-
公开(公告)号：CN106632921A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201610915095.9
申请日：2016-10-20
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
IPC分类号： C08F293/00 , C08F226/06 , G03F7/004
摘要： 嵌段共聚物包含有包含交替共聚物的第一嵌段，和包含有包含氢受体的单元的第二嵌段。嵌段共聚物在图案收缩组合物和半导体装置制造方法中具有特定用途，用于提供高分辨率图案。
-
公开(公告)号：CN106249540A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610383259.8
申请日：2016-06-01
申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料有限责任公司
CPC分类号： G03F7/405 , C08F293/00 , C09D153/00 , G03F7/002 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/165 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/0274 , G03F7/0035 , G03F7/004 , G03F7/09
摘要： 本发明涉及图案处理方法，其包含：(a)提供半导体衬底，其在其表面上包含图案化特征；(b)向图案化特征施用图案处理组合物，其中所述图案处理组合物包含嵌段共聚物和溶剂，其中所述嵌段共聚物包含第一嵌段和第二嵌段，其中所述第一嵌段包含由第一单体形成的单元，所述第一单体包含烯系不饱和可聚合基团和氢受体基团，其中氢受体基团是含氮基团，并且第二嵌段包含由第二单体形成的单元，所述第二单体包含烯系不饱和可聚合基团和环状脂肪族基团；以及(c)将残余图案处理组合物从衬底洗去，留下结合到图案化特征的嵌段共聚物部分。所述方法尤其适用于制造提供高分辨率图案的半导体装置。
-
公开(公告)号：CN106249539A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610380663.X
申请日：2016-06-01
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
CPC分类号： G03F7/165 , C08F293/00 , C09D153/00 , G03F7/002 , G03F7/0397 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , G03F7/0035 , G03F7/004 , G03F7/09
摘要： 本发明涉及图案处理方法，其包含：(a)提供半导体衬底，其在其表面上包含图案化特征；(b)向图案化特征施用图案处理组合物，其中所述图案处理组合物包含嵌段共聚物和溶剂，其中所述嵌段共聚物包含第一嵌段和第二嵌段，其中所述第一嵌段包含由第一单体形成的单元，所述第一单体包含烯系不饱和可聚合基团和氢受体基团，其中氢受体基团是含氮基团，并且第二嵌段包含由第二单体形成的单元，所述第二单体包含烯系不饱和可聚合基团和芳族基，其限制条件是第二单体不是苯乙烯；以及(c)将残余图案处理组合物从衬底洗去，留下结合到图案化特征的嵌段共聚物部分。所述方法尤其适用于制造提供高分辨率图案的半导体装置。
-
公开(公告)号：CN106632921B
公开(公告)日：2019-08-20
申请号：CN201610915095.9
申请日：2016-10-20
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
IPC分类号： C08F293/00 , C08F226/06 , G03F7/004
摘要： 嵌段共聚物包含有包含交替共聚物的第一嵌段，和包含有包含氢受体的单元的第二嵌段。嵌段共聚物在图案收缩组合物和半导体装置制造方法中具有特定用途，用于提供高分辨率图案。
-
公开(公告)号：CN106243514B
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201610384024.0
申请日：2016-06-01
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
摘要： 本申请提供一种包含嵌段共聚物和有机溶剂的图案处理组合物。还提供使用所描述的组合物的图案处理方法。所述图案处理组合物和方法在半导体装置制造中发现特定可应用性，用于提供高分辨率图案。
-
公开(公告)号：CN106243514A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610384024.0
申请日：2016-06-01
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
CPC分类号： G03F7/11 , C08F293/00 , C09D153/00 , G03F7/002 , G03F7/0397 , G03F7/165 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , C08L23/142 , C08F297/08 , C08F297/083 , C08L23/0815 , C08L23/14 , C08L23/16 , C08L53/00 , G03F1/76
摘要： 本申请提供一种包含嵌段共聚物和有机溶剂的图案处理组合物。还提供使用所描述的组合物的图案处理方法。所述图案处理组合物和方法在半导体装置制造中发现特定可应用性，用于提供高分辨率图案。
-
公开(公告)号：CN108017971A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201711011964.6
申请日：2017-10-26
申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
IPC分类号： C09D133/10 , C09D7/65 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/11 , C08F20/34 , C08F222/40 , C08L33/16 , C08L2205/025 , C09D133/08 , C09D133/10 , C09D133/16 , G03F7/0002 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/327 , H01L21/0274
摘要： 一种面漆组合物，包含：基质聚合物；表面活性聚合物，包含由以下通式(I)的单体形成的聚合单元：其中：R1表示H、F、甲基或氟化甲基；R2表示任选经取代的C1到C8亚烷基或任选经取代的C1到C8氟亚烷基，任选地包含一个或多个杂原子；R3表示H、F、任选经取代的C1到C10烷基或任选经取代的C5到C15芳基，任选地包含一个或多个杂原子；R4表示任选经取代的C1到C8烷基、任选经取代的C1到C8氟烷基或任选经取代的C5到C15芳基，任选地包含一个或多个杂原子；X表示O、S或NR5，其中R5选自氢和任选经取代的C1到C5烷基；并且a是0或1；以及溶剂。还提供利用所述面漆组合物的经涂布衬底和图案形成方法。本发明特别适用于光刻工艺中作为光致抗蚀剂面漆层来制造半导体装置。
-
-
-
-
-
-
搜索结果
7 条记录 (耗时 0.055 秒)
