一种自动调节水平的工作台的工作方法

    公开(公告)号:CN103303840B

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201310256091.0

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: B66F7/08

    摘要: 本发明涉及一种自动调节水平的工作台的工作方法,包括:用于支撑工作台面的至少三个可调高度的支腿组件,该支腿组件包括:上支腿和下支腿,以及设于上、下支腿之间的升降机构;该升降机构的缸体的侧面及缸盖处分别设有液压进、出口,该液压进、出口通过液压管线与一液压泵相连;工作台面的下端面设有一双轴水平传感器,该水平传感器与一处理器单元相连;处理器单元控制升降机构中的通孔打开,介质从升降机构中的活塞体组件上方流向其下方,使缸体向下运动,以降低相应上支腿的高度,或关闭通孔,启动液压泵,使介质通过液压管线从活塞体组件下方流向其上方,使缸体向上运动,以升高相应上支腿的高度,直至工作台面水平。

    能延长寿命的直线导轨的工作方法

    公开(公告)号:CN104912929A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510185292.5

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16C29/02 F16F9/512 F16F9/34

    摘要: 本发明涉及一种能延长寿命的直线导轨的工作方法,包括导轨体、滑块、以及设于该导轨体左端的缓冲器;缓冲器包括:缸体,在该缸体的开口端设有缸盖,由一活塞杆穿过该缸盖,且该活塞杆右端设有活塞体组件;活塞杆的左端与导轨体的左端固定连接;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中设有电磁铁,活塞体组件的右端面上设有压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击缸体的右端部时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,以吸合滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。

    一种直线导轨
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104912927A

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201510184938.8

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16C29/02 F16F9/512 F16F9/34

    摘要: 本发明涉及一种适于防止滑块撞击后反弹的直线导轨,包括导轨体、滑块、以及设于该导轨体左端的缓冲器;缓冲器包括:缸体,在该缸体的开口端设有缸盖,由一活塞杆穿过该缸盖,且该活塞杆右端设有活塞体组件;活塞杆的左端与导轨体的左端固定连接;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中设有电磁铁,活塞体组件的右端面上设有压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击缸体的右端部时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,以吸合滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。

    具有活塞体组件的工作台的工作方法

    公开(公告)号:CN104889958A

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201510185730.8

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: B25H1/16 B25H1/02

    CPC分类号: B25H1/16 B25H1/02

    摘要: 本发明涉及一种具有活塞体组件的工作台的工作方法,包括:用于支撑工作台面的至少三个可调高度的支腿组件,该支腿组件包括:上支腿和下支腿,以及设于上、下支腿之间的升降机构;该升降机构的缸体的侧面及缸盖处分别设有液压进、出口,该液压进、出口通过液压管线与一液压泵相连;工作台面的下端面设有一双轴水平传感器,该水平传感器与一处理器单元相连;处理器单元控制升降机构中的通孔打开,介质从升降机构中的活塞体组件上方流向其下方,使缸体向下运动,以降低相应上支腿的高度,或关闭通孔,启动液压泵,使介质通过液压管线从活塞体组件下方流向其上方,使缸体向上运动,以升高相应上支腿的高度,直至工作台面水平。

    具有活塞体组件的两级缓冲器的工作方法

    公开(公告)号:CN104879415A

    公开(公告)日:2015-09-02

    申请号:CN201510182542.X

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16F9/00

    CPC分类号: F16F9/00

    摘要: 本发明涉及一种具有活塞体组件的两级缓冲器的工作方法,包括:由首级缓冲器、和末级缓冲器构成;其分别包括:呈圆柱形缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动,且与所述缸体的内壁活动密封配合;其中,所述首级缓冲器的缸体构成所述末级缓冲器的活塞杆;所述首级缓冲器、末级缓冲器的活塞体组件的右端面上设有温度传感器,该温度传感器包括适于检测介质温度的温度传感器,该温度传感器与一处理器模块相连;所述两级缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块,所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度。

    可温度保护的两级缓冲器

    公开(公告)号:CN104864020A

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201510158288.X

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16F9/32 F16F9/42

    摘要: 本发明涉及一种可温度保护的两级缓冲器,包括:由首级缓冲器、和末级缓冲器构成;其分别包括:呈圆形筒体缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内做活塞运动,且与所述缸体的内壁活动密封配合;其中,所述首级缓冲器的缸体构成所述末级缓冲器的活塞杆;所述首级缓冲器、末级缓冲器的活塞体组件的右端面上设有温度传感器,该温度传感器包括适于检测介质温度的温度传感器,该温度传感器与一PLC相连;所述两级缓冲器的外筒壁上设有数码管,所述PLC适于通过数码管显示介质温度。

    一种适于吸合冲击过程中滑块的缓冲器的工作方法

    公开(公告)号:CN104832590A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510161363.8

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16F13/00

    CPC分类号: F16F9/32 F16F9/512

    摘要: 本发明涉及一种适于吸合冲击过程中滑块的缓冲器的工作方法,该缓冲器包括:缸体,并将开口封闭的缸盖,缸盖的中心轴线处设有中心通孔;由一活塞杆穿过该中心通孔,且该活塞杆顶端设有活塞体组件,活塞杆的末端连接于外筒左侧端部;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中绕设有电磁线圈,活塞体组件右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击所述缸体的右端面时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使电磁线圈产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。

    以弹性胶体为缓冲介质的两级缓冲器

    公开(公告)号:CN104776147A

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201510157454.4

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16F9/30 F16F9/32

    CPC分类号: F16F9/30 F16F9/3214

    摘要: 本发明涉及一种以弹性胶体为缓冲介质的两级缓冲器,包括:由首级缓冲器、和末级缓冲器构成;其分别包括:呈圆柱形缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,所述缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动,且与所述缸体的内壁活动密封配合;其中,所述首级缓冲器的缸体构成所述末级缓冲器的活塞杆;所述首级缓冲器、末级缓冲器的活塞体组件的右端面上设有传感器组,该传感器组包括适于检测介质温度的温度传感器,该温度传感器与一处理器模块相连;所述两级缓冲器的外筒壁上设有液晶显示模块,所述处理器模块适于通过液晶显示模块显示介质温度。

    一种适于吸合冲击过程中的滑块的缓冲器

    公开(公告)号:CN103291808B

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201310256047.X

    申请日:2013-06-25

    IPC分类号: F16F9/18 F16F9/32 F16F9/512

    摘要: 本发明涉及一种适于吸合冲击过程中的滑块的缓冲器,包括:缸体,在该缸体的开口端密封设有缸盖,缸盖的中心通孔中密封活动配合有一活塞杆,该活塞杆的右端设有活塞体组件,该活塞体组件适于在所述缸体内作活塞运动;在缓冲工作时,缸体的右端面作为与滑块相碰撞的接触面;缸体的侧壁中绕设有电磁线圈,活塞体组件右端面上设有用于检测介质压力的压力传感器,该压力传感器与一处理器模块相连;当滑块撞击所述缸体的右端面时,处理器模块适于根据介质压力值,控制一电流驱动模块输出与该介质压力值相匹配的电流,使电磁线圈产生相应的磁场,以吸合所述滑块;直至处理器模块测得介质压力值为均衡值时,控制电流驱动模块关闭输出电流,以释放滑块。