公开(公告)号：CN114342564A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080062427.8

申请日：2020-09-04

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·J·H·薛乐肯 ,  D·奥德怀尔 ,  林楠 ,  G·J·H·布鲁塞尔

IPC分类号： H05G2/00

摘要： 一种用于生成高次谐波辐射的高次谐波生成组件和方法。所述组件包括空腔，被配置为接收输入辐射，并且增加所述空腔内的所述输入辐射的所述强度，以形成适合用于高次谐波生成的驱动辐射。所述组件还包括：所述空腔内的相互作用区域，在使用中，所述相互作用区域存在介质，所述介质被配置为当所述驱动辐射被入射到其上时通过高次谐波生成来生成谐波辐射；以及光学组件，被配置为引导所述驱动辐射穿过所述相互作用区域，并且包括输出耦合器，所述输出耦合器包括孔径，通过所述孔径所生成的谐波辐射的至少一部分能够离开所述空腔。所述光学组件还被配置为在所述驱动辐射穿过所述相互作用区域之前将所述驱动辐射整形为会聚的中空束。

公开(公告)号：CN109690410B

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN201780055481.8

申请日：2017-08-21

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： N·库马尔 ,  A·J·H·薛乐肯 ,  S·T·范德波斯特 ,  F·兹杰普 ,  W·M·J·M·科内 ,  P·D·范福尔斯特 ,  D·阿克布鲁特 ,  S·罗伊

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮廓。轮廓被用来导出用于减轻重影反射影响的校正。使用例如不同取向的半月形照射轮廓，该方法甚至在SIL将引起全内反射的情况下也可以测量重影反射。光学系统可以包括污染物检测系统，以基于所接收的散射检测辐射来控制移动。光学系统可以包括具有介电涂层的光学组件，以增强渐逝波相互作用。

公开(公告)号：CN109690410A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780055481.8

申请日：2017-08-21

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： N·库马尔 ,  A·J·H·薛乐肯 ,  S·T·范德波斯特 ,  F·兹杰普 ,  W·M·J·M·科内 ,  P·D·范福尔斯特 ,  D·阿克布鲁特 ,  S·罗伊

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 光学系统传送照射辐射并收集在与衬底上的目标结构的相互作用之后的辐射。测量强度轮廓被用来计算结构的性质的测量。光学系统可以包括固体浸没透镜。在校准方法中，控制光学系统以使用第一照射轮廓来获得第一强度轮廓，并使用第二照射轮廓来获得第二强度轮廓。轮廓被用来导出用于减轻重影反射影响的校正。使用例如不同取向的半月形照射轮廓，该方法甚至在SIL将引起全内反射的情况下也可以测量重影反射。光学系统可以包括污染物检测系统，以基于所接收的散射检测辐射来控制移动。光学系统可以包括具有介电涂层的光学组件，以增强渐逝波相互作用。