公开(公告)号：CN115602512A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202110784277.8

申请日：2021-07-12

申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司(CN)

发明人： 李娜 ,  韩大健 ,  王海东 ,  郭颂 ,  刘海洋 ,  张怀东 ,  胡冬冬 ,  许开东

IPC分类号： H01J37/21 ,  H01J37/18 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  B08B7/00

摘要： 本发明涉及一种等离子体刻蚀装置及其运行工艺，在工艺腔室的内部设计两个遮挡盖，两个遮挡盖合并后形成一个中部完全封闭、上部和底部敞口的漏斗形；遮挡盖连接至气缸，随着气缸同步运动，实现两个遮挡盖之间的开启与关闭。在刻蚀阶段，气缸收缩，带着遮挡盖呈分离状态，不会遮挡晶圆，不会影响晶圆的刻蚀工艺；在清洗阶段：气缸伸长，两个遮挡盖合成一个完整漏斗形，遮挡住晶圆免受刻蚀，不会影响晶圆表面的材料和图形，提高刻蚀均匀性。而且本发明减少了顶针和机械手的来回运动，提高了整体工艺效率，降低了机台故障率，提高设备稳定性，同时根据不同的工艺调节遮挡部的位置，可以灵活的应用于多种工艺场合。