公开(公告)号：CN108352296A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680063511.5

申请日：2016-10-20

申请人： 细美事有限公司 ,  首尔大学校产学协力团

发明人： 李秀燕 ,  金昊永 ,  金承镐 ,  李在洪 ,  金俊吾 ,  金袗圭 ,  姜秉万 ,  郑仁一

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67028 ,  B08B5/02 ,  H01L21/02 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785

摘要： 本发明涉及一种基板处理设备。根据本发明，该基板处理设备包括：为处理基板提供空间的腔室；设置在腔室中并用于支撑基板的支撑单元；向由支撑单元支撑的基板供应清洗介质的喷嘴。其中该喷嘴包括收缩部、扩张部和孔口。收缩部具有入口，通过该入口流入清洗介质，且该收缩部具有随着远离入口而减小的截面面积。扩张部具有喷射孔，通过喷射孔喷射清洗介质，且该扩张部具有随着靠近喷射孔而增加的截面面积。孔口位于收缩部和扩张部之间。其中流入到收缩部中的清洗介质是单一气体。