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公开(公告)号：CN118064862A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202211413447.2
申请日：2022-11-11
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种离子束沉积系统，包括载片台和压环，所述压环位于所述载片台的上方，并能够沿所述载片台的轴线方向移动；还包括：比较片盘，其呈环状结构且设于所述载片台的外周，所述比较片盘沿其周向具有多个安装比较片的片位；所述压环具有一个透光孔，所述透光孔的形状与所述比较片适配；所述压环与所述载片台周向限位连接，且能覆盖所述比较片盘；所述载片台与所述比较片盘能够一起转动，也能够相对转动。通过结构优化，不需开腔就可实现多个比较片的自动切换作业，减少开腔更换比较片的频率，操作简单且能提高镀膜效率。
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公开(公告)号：CN118272764A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211732924.1
申请日：2022-12-30
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开一种离子束沉积系统的靶材装置，包括靶材部件(1)和第一驱动部件(2)，所述靶材部件(1)设置于真空反应腔室内部，且至少能够位于离子源发射的离子束所在的轰击位置，所述第一驱动部件(2)连接所述靶材部件(1)，所述第一驱动部件(2)用于驱动所述靶材部件(1)沿轴向旋转。本发明还公开一种离子束沉积系统。本发明离子束沉积系统的靶材装置中，增设第一驱动部件，将靶材部件设置为可旋转的形式，使得离子束能够均匀轰击靶材部件的内表面，增大靶材部件的轰击表面积，提高靶材部件的利用率。
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公开(公告)号：CN116779412B
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311079064.0
申请日：2023-08-25
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开了离子源挡板装置和离子束刻蚀机，离子源挡板装置包括基础件和叶片；叶片为多个，并分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件；其中，叶片能围成开口，且各叶片沿预设轨迹运动后能调节上述开口的尺寸。上述离子源挡板装置中，各叶片分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件，叶片围成的开口能通过各叶片沿预设轨迹运动实现调节尺寸，从而使开口的尺寸能与不同尺寸的晶圆适配，既不影响离子束穿过开口到达晶圆处进行刻蚀，又避免离子束刻蚀到未被晶圆覆盖的晶圆载台区域，保护晶圆载台免受损伤。本发明公开的离子束刻蚀机应用上述离子源挡板装置，能提高晶圆载台的使用寿命。
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公开(公告)号：CN116779412A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202311079064.0
申请日：2023-08-25
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本发明公开了离子源挡板装置和离子束刻蚀机，离子源挡板装置包括基础件和叶片；叶片为多个，并分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件；其中，叶片能围成开口，且各叶片沿预设轨迹运动后能调节上述开口的尺寸。上述离子源挡板装置中，各叶片分别能沿预设轨迹运动地安装于基础件，叶片围成的开口能通过各叶片沿预设轨迹运动实现调节尺寸，从而使开口的尺寸能与不同尺寸的晶圆适配，既不影响离子束穿过开口到达晶圆处进行刻蚀，又避免离子束刻蚀到未被晶圆覆盖的晶圆载台区域，保护晶圆载台免受损伤。本发明公开的离子束刻蚀机应用上述离子源挡板装置，能提高晶圆载台的使用寿命。
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公开(公告)号：CN220057004U
公开(公告)日：2023-11-21
申请号：CN202320513695.8
申请日：2023-03-16
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种离子束沉积系统的靶材装置，包括靶材、屏蔽罩、转动机构和驱动机构；所述转动机构包括磁流体轴和磁流体密封部，磁流体密封部固定在真空腔室侧壁外部，磁流体轴依次穿过磁流体密封部和真空腔室侧壁进入腔室内部；所述靶材固定在磁流体轴上，随磁流体轴转动；屏蔽罩套设在靶材外侧，与靶材之间具有间隙；所述驱动机构与转动机构连接，根据外部控制指令调整磁流体轴的转速。本实用新型能够实现多靶材可选，对于复杂膜系的沉积工艺有重要作用，而且工艺过程中可以对靶材进行水冷降温，提升了离子源溅射系统的溅射质量，靶材屏蔽装置在不开腔的情况下即可调整角度，结构筒单，操作方便。
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公开(公告)号：CN219303638U
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202223494984.2
申请日：2022-12-27
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01J37/20 , H01J37/305
摘要： 本实用新型公开了一种晶圆载台挡板结构，包括晶圆载台基板、晶圆载台、电极挡板机构，电极挡板机构包括驱动机构以及挡板；驱动机构的动力输出端通过连杆滑槽机构与挡板连接块连接，且挡板通过挡板连接块与升降导向机构的上端连接，挡板连接块相对于升降导向机构的上端可旋转设置；挡板连接块在驱动机构的动力驱动下，通过升降导向机构、连杆滑槽机构的协同作用，带动挡板相对于升降导向机构张开并下沉直至挡板处于预设位置或者上升并合拢直至覆盖在晶圆载台上。由此可见，本实用新型相比于其它挡板结构，减小了整个晶圆载台整体结构的占地空间，从而降低了整个腔室的制造成本，使用升降气缸结构成本低，结构简单稳定可靠。
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公开(公告)号：CN220485810U
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202322133279.8
申请日：2023-08-08
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种靶材保护装置及离子束沉积系统，包括保护壳、保护盖、遮挡盖、传动机构和驱动机构，其中：本实用新型的靶材保护装置，预清洗工作时，在驱动机构的作用下，通过传动机构带动遮挡盖或者保护盖，使得遮挡盖切换至遮挡位可以将窗口完全遮挡住，从而保护安装空腔靶材；当进行沉积工艺时，通过传动机构带动遮挡盖或者保护盖，使得遮挡盖切换至非遮挡位可以将窗口完全暴露，此时靶材暴露作为轰击目标，当进行沉积工艺时。可见，本实用新型可以有效保护靶材防止被污染，保证离子束沉积样品的纯度，还可以提高靶材的利用率，结构简单，操作方便。
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公开(公告)号：CN220485813U
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202322134722.3
申请日：2023-08-08
申请人： 江苏鲁汶仪器股份有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本实用新型公开了一种靶材安装装置和半导体芯片加工装置，靶材安装装置，包括：支架，位于真空腔室内，包括多个沿支架的周向布置成环形的靶材固定板，靶材固定板由所述环形的中心向外倾斜布置；罩壳组件，罩设于支架外侧，并且罩壳组件具有能够外露靶材的通孔，罩壳组件的倾斜方向与靶材固定板的倾斜方向相同；驱动组件，驱动支架相对于罩壳转动。将把靶材固定板呈环形布置，并将靶材固定板倾斜布置，从而可使靶材固定板一端的距离较小，即靶材固定板呈伞形布置，并且罩壳组件也呈伞形，采用此方式，可减小靶材固定板一端占用的罩壳组件内的空间，而罩壳组件也可减小占用的真空腔室的空间，实现了对真空腔室内部进行空间优化的目的。
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