壳体及其制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102843888A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201110169416.2

    申请日:2011-06-22

    摘要: 一种壳体,包括铝或铝合金基体及形成于该铝或铝合金基体表面的阳极氧化层,所述壳体还包括形成于该阳极氧化层表面的硬质层,所述硬质层包括依次形成于阳极氧化层表面的铝层、氮氧化铝层及氧化硅层。另,本发明还提供了一种壳体的制备方法,包括以下步骤:提供铝或铝合金基体;于该铝或铝合金基体上形成阳极氧化层;于该阳极氧化层上磁控溅射硬质层,所述硬质层包括依次形成于该阳极氧化层表面的铝层、氮氧化铝层及氧化硅层。本发明的优点在于通过磁控溅射的方法在铝或铝合金基体上形成阳极氧化层,之后,在该阳极氧化层上再通过磁控溅射形成层硬质膜,解决了阳极氧化层硬度不足的问题。