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公开(公告)号:CN116379974B
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN202310177455.X
申请日:2023-02-28
申请人: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
摘要: 本发明公开了一种多波长光源检测光学元件表面特性装置及方法,包括多波长光源模块、高精度运动平台、安装在高精度运动平台上的用于夹持待测光学元件的样品台、散射探测模块、与散射探测模块连接的数据分析处理模块以及用于控制高精度运动平台运动的控制模块;多波长光源模块由多台激光器和对应的多台光功率计组成;光功率计用于实时检测激光器的出射功率,激光器出射的激光光线透射经过分光镜后,再通过对应的二向色镜后同轴照射在待测光学元件表面形成散射光,散射光经散射探测模块收集并通过数据分析处理模块进行分析。利用本发明,可实现光学元件表面散射信号检测,建立与光学元件表面粗糙度检测、损伤阈值的关系。
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公开(公告)号:CN116040955B
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN202310074481.X
申请日:2023-02-07
申请人: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC分类号: C03C15/00
摘要: 本发明公开了一种用于检测系统标定的熔石英表面微纳结构加工方法,包括以下步骤:S1:准备熔石英玻璃基片,依次经过超声机、等离子机清洗后,吹干备用;S2:依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、电子束光刻胶、导电胶;S3:采用电子束曝光的方式,将待加工纳米级图形结构转移至表面的电子束光刻胶上;S4:对熔石英玻璃基片进行刻蚀后,洗净熔石英玻璃基片;S5:依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、光刻胶;S6:采用激光直写曝光的方式,将待加工微米级图形结构以套刻的形式转移至表面的光刻胶上;S7:对玻璃基片进行刻蚀,洗净玻璃基片,形成最终的玻璃器件结构。利用本发明,可以解决现有标定板中线宽过大、长度无法充满整个幅宽的问题。
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公开(公告)号:CN116040955A
公开(公告)日:2023-05-02
申请号:CN202310074481.X
申请日:2023-02-07
申请人: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC分类号: C03C15/00
摘要: 本发明公开了一种用于检测系统标定的熔石英表面微纳结构加工方法,包括以下步骤:S1:准备熔石英玻璃基片,依次经过超声机、等离子机清洗后,吹干备用;S2:依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、电子束光刻胶、导电胶;S3:采用电子束曝光的方式,将待加工纳米级图形结构转移至表面的电子束光刻胶上;S4:对熔石英玻璃基片进行刻蚀后,洗净熔石英玻璃基片;S5:依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、光刻胶;S6:采用激光直写曝光的方式,将待加工微米级图形结构以套刻的形式转移至表面的光刻胶上;S7:对玻璃基片进行刻蚀,洗净玻璃基片,形成最终的玻璃器件结构。利用本发明,可以解决现有标定板中线宽过大、长度无法充满整个幅宽的问题。
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公开(公告)号:CN116027616A
公开(公告)日:2023-04-28
申请号:CN202310177371.6
申请日:2023-02-28
申请人: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC分类号: G03B15/02 , F21V21/14 , G01N21/892 , G01N21/01
摘要: 本发明公开了一种冷轧钢在线检测多向线性照明装置及其应用,包括上表面照明主体、下表面照明主体和连接结构;上表面照明主体和下表面照明主体的结构相同,均包括由阵列连接件固定的若干个照明单元;每个照明单元包括由散热片、壳体和出光口组成的外壳以及在壳体内设置的LED阵列、聚光器件、横向光栅、匀化器件和纵向光栅;LED阵列由一字排列的若干RGB LED灯珠组成;聚光器件用于将LED阵列产生的光进行汇聚;横向光栅用于消除照明单元内的杂散光;匀化器件用于对经过横向光栅的光进行匀化;纵向光栅用于将光源整形成与物体运动方向相垂直的纵向交叉光。利用本发明,可根据冷轧钢等长带状产品幅宽和表面反射特性等特点灵活调整以此提供合适的照明。
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公开(公告)号:CN116379974A
公开(公告)日:2023-07-04
申请号:CN202310177455.X
申请日:2023-02-28
申请人: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
摘要: 本发明公开了一种多波长光源检测光学元件表面特性装置及方法,包括多波长光源模块、高精度运动平台、安装在高精度运动平台上的用于夹持待测光学元件的样品台、散射探测模块、与散射探测模块连接的数据分析处理模块以及用于控制高精度运动平台运动的控制模块;多波长光源模块由多台激光器和对应的多台光功率计组成;光功率计用于实时检测激光器的出射功率,激光器出射的激光光线透射经过分光镜后,再通过对应的二向色镜后同轴照射在待测光学元件表面形成散射光,散射光经散射探测模块收集并通过数据分析处理模块进行分析。利用本发明,可实现光学元件表面散射信号检测,建立与光学元件表面粗糙度检测、损伤阈值的关系。
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