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公开(公告)号：CN104942701A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510145314.5
申请日：2015-03-30
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/12 , G02B1/12 , H01F41/00 , H01L21/30625 , Y10T29/49826
摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光垫，其包括：具有抛光表面的抛光层；以及终点检测窗口；其中所述终点检测窗口包括以下组分的反应产物，所述组分包括：具有2-6.5重量％的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物以及固化剂体系，所述固化剂体系包括：至少5重量的双官能的固化剂、至少5重量％的胺引发的多元醇固化剂以及25-90重量％的高分子量多元醇固化剂，所述胺引发的多元醇固化剂每个分子具有至少一个氮原子并且每个分子平均具有至少三个羟基；所述高分子量多元醇固化剂的数均分子量MN为2,000-100,000，并且每个分子平均具有3-10个羟基。本发明还提供了制备和使用所述化学机械抛光垫的方法。
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公开(公告)号：CN104029114B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201410080619.8
申请日：2014-03-06
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/042 , B24B37/22 , B24B37/24 , B32B37/1284
摘要： 本发明提供了一种多层化学机械抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域；多孔子垫层，该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域；以及广谱终点检测窗口块体；其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域；其中，所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口；其中，所述扩孔开口开在所述抛光表面上，使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分；并且所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。
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公开(公告)号：CN104942701B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201510145314.5
申请日：2015-03-30
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/12 , G02B1/12 , H01F41/00 , H01L21/30625 , Y10T29/49826
摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光垫，其包括：具有抛光表面的抛光层；以及终点检测窗口；其中所述终点检测窗口包括以下组分的反应产物，所述组分包括：具有2‑6.5重量％的未反应的NCO基团的异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物以及固化剂体系，所述固化剂体系包括：至少5重量的双官能的固化剂、至少5重量％的胺引发的多元醇固化剂以及25‑90重量％的高分子量多元醇固化剂，所述胺引发的多元醇固化剂每个分子具有至少一个氮原子并且每个分子平均具有至少三个羟基；所述高分子量多元醇固化剂的数均分子量MN为2,000‑100,000，并且每个分子平均具有3‑10个羟基。本发明还提供了制备和使用所述化学机械抛光垫的方法。
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公开(公告)号：CN104029115A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410080879.5
申请日：2014-03-06
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： B24B37/24 , C08F210/02 , C08F232/06 , C08F232/08
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/013 , B24B37/22 , B24B37/24 , B32B5/022 , B32B5/024 , B32B7/12 , B32B27/065 , B32B27/12 , B32B27/325 , B32B27/327 , B32B37/12 , B32B37/1284 , B32B2266/06 , B32B2307/208 , B32B2432/00 , C08F210/02 , C08F232/06 , C08F232/08
摘要： 本发明提供了一种多层化学机械抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域；多孔子垫层，该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域；以及包含环状烯烃加成聚合物的广谱终点检测窗口块体；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度上具有均匀的化学组成；其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域；其中，所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口；其中，所述扩孔开口开在所述抛光表面上，使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分；以及其中，所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。
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公开(公告)号：CN104029114A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410080619.8
申请日：2014-03-06
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/042 , B24B37/22 , B24B37/24 , B32B37/1284
摘要： 本发明提供了一种多层化学机械抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域；多孔子垫层，该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域；以及广谱终点检测窗口块体；其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域；其中，所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口；其中，所述扩孔开口开在所述抛光表面上，使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分；并且所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。
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公开(公告)号：CN104029115B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201410080879.5
申请日：2014-03-06
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC分类号： B24B37/24 , C08F210/02 , C08F232/06 , C08F232/08
CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/013 , B24B37/22 , B24B37/24 , B32B5/022 , B32B5/024 , B32B7/12 , B32B27/065 , B32B27/12 , B32B27/325 , B32B27/327 , B32B37/12 , B32B37/1284 , B32B2266/06 , B32B2307/208 , B32B2432/00
摘要： 本发明提供了一种多层化学机械抛光垫，其包括：抛光层，所述抛光层具有抛光表面、扩孔开口、与抛光表面平行的抛光层界面区域；多孔子垫层，该子垫层具有底表面以及平行于底表面的多孔子垫层界面区域；以及包含环状烯烃加成聚合物的广谱终点检测窗口块体；其中所述广谱终点检测窗口块体在其厚度上具有均匀的化学组成；其中所述抛光层界面区域和多孔子垫层界面区域形成共延伸区域；其中，所述多层化学机械抛光垫具有从所述抛光表面延伸至所述多孔子垫层的底表面的贯穿开口；其中，所述扩孔开口开在所述抛光表面上，使所述贯穿开口扩大并形成阶状部分；以及其中，所述广谱终点检测窗口块体设置在所述扩孔开口内。
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公开(公告)号：CN103802018A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201310757251.X
申请日：2013-11-01
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
摘要： 本发明提供了用于抛光基材的含有抛光层的化学机械抛光垫，所述基材选自磁性基材、光学基材和半导体基材的至少一种，其中，抛光层包含原材料组分(包括：多官能异氰酸酯和固化剂组合物)的反应产物；其中，固化剂组合物包含胺引发的多元醇固化剂、高分子量的多元醇固化剂和任选的双官能固化剂；其中，所述抛光层的密度大于0.6g/cm3，邵氏D硬度为5-40，断裂伸长率为100-450％，以及，切削速率为25-150μm/hr；以及，其中抛光层具有适于抛光基材的抛光表面。本发明还提供了该化学机械抛光垫的制造和使用方法。
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公开(公告)号：CN103802018B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201310757251.X
申请日：2013-11-01
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
摘要： 柔软可修整的化学机械抛光垫。本发明提供了用于抛光基材的含有抛光层的化学机械抛光垫，所述基材选自磁性基材、光学基材和半导体基材的至少一种，其中，抛光层包含原材料组分(包括：多官能异氰酸酯和固化剂组合物)的反应产物；其中，固化剂组合物包含胺引发的多元醇固化剂、高分子量的多元醇固化剂和任选的双官能固化剂；其中，所述抛光层的密度大于0.6g/cm3，邵氏D硬度为5‑40，断裂伸长率为100‑450％，以及，切削速率为25‑150μm/hr；以及，其中抛光层具有适于抛光基材的抛光表面。本发明还提供了该化学机械抛光垫的制造和使用方法。
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