壳体、应用该壳体的电子装置及其制作方法

    公开(公告)号:CN105098348A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201510265280.3

    申请日:2015-05-22

    IPC分类号: H01Q1/42 H01Q1/22 H05K5/00

    CPC分类号: H01Q1/243 H01Q9/42

    摘要: 一种壳体,适用于具有天线的电子装置,该壳体包括一基体,所述基体对应天线开设有槽,该基体围成所述槽的表面形成有非导体膜,该非导体膜物理连接且电气隔离位于其两侧的壳体。本发明还提供应用该壳体的电子装置及该壳体的制作方法。本发明所提供的电子装置的壳体通过于该基体开设至少一槽,并于围成该槽的表面形成一非导体膜,该非导体膜物理连接且电气隔离位于其两侧的基体,如此,该槽对应的天线的信号可顺利通过,同时,该非导体膜与基体具有相似的外观,该基体与非导体膜之间不会存在较大的颜色差异,如此,所述壳体可达到较佳的外观效果。

    表面具微弧氧化陶瓷膜的铝合金及其制备方法

    公开(公告)号:CN101608332B

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200810302204.5

    申请日:2008-06-19

    IPC分类号: C25D11/04

    摘要: 一种铝合金,包括一铝合金基体及形成于该基体表面的微弧氧化陶瓷膜,所述陶瓷膜包括一底部过渡层,该陶瓷膜还包括一中间致密层及一表面致密层。一种铝合金的制备方法,用以使该铝合金表面生成无疏松层的微弧氧化陶瓷膜,其包括如下步骤:将铝合金基体置于含电解液的氧化槽中;采用恒定电流对该铝合金基体进行初始氧化处理;采用正负双向脉冲电压对铝合金基体继续进行氧化处理,所述正负向电压上升到最大值后保持恒定,最大恒定正电压为450V~650V,最大恒定负电压为30V~200V,正负向脉宽为1000~10000μs,脉间为300~2000μs,所述继续氧化处理时间为30~180分钟,处理温度在20~50℃之间。

    壳体、应用该壳体的电子装置及其制作方法

    公开(公告)号:CN106211684B

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201510231373.4

    申请日:2015-05-08

    IPC分类号: H05K5/04 H05K5/02

    摘要: 一种壳体,应用于电子装置,包括壳体及视窗部,所述壳体包括金属基体及至少一绝缘部件,所述基体包括相对设置的内表面与外表面,所述基体的内表面开设至少一凹槽;所述基体的外表面对应每一凹槽开设一贯通至该凹槽的缝隙,所述缝隙将其两侧的基体电气隔断;所述绝缘部件嵌入所述凹槽中并固定连接由该缝隙分隔的基体。本发明还提供该壳体的制作方法及应用该壳体的电子装置。本发明所提供的电子装置的壳体通过于中框的基体上开设凹槽,且于该凹槽处开设至少一缝隙贯通至该基体的外表面,且形成一绝缘部件嵌入所述凹槽中,并固定连接由该缝隙分隔的部分,使得该基体能够稳固地连接于一体。