公开(公告)号：CN108352296A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680063511.5

申请日：2016-10-20

申请人： 细美事有限公司 ,  首尔大学校产学协力团

发明人： 李秀燕 ,  金昊永 ,  金承镐 ,  李在洪 ,  金俊吾 ,  金袗圭 ,  姜秉万 ,  郑仁一

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67028 ,  B08B5/02 ,  H01L21/02 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/683 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68785

摘要： 本发明涉及一种基板处理设备。根据本发明，该基板处理设备包括：为处理基板提供空间的腔室；设置在腔室中并用于支撑基板的支撑单元；向由支撑单元支撑的基板供应清洗介质的喷嘴。其中该喷嘴包括收缩部、扩张部和孔口。收缩部具有入口，通过该入口流入清洗介质，且该收缩部具有随着远离入口而减小的截面面积。扩张部具有喷射孔，通过喷射孔喷射清洗介质，且该扩张部具有随着靠近喷射孔而增加的截面面积。孔口位于收缩部和扩张部之间。其中流入到收缩部中的清洗介质是单一气体。

公开(公告)号：CN110690140A

公开(公告)日：2020-01-14

申请号：CN201910602579.1

申请日：2019-07-05

申请人： 细美事有限公司

发明人： 韩旻成 ,  金度延 ,  金袗圭 ,  朱润钟

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 一种用于处理基板的设备，包括：处理容器，其内部具有处理空间；基板支撑单元，其支撑所述处理容器中的基板并且使所述基板在所述处理容器中旋转；以及喷嘴单元，其将处理液体分配到所述基板上。所述喷嘴单元包括：喷嘴，其分配所述处理液体；和紫外线(UV)光供应单元，其发射UV光以活化分配到所述基板上的所述处理液体的自由基。

公开(公告)号：CN110690140B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN201910602579.1

申请日：2019-07-05

申请人： 细美事有限公司

发明人： 韩旻成 ,  金度延 ,  金袗圭 ,  朱润钟

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 一种用于处理基板的设备，包括：处理容器，其内部具有处理空间；基板支撑单元，其支撑所述处理容器中的基板并且使所述基板在所述处理容器中旋转；以及喷嘴单元，其将处理液体分配到所述基板上。所述喷嘴单元包括：喷嘴，其分配所述处理液体；和紫外线(UV)光供应单元，其发射UV光以活化分配到所述基板上的所述处理液体的自由基。

公开(公告)号：CN115985836A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202211262351.0

申请日：2022-10-14

申请人： 细美事有限公司

发明人： 孙源湜 ,  吴世勋 ,  金袗圭 ,  郑仁基 ,  俞廷协

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/67

摘要： 提供基板处理装置和基板处理方法，该装置包括：具有加工空间的加工容器；在加工空间中支承基板并旋转基板的支承单元；将加工液供应到由支承单元支承的基板的液体供应单元；以及加热基板的加热单元。支承单元包括：旋转自旋卡盘的驱动器；安装在自旋卡盘上以与之一起旋转的卡盘销；在卡盘销与基板的侧部接触的接触位置与卡盘销与基板的侧部间隔开的打开位置之间移动卡盘销的卡盘销移动单元。卡盘销移动单元包括：联接到卡盘销并与之一起旋转的第一驱动模块和面向第一驱动模块且不与自旋卡盘一起旋转的第二驱动模块，第一驱动模块包括第一磁性体，第二驱动模块包括面向第一磁性体的第二磁性体和在竖直方向上驱动第二磁性体的驱动构件。

公开(公告)号：CN106409657B

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201610615161.0

申请日：2016-07-29

申请人： 细美事有限公司

发明人： 吴世勋 ,  崔基勋 ,  金袗圭

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

摘要： 公开的是一种用于将流体供应到基板的喷嘴，所述喷嘴包括主体，所述主体具有液体排出管线和气体排出管线，液体流过所述液体排出管线，所述气体排出管线围绕所述液体排出管线，且气体流过所述气体排出管线，其中，所述主体包括多个液体排出孔以及气体排出孔，所述多个液体排出孔排出流过所述液体排出管线的液体，所述气体排出孔排出流过所述气体排出管线的气体。

公开(公告)号：CN109390250B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN201810863494.4

申请日：2018-08-01

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金度延 ,  金袗圭 ,  朱润锺 ,  韩旻成 ,  元俊皓 ,  玄龙卓

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02

摘要： 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。根据本发明的一个实施例的基板处理装置，其包括：处理液供给管；喷嘴部，从所述处理液供给管供给处理液，并向基板吐出处理液；光源部，对从所述喷嘴部吐出的处理液进行紫外线照射。根据本发明，通过向经过处理液供给管的过程中带电的处理液进行紫外线照射来对处理液进行除电，最小化因上述原因导致基板被周围颗粒物所污染或基板上发生电弧现象的问题。

公开(公告)号：CN107579018B

公开(公告)日：2021-07-13

申请号：CN201710386836.3

申请日：2017-05-26

申请人： 细美事有限公司

发明人： 崔基勋 ,  金袗圭 ,  朱润钟 ,  韩旻成 ,  姜秉万

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02

摘要： 公开了一种液体处理装置和一种液体处理方法。该液体处理装置包括：提供用于加工基板的空间的室；设置在该室中以支撑基板的支撑单元；喷射单元，其具有喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应清洁介质；以及辅助喷射单元，其具有辅助喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应防污染液体。

公开(公告)号：CN106409657A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201610615161.0

申请日：2016-07-29

申请人： 细美事有限公司

发明人： 吴世勋 ,  崔基勋 ,  金袗圭

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

摘要： 公开的是一种用于将流体供应到基板的喷嘴，所述喷嘴包括主体，所述主体具有液体排出管线和气体排出管线，液体流过所述液体排出管线，所述气体排出管线围绕所述液体排出管线，且气体流过所述气体排出管线，其中，所述主体包括多个液体排出孔以及气体排出孔，所述多个液体排出孔排出流过所述液体排出管线的液体，所述气体排出孔排出流过所述气体排出管线的气体。

公开(公告)号：CN109390250A

公开(公告)日：2019-02-26

申请号：CN201810863494.4

申请日：2018-08-01

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金度延 ,  金袗圭 ,  朱润锺 ,  韩旻成 ,  元俊皓 ,  玄龙卓

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02

摘要： 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。根据本发明的一个实施例的基板处理装置，其包括：处理液供给管；喷嘴部，从所述处理液供给管供给处理液，并向基板吐出处理液；光源部，对从所述喷嘴部吐出的处理液进行紫外线照射。根据本发明，通过向经过处理液供给管的过程中带电的处理液进行紫外线照射来对处理液进行除电，最小化因上述原因导致基板被周围颗粒物所污染或基板上发生电弧现象的问题。

公开(公告)号：CN107579018A

公开(公告)日：2018-01-12

申请号：CN201710386836.3

申请日：2017-05-26

申请人： 细美事有限公司

发明人： 崔基勋 ,  金袗圭 ,  朱润钟 ,  韩旻成 ,  姜秉万

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  B08B5/00 ,  B08B5/02 ,  B08B17/02 ,  B08B2203/0229 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67173

摘要： 公开了一种液体处理装置和一种液体处理方法。该液体处理装置包括：提供用于加工基板的空间的室；设置在该室中以支撑基板的支撑单元；喷射单元，其具有喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应清洁介质；以及辅助喷射单元，其具有辅助喷嘴以用于向由支撑单元支撑的基板供应防污染液体。