判定装置进行异常/正常的判定。若接通触点(M)和(J)、断开其它触点，来自恒流源的电流流经触点(M)、探针(13)、电路图案(51)、探针(11)和触点(J)，且可使探针(13)极性为正，使探针(11)极性为负。对开关矩阵的极性切换根据控制装置(5)的指令进行，且对应于操作者的指示或其他指令等进行。