一种玻璃基板封装结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN118658848A

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202410701175.9

    申请日:2024-05-31

    IPC分类号: H01L23/498 H01L21/48

    摘要: 本发明提供一种玻璃基板封装结构及其制备方法。所述玻璃基板封装结构包括依次层叠设置的第一电路层、第一绝缘介质层、玻璃芯板、第二绝缘介质层和第二电路层;玻璃芯板中设置有通孔A,通孔A中填充有绝缘介质材料和金属柱,绝缘介质材料包覆所述金属柱;金属柱贯穿第一绝缘介质层和第二绝缘介质层,且与第二电路层、第二电路层连接。本发明通过对玻璃基板封装结构进行设计,进一步通过绝缘介质材料和金属柱填充通孔A,并设置绝缘介质材料包覆金属柱,提高了玻璃基板封装结构中金属柱与玻璃芯板之间的结合力,降低了玻璃芯板金属化的生产成本及工艺难度,制备得到了性能优异的玻璃基板封装结构。

    一种多层线路板互连结构及其制备方法、应用

    公开(公告)号:CN116437568A

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN202310412701.5

    申请日:2023-04-10

    IPC分类号: H05K1/14 H05K1/11 H05K3/46

    摘要: 本发明公开一种多层线路板互连结构及其制备方法、应用,多层线路板互连结构包括:至少两块层叠设置且固定连接的基板;所述基板包括:具有多层线路的芯板,所述芯板的第一表面设置有树脂连接层;所述芯板的与所述第一表面相对的第二表面设置有保护层;所述树脂连接层与所述保护层均设有第一盲孔;所述树脂连接层与所述保护层相互靠近的第一盲孔中设置有焊锡,所述至少两块基板通过所述焊锡固定连接。本发明通过在具有多层线路的基板的第一表面(上表面)和第二表面(下表面)分别设置树脂连接层和保护层,在现有锡球焊接的基础上,通过绝缘介质层将基板与基板之间进行进一步贴合,有效防止了基板大尺寸化和超薄化引起的翘曲现象。

    一种SLP类载板及其制备工艺和应用

    公开(公告)号:CN117320266A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311270977.0

    申请日:2023-09-27

    摘要: 本发明提供一种SLP类载板及其制备工艺和应用。所述制备工艺包括如下步骤:在芯层两侧分别设置第一介质层A和第一介质层B,并设置盲孔;然后在第一介质层A和第一介质层B的一侧分别设置第一镀铜层A和第一镀铜层B;分别在第一镀铜层A和第一镀铜层B的一侧分别设置感光干膜,并设置线路图;然后进行图形电镀,得到第一金属层A和第一金属层B,除去感光干膜;对第一镀铜层A和第一镀铜层B进行闪蚀,得到第一线路层A和第一线路层B;重复上述步骤,得到多层线路板;在多层线路板的两侧分别设置阻焊层,得到SLP类载板。本发明通过对SLP类载板制备工艺的设计,使用不带铜箔的积层材料成功制备得到了SLP类载板。

    一种玻璃基电路元器件及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116209161A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202310243374.5

    申请日:2023-03-14

    摘要: 本发明提供一种玻璃基电路元器件及其制备方法和应用。所述制备方法包括如下步骤:对上下表面均设置有绝缘介质层的玻璃基板进行激光处理,去除部分绝缘介质层,同时在所述玻璃基板上形成激光诱导区域,得到经激光处理的复合层;对复合层进行沾污处理和腐蚀处理,得到带通孔的复合层;在复合层表面设置种子金属层,进行图形电镀掩膜,设置第一电路层,去除图形电镀掩膜以及部分种子金属层后,在其上下表面分别交叠绝缘介质层和第二电路层后,得到多层线路板,在多层线路板的上下表面分别设置保护层,得到所述玻璃基电路元器件。本发明中采用激光处理和腐蚀处理,制备得到了性能优异、良率较高的玻璃基电路元器件。

    一种埋入式元器件基板及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115939057A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202211492235.8

    申请日:2022-11-25

    IPC分类号: H01L23/31

    摘要: 本发明提供一种埋入式元器件及其制备方法和应用。所述基板包括依次叠加设置的第一绝缘层、至少2层复合层、第一树脂层、芯层、第二树脂层、至少2层复合层、第二绝缘层和锡焊球;所述芯层中设置有通孔,通孔中设置有元器件;所述复合层、第一树脂层、第二树脂层中设置有盲孔,盲孔的位置与通孔的位置相对应;所述复合层包括相贴合的树脂层和线路层。本发明中通过将元器件设置于芯层通孔中,通过立体式分布,合理运用了基板空间,且制备得到的基板具有较好的介电性能和较低的热膨胀系数,适用于SiP封装。