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公开(公告)号：CN117328025A
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311274131.4
申请日：2023-09-28
申请人： 河南东微电子材料有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了一种小尺寸靶材与背板的绑定方法，先将靶材与背板进行预处理；将双面导电布的A单面粘贴在背板焊接面上，加热背板和靶材焊接面到恒定温度；开启超声波振动仪施加到背板焊接面的导电布B单面上；撕开B单面上的离型纸，将靶材对接到背板焊接面上，开启加热振动平台，并在靶材上施加配重，恒温加热后按冷却，即完成绑定。本发明中的绑定方法适用于六英寸及其以下的小尺寸靶材绑定，该绑定方法不会对靶材和背板造成污染，可降低残靶回收提纯成本，背板能进行重复使用，操作简单，不会造成靶材晶粒尺寸长大。通过该焊接方法得到的靶材与背板的焊合率大于99％，满足靶材溅射需求。
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公开(公告)号：CN113084150B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202110310641.7
申请日：2021-03-24
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种钌钴铼合金粉的制备方法，其步骤包括：一、按一定质量比称取钌粉（纯度99.99%）、钴片（纯度99.99%）、铼粉（纯度99.99%）；二、将原料混合放入中频真空感应炉中，在氩气保护下进行多次熔炼，得到均匀化的钌钴铼合金液；三、将母合金液经中间包导入高温气雾化炉，合金液流入雾化室进行气雾化分散，冷却后得到粉末；四、将步骤三所得粉末进行超声洗涤、干燥、分级筛分后，获得钌钴铼合金粉末产品。本发明通过限定原料和控制气雾化法工艺，可以制备纯度高于99.95%、平均粒径为15μm的钌钴铼合金粉末，该粉合金粉成分均匀、杂质少、流动性好。本发明工艺流程简单，适合批量化生产，满足磁控溅射靶材制备对高质量钌钴铼合金粉的要求。
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公开(公告)号：CN112355461A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011290462.3
申请日：2020-11-18
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明提供了一种镁靶材与铜背板焊接的方法，现有技术中，包括热等静压、电子束、离子焊等方法进行焊接靶材，容易造成靶材变形及靶材晶粒尺寸异常长大，而且不利控制成本，如果通过既能降低成本，还保证溅射需要的焊接强度，可以在传统焊接上进行创新，本发明从降低成本和阻止镁靶材氧化为出入点，发明内容有：对镁靶材和背板焊接面进行处理；将镁靶材和背板、钎料块放置氩气气氛平台中实施钎焊，实施钎焊的温度略高于钎料熔点即可。该平台具有抽真空和能在线操作功能，大大降低了制造成本，而且从钎料成分上进行改进，有助于提升焊接结合强度，经该发明方法实施的焊接强度都能达50Mpa以上。
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公开(公告)号：CN113042842A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110310635.1
申请日：2021-03-24
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明提供了一种钌靶材与背板焊接的方法，步骤包括：对钌靶材和背板焊接面清洗处理后用耐高温胶带包裹除焊接面以外的部位；放置于加热平台上预热；将熔融态钎料均匀摊铺在钌靶材和背板的焊接面上使形成一层预焊接层；进行再次添加钎料用超声波超声摊铺进一步焊合化；对接钌靶和背板按加热工艺实现焊接。经焊接质量检测本发明技术能提供高焊接强度能达60Mpa，焊合率能达99%以上，进而在机加工中心加工转速3000r/min时不脱靶。
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公开(公告)号：CN112517917A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN202011336758.4
申请日：2020-11-25
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于铬钛靶材的CrTiLa合金粉的制备方法，通过气雾化方法制备，包括：按一定量比称取Cr粉（纯度99.99%）、Ti粉（纯度99.95%）、La粉（纯度99.9%）；将混合粉放入中频真空感应炉中，在氩气气氛下进行多次熔炼，得到均匀化的CrTiLa合金液；将CrTiLa合金液导入高温气雾化炉，合金液流入雾化室进行气雾化分散，冷却后得到合金粉末；最后将CrTiLa合金粉末进行超声洗涤、干燥、分级筛分后，得到最终合金粉末。通过本发明专利方案制的合金粉末，粒径细小，平均粒径能达2～30μm，该粉合金粉成分均匀、杂质少、流动性好，满足磁记录介质靶材制备用粉体要求。
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公开(公告)号：CN118026647B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410120829.9
申请日：2024-01-29
申请人： 河南东微电子材料有限公司
IPC分类号： C04B35/053 , C04B35/622 , C04B35/64 , C23C14/34 , C23C14/08
摘要： 本发明涉及陶瓷靶材技术领域，具体涉及一种高透明氧化镁靶材及其制备方法。所述靶材由大颗粒和小颗粒两种氧化镁粉末以及粘结剂制备而成，所述大颗粒和小颗粒氧化镁粉末的用量比例为6～8:3，所述大颗粒氧化镁粉末的平均粒径为140～270nm，小颗粒氧化镁粉末的平均粒径为20～30nm。所述的高透明氧化镁靶材的制备方法包括以下步骤：(1)将大颗粒和小颗粒两种氧化镁粉末进行混合；(2)将步骤(1)混合后的氧化镁进行模压成型，得到氧化镁素坯；(3)将步骤(2)中所得的氧化镁素坯进行低温烘烤；(4)将步骤(3)中进行低温烘烤过的氧化镁素坯进行常压烧结；(5)将步骤(4)中所得的氧化镁烧结体进行热等静压烧结即得。
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公开(公告)号：CN113416913B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202110746747.1
申请日：2021-07-02
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明提供了一种氧化镁靶材背板的氧化铝涂层制备方法，步骤包括：将氧化镁靶材溅射面、背板非喷涂面均用耐高温布包裹保护；清洗喷涂的部位；对喷涂部位进行喷砂处理；再次清洗喷涂部位；等离子喷涂工艺进行氧化铝喷涂；氧化铝涂层进行磨削抛光处理。本发明的氧化铝涂层能在磁控溅射中保护氧化镁靶材和背板，能有效避免焊接层料因发热而受损影响磁控溅射，延长氧化镁靶材使用寿命，对降低镀膜不良率，提高成膜质量起着至关重要作用。
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公开(公告)号：CN112517917B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202011336758.4
申请日：2020-11-25
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于铬钛靶材的CrTiLa合金粉的制备方法，通过气雾化方法制备，包括：按一定量比称取Cr粉（纯度99.99%）、Ti粉（纯度99.95%）、La粉（纯度99.9%）；将混合粉放入中频真空感应炉中，在氩气气氛下进行多次熔炼，得到均匀化的CrTiLa合金液；将CrTiLa合金液导入高温气雾化炉，合金液流入雾化室进行气雾化分散，冷却后得到合金粉末；最后将CrTiLa合金粉末进行超声洗涤、干燥、分级筛分后，得到最终合金粉末。通过本发明专利方案制的合金粉末，粒径细小，平均粒径能达2～30μm，该粉合金粉成分均匀、杂质少、流动性好，满足磁记录介质靶材制备用粉体要求。
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公开(公告)号：CN113084150A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110310641.7
申请日：2021-03-24
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种钌钴铼合金粉的制备方法，其步骤包括：一、按一定质量比称取钌粉（纯度99.99%）、钴片（纯度99.99%）、铼粉（纯度99.99%）；二、将原料混合放入中频真空感应炉中，在氩气保护下进行多次熔炼，得到均匀化的钌钴铼合金液；三、将母合金液经中间包导入高温气雾化炉，合金液流入雾化室进行气雾化分散，冷却后得到粉末；四、将步骤三所得粉末进行超声洗涤、干燥、分级筛分后，获得钌钴铼合金粉末产品。本发明通过限定原料和控制气雾化法工艺，可以制备纯度高于99.95%、平均粒径为15μm的钌钴铼合金粉末，该粉合金粉成分均匀、杂质少、流动性好。本发明工艺流程简单，适合批量化生产，满足磁控溅射靶材制备对高质量钌钴铼合金粉的要求。
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公开(公告)号：CN112371987A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011268348.0
申请日：2020-11-13
申请人： 河南东微电子材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种铁钴硼铬铝合金粉的制备方法，其步骤包括：一、按一定质量比称取铁块（纯度99.99%）、钴片（纯度99.99%）、铁硼粉（纯度99.9%，粒度>300μm）、铬块（纯度99.99%）、铝块（纯度99.99%）；二、将原料混合放入中频真空感应炉中，在氩气保护下进行多次熔炼，得到均匀化的铁钴硼铬铝合金液；三、将母合金液经中间包导入高温气雾化炉，合金液流入雾化室进行气雾化分散，冷却后得到粉末；四、将步骤三所得粉末进行超声洗涤、干燥、分级筛分后，获得铁钴硼铬铝合金粉末产品。本发明通过限定原料和控制气雾化法工艺，可以制备纯度高于99.95%、平均粒径为56μm的铁钴硼铬铝合金粉末，该粉合金粉成分均匀、杂质少、流动性好。本发明工艺流程简单，适合批量化生产，满足磁控溅射靶材制备对高质量铁钴硼铬铝合金粉的要求。
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