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公开(公告)号：CN116759324B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202311026573.7
申请日：2023-08-15
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种OES终点检测装置和半导体芯片加工装置，OES终点检测装置包括：密封端盖，用于密封真空腔室，真空腔室用于放置测试样品，密封端盖具有安装通孔；检测探头，安装于安装通孔处，并且检测探头用于对真空腔室内的测试样品进行光谱测试，并得到光谱信号；透明隔离件，可拆卸密封安装于安装通孔处，并位于检测探头与真空腔室内部之间，且沿安装通孔的轴线方向至少具有两个透明隔离件。由于沿安装通孔的轴线方向至少具有两个透明隔离件，且至少一个靠近检测探头的透明隔离件密封遮挡安装通孔，因此，在更换被污染的透明隔离件时，另外的透明隔离件还在密封安装通孔，可保证真空腔室内的密封性，不会影响OES终点检测装置的正常使用。
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公开(公告)号：CN116759324A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202311026573.7
申请日：2023-08-15
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种OES终点检测装置和半导体芯片加工装置，OES终点检测装置包括：密封端盖，用于密封真空腔室，真空腔室用于放置测试样品，密封端盖具有安装通孔；检测探头，安装于安装通孔处，并且检测探头用于对真空腔室内的测试样品进行光谱测试，并得到光谱信号；透明隔离件，可拆卸密封安装于安装通孔处，并位于检测探头与真空腔室内部之间，且沿安装通孔的轴线方向至少具有两个透明隔离件。由于沿安装通孔的轴线方向至少具有两个透明隔离件，且至少一个靠近检测探头的透明隔离件密封遮挡安装通孔，因此，在更换被污染的透明隔离件时，另外的透明隔离件还在密封安装通孔，可保证真空腔室内的密封性，不会影响OES终点检测装置的正常使用。
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公开(公告)号：CN116943926A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202210417112.1
申请日：2022-04-20
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种扫描喷嘴的供液清洗系统及扫描喷嘴的供液清洗方法，供液清洗系统包括机械臂、储液槽和排液槽；机械臂驱动扫描喷嘴在储液槽上方移动；储液槽的储液槽本体设有扫描液腔、清洗液腔、扫描液溢流腔、清洗液溢流腔等储液腔，各储液腔下端设有出液口并连有出液阀，还设有注液口并连有注液阀，扫描液腔设有洗涤液注入口并连有洗涤液注入阀；排液槽紧邻布置在储液槽下方，以容纳自出液口排出的液体。本申请快速高效地实现了扫描喷嘴的扫描液吸取和清洗，另外还能实现扫描液和清洗液的溢流、排放、更换和自动补液，储液槽洗涤等功能。而且，储液腔的液位、注液速度、出液速度可控，污染风险低，排液顺畅，液体不易残留。
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公开(公告)号：CN220456384U
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202320516883.6
申请日：2023-03-16
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本实用新型公开了一种无顶针式的晶圆固定装置、工艺腔，晶圆固定装置包括气缸升降机构、载台机构、托环机构和压环机构；所述托环机构和压环机构均与载台机构连接，气缸升降机构位于载台机构下方；载台机构在气缸升降机构的作用下抬升，施加向上的力在托环机构和压环机构上，驱使托环机构和压环机构分离，机械手从托环机构和压环机构之间的间隙移入或者移出托环机构放置晶圆的承托部；放置晶圆后，载台机构在气缸升降机构的作用下下降，压环机构和托环机构均下降，晶圆被压环机构压紧在托环机构内，并和托环机构一起沉入载台机构内。本实用新型能够避免因顶针升降而产生的晶圆偏置，并保证了多次传输晶圆在位的稳定性。
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公开(公告)号：CN220485813U
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202322134722.3
申请日：2023-08-08
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本实用新型公开了一种靶材安装装置和半导体芯片加工装置，靶材安装装置，包括：支架，位于真空腔室内，包括多个沿支架的周向布置成环形的靶材固定板，靶材固定板由所述环形的中心向外倾斜布置；罩壳组件，罩设于支架外侧，并且罩壳组件具有能够外露靶材的通孔，罩壳组件的倾斜方向与靶材固定板的倾斜方向相同；驱动组件，驱动支架相对于罩壳转动。将把靶材固定板呈环形布置，并将靶材固定板倾斜布置，从而可使靶材固定板一端的距离较小，即靶材固定板呈伞形布置，并且罩壳组件也呈伞形，采用此方式，可减小靶材固定板一端占用的罩壳组件内的空间，而罩壳组件也可减小占用的真空腔室的空间，实现了对真空腔室内部进行空间优化的目的。
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