公开(公告)号：CN118880277A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202410943605.8

申请日：2024-07-12

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明的实施例提供一种镀膜设备、镀膜方法、膜层以及器件。该镀膜设备包括：镀膜腔体，包括用于放置待镀膜的基材的镀膜腔室；液体进料装置，与所述镀膜腔室相连通，用于输送液体原料经气化后的第一气体原料至所述镀膜腔室内；固体进料装置，与所述镀膜腔室相连通，用于输送固体原料经升华裂解后的第二气体原料至所述镀膜腔室内。根据本发明的实施例，通过可控进料和镀膜工艺的精确控制，提升膜层质量和膜厚灵活控制。

公开(公告)号：CN118240436A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202211657188.8

申请日：2022-12-22

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  吴宗超 ,  康必显

IPC: C09D133/14 ,  B05D1/00 ,  C09D5/00 ,  C08F120/20 ,  C08F2/00

Abstract: 本发明具体实施方式提供一种涂层及其制备方法，所述涂层由一端为羧端基，一端为疏水链的单体α和具有丙烯酸酯结构单元和羟基的单体β等离子体聚合形成，所述涂层具有良好的疏水疏油性及成膜速度。

公开(公告)号：CN118239696A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202211665096.4

申请日：2022-12-22

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  齐美美

IPC: C03C17/32 ,  C08F120/06 ,  C08F220/20 ,  C08F220/34 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18 ,  C03C23/00

Abstract: 本发明实施例涉及一种制备膜层的方法、膜层、以及器件。所述制备膜层的方法包括以下步骤：将基材放置于反应腔体内；以及向所述反应腔体通入丙烯酸类材料和引发剂，在第一温度加热所述丙烯酸类材料和所述引发剂，以在第二温度的所述基材的表面形成膜层，所述第二温度低于所述第一温度。本发明实施例可以有助于以较短的时间、较为简单的工艺制备膜层等。

公开(公告)号：CN118239694A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202211657189.2

申请日：2022-12-22

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  陈海力

IPC: C03C17/30

Abstract: 本发明的具体实施方式提供一种亲水涂层、制备方法及器件，所述亲水涂层由有机硅单体在具有氧气的气氛条件下通过热丝化学气相沉积于基材表面所形成，所述亲水涂层具有优异的亲水性能，其水接触角在10°以下，并且，所述亲水涂层在高湿环境下具有优异的亲水保持性。

公开(公告)号：CN118056921A

公开(公告)日：2024-05-21

申请号：CN202211457747.0

申请日：2022-11-21

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚

IPC: C23C16/50 ,  C23C16/54 ,  C23C16/458

Abstract: 本申请实施例一方面涉及一种镀膜装置(10)，其包括：腔室(12)；镀膜原料入口(14)，位于腔室(12)、可连通腔室(12)内外；等离子体激发部(16)，设于腔室(12)；以及载送部(18)，位于腔室(12)内，载送部(18)可承载首尾相接的基材(20)、并可驱使基材(20)相对于等离子体激发部(16)运动。如此，可有利于基材(20)在镀膜过程中整个完全暴露在腔室(12)内，可有助于镀膜效率高、均匀性好等。

公开(公告)号：CN109246919B

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN201811242692.5

申请日：2018-10-24

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明涉及等离子体技术领域，尤其是涉及一种可变形电极及其应用设备、使用方法。该可变形电极包括：电极盘、变形调节件和等离子体传感器；所述变形调节件设置于所述电极盘的第一端面，以使所述电极盘于其直径位置形成若干个变形调节点位；所述等离子体传感器设置于所述电极盘的第二端面，且与各个所述变形调节点位一一对应。本发明能够通过灵活地改变电极形状，从而获得大范围均匀等离子体，结构简单，操作方便，利于推广与应用。

公开(公告)号：CN116406083A

公开(公告)日：2023-07-07

申请号：CN202111630294.2

申请日：2021-12-28

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  孙富恩

IPC: H05K3/00 ,  H05K3/28

Abstract: 本发明提供一种镀膜夹具及其形成方法。所述镀膜夹具包括：第一模板；第二模板，适于与所述第一模板匹配形成工件区和固定区，所述工件区包括至少一个单元，每个单元包括多个分隔开的工位以容纳多个待镀件，所述固定区适于对所述第一模板和所述第二模板匹配后进行固定，每个单元包括相邻的镀膜区和遮蔽区；每个单元的镀膜区周围设置有第一密封圈，适于对所述遮蔽区进行遮蔽；以及所述工件区和所述固定区之间设置有第二密封圈，适于对所述第一模板和第二模板匹配后进行遮蔽。本发明提供的镀膜夹具可以减少密封材料的使用，保证待镀件的待镀膜部分的镀膜效果，并对待镀件的非镀膜部分进行充分遮蔽。

公开(公告)号：CN114686841B

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202011575625.2

申请日：2020-12-28

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  孙富恩

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/50 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明主要提供一种曲面屏遮蔽装置，用于为一曲面屏幕组件在镀膜过程中提供遮蔽，所述曲面屏遮蔽装置包括至少一模板套和一柔性套，其中所述柔性套具有一第一容置空间，所述模板套具有一第二容置空间，其中所述曲面屏幕组件能够被容纳于所述第一容置空间，且所述柔性套能够被容纳于所述第二容置空间，其中所述模板套和所述柔性套的相应位置设置有至少一第一通孔，镀膜单体能够通过所述第一通孔到达所述曲面屏幕组件的一待镀膜区域，从而实现对所述曲面屏幕组件的所述待镀膜区域进行镀膜。本发明所述的曲面屏遮蔽装置能够为曲面屏幕组件提供精确的遮蔽和镀膜定位，从而使所述曲面屏幕组件完成精确位置的镀膜。

公开(公告)号：CN115074680A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202110269016.2

申请日：2021-03-12

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明公开一溅射镀膜装置和溅射镀膜组件，其中所述溅射镀膜装置用于对一靶材进行轰击以通过溅射镀膜的方式在一基体表面形成膜层，所述溅射镀膜装置包括：一反应腔体，所述反应腔体具有一反应腔；一电极组件和一放电线圈组件，所述电极组件和所述放电线圈组件被设置于所述反应腔内，在溅射镀膜时，所述基体被容置于所述反应腔内，所述靶材被设置于所述电极组件，所述电极组件和所述放电线圈组件被电连接于一射频电源，通过所述射频电源为所述电极组件和所述放电线圈组件提供工作的射频电流，以在所述基体表面沉积形成膜层。

公开(公告)号：CN114836737A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202110139689.6

申请日：2021-02-01

Applicant: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司

Inventor： 宗坚 ,  李福星

IPC: C23C16/507 ,  C23C16/458 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明主要提供一种电感耦合等离子体镀膜装置，用于为至少一待镀膜基材镀膜，所述电感耦合等离子体镀膜装置包括至少一装置主体、一基于电感耦合的等离子体发生单元、一介质板以及一支架，其中所述装置主体具有一反应腔室，所述待镀膜基材能够被设置于所述支架，所述支架被设置于所述反应腔室，所述等离子体发生单元被设置于所述装置主体的外侧壁以在所述反应腔室内产生一等离子体区，所述介质板被固定设置于所述等离子体发生单元与所述反应腔室之间以区隔所述等离子体发生单元和所述等离子体区。