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公开(公告)号:CN1636640B
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:CN200410101725.6
申请日:1997-03-27
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
IPC分类号: B08B3/08
CPC分类号: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要: 本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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公开(公告)号:CN105247642B
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201480031355.5
申请日:2014-11-10
申请人: 吉坤日矿日石金属株式会社 , 阿尔卑斯电气株式会社
摘要: 本发明的目的是提供一种银被覆材料,其即使作为在反复进行开关的条件下长期使用的开关的可动触点和/或固定触点使用,表面的银或银合金层也不会被削减,而且接触电阻也不会上升,耐磨性优异。一种银被覆材料,其在导电性基材上具有至少包含银或银合金的层来作为最表层,耐磨损试验中的被膜削减量小于40mg,并且初始的接触电阻和在特定的条件下进行滑动磨损试验后的接触电阻小于10mΩ。一种银被覆材料,是通过镀敷形成所述包含银或银合金层,并在200~500℃条件下热处理1~299秒钟而成的。
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公开(公告)号:CN105247642A
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201480031355.5
申请日:2014-11-10
申请人: 吉坤日矿日石金属株式会社 , 阿尔卑斯电气株式会社
摘要: 本发明的目的是提供一种银被覆材料,其即使作为在反复进行开关的条件下长期使用的开关的可动触点和/或固定触点使用,表面的银或银合金层也不会被削减,而且接触电阻也不会上升,耐磨性优异。一种银被覆材料,其在导电性基材上具有至少包含银或银合金的层来作为最表层,耐磨损试验中的被膜削减量小于40mg,并且初始的接触电阻和在特定的条件下进行滑动磨损试验后的接触电阻小于10mΩ。一种银被覆材料,是通过镀敷形成所述包含银或银合金层,并在200~500℃条件下热处理1~299秒钟而成的。
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公开(公告)号:CN1494955A
公开(公告)日:2004-05-12
申请号:CN02102822.2
申请日:1997-03-27
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
CPC分类号: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要: 本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含氢的水混合制成。这些含水清洁溶液中的每一种溶液都具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,选择相应的含水清洁溶液,利用一种形式的含水清洁溶液清洗既可清除多种污物。
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公开(公告)号:CN100413606C
公开(公告)日:2008-08-27
申请号:CN02102822.2
申请日:1997-03-27
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
IPC分类号: B08B3/08
CPC分类号: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要: 本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原酸性清洁溶液由酸性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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公开(公告)号:CN1822747A
公开(公告)日:2006-08-23
申请号:CN200610008522.1
申请日:2006-02-16
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社
发明人: 宫泽聪
CPC分类号: H01L23/49833 , H01L23/13 , H01L24/97 , H01L2224/16225 , H01L2224/97 , H01L2924/01006 , H01L2924/01018 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/14 , H05K1/141 , H05K1/182 , H05K3/0052 , H05K3/366 , H05K3/403 , H05K2201/048 , H05K2201/09145 , H05K2201/10446 , H01L2924/00 , H01L2224/81
摘要: 本发明提供立体电路模块及其制造方法,可正确并且容易地实现被安装的电子部件的角度。作为立体电路模块(1),具有第2基板(3)相对于第1基板(2)以规定的角度被接合的立体结构,第1基板(2)具有在作为接合面(S1)一侧的端面上形成的第1切口凹部(6)、以及在该第1切口凹部(6)的深度方向的端面上形成的第2切口凹部(7),第2基板(3)具有在与第1基板(2)的接合面(S1)相对置一侧的面安装的电子部件(4z),在电子部件(4z)被配置在第2切口凹部(7)内的状态下,将第2基板(3)结合在第1切口凹部(6)中。
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公开(公告)号:CN1773164B
公开(公告)日:2010-05-05
申请号:CN200510116293.0
申请日:2005-11-07
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社
IPC分类号: F21S8/10 , B60Q3/00 , B60Q1/00 , B44C1/165 , B41F16/00 , F21Y101/02 , F21W101/08
CPC分类号: H01L33/486 , B60Q3/74 , B60Q3/76 , B60Q3/82 , F21K9/00 , H01L25/0753 , H01L33/60 , H01L2224/16
摘要: 本发明提供一种低价并且薄形的照明装置,以及提供一种容易地并且低价地制造所述照明装置的方法。关于照明装置的结构如下,具有:透镜(2),由树脂的成型体组成,并且一个表面上形成有LED的容纳部分(2a);容纳在容纳部分(2a)内的LED(3);覆盖在透镜(2)的容纳部分形成面(2a)上的布线部件(4),从LED(3)射出的照明光入射到透镜内。关于制造方法的构成如下,将具有导电部分(4a)的转印膜(12)设定在用于透镜成型的模具型腔(13)内,在透镜(2)的注射成型的同时在其单面上覆盖包括导电部分(4a)的布线部件。
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公开(公告)号:CN1773164A
公开(公告)日:2006-05-17
申请号:CN200510116293.0
申请日:2005-11-07
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社
IPC分类号: F21S8/10 , B60Q3/00 , B60Q1/00 , B44C1/165 , B41F16/00 , F21W101/08 , F21Y101/02
CPC分类号: H01L33/486 , B60Q3/74 , B60Q3/76 , B60Q3/82 , F21K9/00 , H01L25/0753 , H01L33/60 , H01L2224/16
摘要: 本发明提供一种低价并且薄形的照明装置,以及提供一种容易地并且低价地制造所述照明装置的方法。关于照明装置的结构如下,具有:透镜(2),由树脂的成型体组成,并且一个表面上形成有LED的容纳部分(2a);容纳在容纳部分(2a)内的LED(3);覆盖在透镜(2)的容纳部分形成面(2a)上的布线部件(4),从LED(3)射出的照明光入射到透镜内。关于制造方法的构成如下,将具有导电部分(4a)的转印膜(12)设定在用于透镜成型的模具型腔(13)内,在透镜(2)的注射成型的同时在其单面上覆盖包括导电部分(4a)的布线部件。
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公开(公告)号:CN1636640A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410101725.6
申请日:1997-03-27
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
IPC分类号: B08B3/08
CPC分类号: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要: 本发明涉及一种清洁方法,即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中,粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水还原碱性清洁溶液由碱性溶液与含氢的水混合制成。这种含水清洁溶液具有有效的清洁能力,其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,利用含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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公开(公告)号:CN1148267C
公开(公告)日:2004-05-05
申请号:CN97101959.2
申请日:1997-03-27
申请人: 阿尔卑斯电气株式会社 , 奥璐佳瑙股份有限公司
CPC分类号: H01L21/67057 , B01F3/04985 , C02F1/008 , C02F1/32 , C02F1/461 , C02F1/70 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C11D3/0042 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , G02F1/1333 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要: 含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含氢的水混合制成。这些含水清洁溶液中的每一种溶液都具有有效的清洁能力,其氧化还原电位(ORP)和pH值可以单独控制。因此,根据在每一制造工序过程中,粘附在物体上的污物的形式,选择相应的含水清洁溶液,利用一种形式的含水清洁溶液清洗即可清除多种污物。
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