基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法

    公开(公告)号:CN112133800A

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN202010879621.7

    申请日:2020-08-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法,该高效发光二极管包括:衬底层(1);成核层(2),设置于所述衬底层(1)上;n型GaN层(3),设置于所述成核层(2)上;多量子阱层(4),设置于所述n型GaN层(3)上,所述多量子阱层(4)包括若干AlxGa1‑xN阱层和若干AlyGa1‑yN垒层,且所述若干AlxGa1‑xN阱层和所述若干AlyGa1‑yN垒层依次交替层叠设置于所述n型GaN层(3)上;电子阻挡层(5),设置于所述多量子阱层(4)上;P型ScmAl1‑mN层(6),设置于所述电子阻挡层(5)上;若干电极(7),所述若干电极(7)分别设置于所述P型ScmAl1‑mN层(6)上和所述n型GaN层(3)上。本发明的发光二极管由于P型层采用ScAlN材料,提高了p型层的空穴浓度,从而提高了器件的发光效率。

    基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法

    公开(公告)号:CN112133800B

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202010879621.7

    申请日:2020-08-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于高温扩散形成p型ScAlN层的高效发光二极管及制备方法,该高效发光二极管包括:衬底层(1);成核层(2),设置于所述衬底层(1)上;n型GaN层(3),设置于所述成核层(2)上;多量子阱层(4),设置于所述n型GaN层(3)上,所述多量子阱层(4)包括若干AlxGa1‑xN阱层和若干AlyGa1‑yN垒层,且所述若干AlxGa1‑xN阱层和所述若干AlyGa1‑yN垒层依次交替层叠设置于所述n型GaN层(3)上;电子阻挡层(5),设置于所述多量子阱层(4)上;P型ScmAl1‑mN层(6),设置于所述电子阻挡层(5)上;若干电极(7),所述若干电极(7)分别设置于所述P型ScmAl1‑mN层(6)上和所述n型GaN层(3)上。本发明的发光二极管由于P型层采用ScAlN材料,提高了p型层的空穴浓度,从而提高了器件的发光效率。

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